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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]工艺腔室-CN202111298473.0有效
发明人：鲁艳成 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2021-11-04 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种工艺腔室，包括腔体和腔体中的基座，基座包括基座本体和基座本体底部的支撑柱，腔体的底部形成有固定通孔，支撑柱的底端固定设置在固定通孔中，且支撑柱内部的容纳孔通过固定通孔与工艺腔室的外部连通。在本发明中，支撑柱的底端受向下的预紧力，使定位盘通过环形隔热件与定位槽的底面相抵，在固定基座的同时，降低了基座向腔体传热的效率，降低了基座的热负载，并提高了腔室温度场的稳定性。
工艺

[发明专利]反应腔室-CN201910706810.1有效
发明人：邓晓军 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括腔体、设置在腔体内的基座，还包括进气装置，该进气装置包括与所述基座的承载面相垂直的出气面，出气面上设置有中心出气口组、中间出气口组和边缘出气口组；其中，中心出气口组、中间出气口组和所述边缘出气口组分别与基座的中心区域
反应

[发明专利]反应腔室-CN201810563223.7有效
发明人：杨帅;董金卫;杨慧萍 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-06-04 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供的反应腔室，包括：腔体，在所述腔体中设置有通孔；进气管，通过所述通孔延伸至所述腔体内；第一限位结构，设置在所述腔体的内侧；第二限位结构，设置在所述进气管上，且与所述第一限位结构相配合，以限制所述进气管的轴向旋转和径向平移本发明提供的反应腔室，其可以使进气管的固定稳定，从而可以提高反应气体在反应腔室内分布的均匀性，且不易破坏进气管。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201810876538.7有效
发明人：董金卫 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，包括腔体和设置在腔体底部的底板，还包括保护结构，保护结构位于腔体与底板的对接处的内侧，用于将底板与腔体的内部隔离；并且，腔体的底壁、保护结构朝向腔体的内周壁的表面与底板朝向腔体内部的表面环绕形成隔离空间，可通过向隔离空间中通入保护气体，来阻挡反应腔室中的腐蚀性气体接触底板。本发明提供的反应腔室能够防止腐蚀性气体腐蚀金属盘，从而避免反应腔室中的晶圆受到腐蚀物的污染。
反应

[发明专利]清洗腔室-CN202111401304.5有效
发明人：梁家齐;赵宏宇;张敬博;王延广 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： B08B15/02 文献下载
摘要：本发明公开一种清洗腔室，包括腔室本体(100)、排风箱体(200)、调节机构(300)和排液装置；所述排风箱体(200)位于所述腔室本体(100)之外，且所述排风箱体(200)与所述腔室本体(100)相连通上述方案能够解决清洗腔室的清洗效果较差的问题。
清洗

[发明专利]腔室构造-CN201980023951.1有效
发明人：濑上祐介 -专利权人：平田机工株式会社
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供搬送机器人的设置、拆卸等维护作业性优异的腔室构造。在设置于搬送腔室(1)的搬送室(11)的底部(13)的开口部经由机器人基座部件(20)安装搬送机器人(3)的腔室构造，在所述开口部的下侧设置有机器人基座部件(20)，搬送机器人(3)具有基座单元(31)
构造

[发明专利]输送腔室-CN201811332443.5有效
发明人：巢山大辅;吉田裕贵;田边广太;天野洋一;山田洋平;末木英人 -专利权人：平田机工株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-11-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种能检测内部是否实际有人的输送腔室。输送腔室(1A)具有：腔室主体部(11)，内部设置有输送基板的输送装置；以及腔室侧部(12a、12b)，与腔室主体部(11)一起形成内部空间，其中，输送腔室(1A)在其上部具有开口部(24)，在开口部(
输送

[发明专利]反应腔室-CN201811377854.6有效
发明人：王晓飞;袁正 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-11-19 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：一种反应腔室，包括反应石英管(22)、衬管(25)和进气弥散管(28)；其中，衬管(25)设于反应石英管(22)内，用于容纳硅片(27)，进气弥散管(28)通过设于衬管(25)端部的进气孔(251)插设于衬管该反应腔室有利于工艺气体在衬管内均匀分布，提高衬管内部的工艺均匀性。
反应

[发明专利]反应腔室-CN202010161690.4有效
发明人：何中凯;荣延栋 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种反应腔室，包括：腔体和设置在腔体内的基座，基座包括用于承载基片的承载部和环绕承载部的边缘部，承载部的上表面的高度大于边缘部的上表面的高度，其中，反应腔室还包括：第一挡环，所述第一挡环设置在所述边缘部的上表面且环绕所述承载部设置
反应

[发明专利]工艺腔室-CN202210935597.3有效
发明人：蒋秉轩;陈吉;兰玥 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请公开一种工艺腔室，属于半导体加工技术领域。所公开的工艺腔室用于半导体工艺设备，所述工艺腔室包括腔室本体、承载装置、靶材、准直器和驱动装置，所述承载装置设置于所述腔室本体内且用于承载待加工的晶圆，所述靶材设置于所述腔室本体的顶部，所述准直器设置于所述承载装置与所述靶材之间且与所述靶材相对设置，所述驱动装置与所述准直器相连，所述驱动装置可驱动所述准直器沿靠近或远离所述靶材的方向运动。
工艺

[发明专利]反应腔室-CN202210790450.X有效
发明人：田西强;王冲;王磊 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2022-07-06 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，其包括腔体和设置在腔体中的基座，该基座具有承载待加工晶圆的承载部，以及环绕承载部设置的台阶部；沉积环具有与台阶部相搭接的搭接部，以及沿沉积环的轴向延伸的延伸部；延伸部内设置有冷却组件
反应

[发明专利]反应腔室-CN201310333067.2无效
发明人：谭华强;黄允文;乔徽;林翔;苏育家 -专利权人：光垒光电科技（上海）有限公司
申请日： 2013-08-01 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种反应腔室，包括：反应室、喷淋头、托盘、抽气装置和限流环；其中，所述喷淋头、托盘、抽气装置和限流环均设置于所述反应室的内部；所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘之间形成气流在本发明提供的反应腔室中，在托盘的周围增设了限流环，以降低托盘边缘区域的气流流速，从而提高了气流分布的均匀性，进一步使得CVD沉积的均匀性得以提高。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201210580772.8无效
发明人：黄允文;李王俊 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-12-26 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供了一种反应腔室，所述反应腔室包括：腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器在本发明提供的反应腔室中，所述旋转结构不易损坏、使用寿命较长，从而能够降低设备维护投入。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201210592831.3无效
发明人：梁秉文 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-12-29 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应腔室。所述反应腔室包括腔体、设置在所述腔体顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部且与所述喷淋头相对设置的托盘，所述托盘下方具有加热器。所述反应腔室还包括保温结构，所述保温结构环绕在所述托盘周围。
反应

[发明专利]反应腔室-CN201310147790.1无效
发明人：苏育家 -专利权人：光垒光电科技（上海）有限公司
申请日： 2013-04-25 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种反应腔室，所述反应腔室包括反应室；托盘，设置于所述反应室内；喷淋头，设置于所述反应室内，并位于所述托盘的上方；所述喷淋头与所述托盘上表面之间的距离为15mm～100mm，所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘上表面之间形成气流所述反应腔室增加了所述喷淋头与所述托盘上表面之间的距离，避免反应气体在所述喷淋头表面结合而形成颗粒物质，从而提高反应腔室内工艺反应良率；并且所述气流调整部件可以控制所述气流以垂直或倾斜方向为所述托盘供气
反应

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