专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于加工产品单元的切割装置-CN201880037892.9有效
  • 凯撒·卡拉斯科 - AO沙理诺克斯公司
  • 2018-06-01 - 2022-03-08 - B26D3/30
  • 根据本发明,传送装置(5)包括与刀片(11)相关联的至少一个两部分的传送通道(51A;51B),其中,在一侧导向第一传送元件(511A、512A),且在另一侧导向第二传送元件(511B、512B),第一传送元件(511A、512A)和第二传送元件(511B、512B)彼此成对分配,且均有凹部(5180)以用于部分地接收分离的产品单元(8)。第一传送元件(511A、512A)和第二传送元件(511B、512B)的彼此相对的侧面在两者之间界定自由的工作空间(500),使得刀片(11)在工作空间(500)内是可导向的而部分地或全部地通过在彼此对应的第一传送元件(511A、512A)和第二传送元件(511B、512B)中保持的产品单元(8)。
  • 用于加工产品单元切割装置
  • [发明专利]磁控溅射源和涂覆系统布置-CN201880086676.3有效
  • O·祖格 - 欧瑞康表面解决方案普费菲孔股份公司
  • 2018-11-19 - 2023-08-18 - H01J37/34
  • 一种用于涂覆基板(2)的磁控溅射源(1),所述溅射源(1)包括:在前侧处具有靶表面的靶(5);在所述靶(5)的背侧处的磁控布置(511、512),用于在所述靶表面附近产生磁场,以在所述靶表面处在内部磁体组件(512)和外部磁体组件(511)之间限定环状侵蚀区(20),其中所述侵蚀区(20)包括带有具有距离(D)的两个平行轨道(26)的中间区段、和两个弯曲的端部环形区段(27),所述端部环形区段中的每一个连接所述平行轨道(26)的相邻端部并且在所述距离(D)的方向上具有环形宽度(W),所述环形宽度大于所述距离(D),从而导致所述侵蚀区的双T形初级几何形状,以提供从所述端部环形区段(27)到所述基板的增加的涂覆材料通量。
  • 磁控溅射系统布置

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