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[发明专利]触控电路的透明基板双面导电膜的制法-CN200810089058.2有效
发明人：周祎平 -专利权人：宸鸿光电科技股份有限公司
申请日： 2008-04-15 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明公开一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法，包含在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层，并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层；对该第一光阻层进行曝光，促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具可供识别颜色的电路图形；利用第一次暴光的电路图形作为第二光阻层的曝光的对位基准，并对该第二光阻层进行曝光；对该透明基板双面进行显影及蚀刻，促使该第一导电基材层形成一触控电路的一第一导电膜，且该第二导电基材层形成该触控电路的一第二导电膜，据以简化触控电路的布设程序，进而具备缩减工时与降低成本的优点。
电路透明双面导电制法

[发明专利]刻蚀栅极的方法-CN201010130254.7有效
发明人：王新鹏;黄怡;孟晓莹;沈满华 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2010-03-11 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种刻蚀栅极的方法，该方法包括：在半导体衬底上依次形成栅氧化层、多晶硅层、接触氧化层、底部抗反射层和光阻胶；曝光显影图案化所述光阻胶，定义栅极的位置；以图案化的光阻胶为掩膜，采用溴化氢HBr和氯气Cl2相结合干法刻蚀所述底部抗反射层；以刻蚀后的光阻胶和底部抗反射层为掩膜，依次刻蚀接触氧化层和多晶硅层，形成栅极。
刻蚀栅极方法

[发明专利]一种高阻光高阻隔热缩性聚酯膜及其制备方法与应用-CN202010326753.7有效
发明人：尹化洁;曾科;邓玉明 -专利权人：内蒙古伊利实业集团股份有限公司
申请日： 2020-04-23 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： B65D65/40 文献下载
摘要：本发明提供一种高阻光高阻隔热缩性聚酯膜及其制备方法与应用。该聚酯膜至少包括A层改性聚酯层和B层金属层，A层改性聚酯层至少包括b层遮光功能层；b层遮光功能层的原料组成包括阻光材料和树脂b，树脂b包括改性聚对苯二甲酸乙二醇酯b，改性聚对苯二甲酸乙二醇酯b使用的改性剂包括酸和醇中的至少之一上述聚酯膜可直接或经图案印刷后，在60‑150℃条件下，收缩后包覆于容器表面，达到阻光及阻湿阻氧效果，有效阻止紫外线，红外线和可见光的透过，阻隔氧气和水蒸气的渗入，满足饮品包装对遮光及阻湿阻氧的需求的同时满足包装对美观的需求
一种高阻光高阻隔热缩性聚酯及其制备方法应用

[发明专利]半导体结构及其制备方法-CN202210267693.5在审
发明人：武羽;王士欣 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：该制备方法包括：在一衬底上形成掩膜材料层；在掩膜材料层的表面形成光阻层，光阻层包括多个间隔分布的开口，开口露出掩膜材料层；形成覆盖开口的侧壁的参考掩膜层，参考掩膜层包括第一掩膜层和第二掩膜层，第一掩膜层位于第二掩膜层和开口的侧壁之间；第一掩膜层和第二掩膜层的蚀刻速率不同；去除光阻层；对第一掩膜层、第二掩膜层和掩膜材料层进行选择性蚀刻，以在掩膜材料层中形成多个等间距分布且凹陷深度均相等的凹部。
半导体结构及其制备方法

[发明专利]一种显示屏膜层结构、移动终端及膜层结构的制造方法-CN202110922515.7在审
发明人：程立技;赵允国 -专利权人：惠州TCL云创科技有限公司
申请日： 2021-08-12 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明涉及显示屏膜层制作领域，具体是涉及一种显示屏膜层结构、移动终端及膜层结构的制造方法。膜层结构包括由颜色胶片和色阻材料构成的组合膜层以及由氮氧化硅层、有机封装层和氮化硅层构成的封装膜，组合膜层位于所述封装膜的内部。无论是将由颜色胶片和色阻材料构成的组合膜层设置在封装膜外侧还是内侧，都会导致由组合膜层和封装膜构成的膜层结构降低显示屏的出光范围。本发明将由颜色胶片和色阻材料构成的组合膜层设置在封装膜的内部，能够增大显示屏的膜层结构出光范围，增大出光范围就能降低膜层结构对亮度的衰减程度，从而提高了显示屏的亮度，进而减小因亮度变小而导致的色偏程度，
一种显示屏结构移动终端制造方法

[发明专利]镍合金导光板模仁-CN201210023749.9无效
发明人：黎杰;周涛;李真明;黎盼;余文龙 -专利权人：昆山美微电子科技有限公司
申请日： 2012-02-03 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明涉及显示器背光模组的导光板领域，尤其涉及一种用LIGA技术制造的镍合金导光板模仁，包括基板、涂布于基板的光阻膜和电铸沉积于光阻膜表面及四周的电铸镍层，光阻膜设有光阻膜图案，电铸镍层上设有多个均匀微孔；光阻膜图案与微孔的形状一致。技术制造的镍合金导光板模仁，制造出的导光板具高辉度及高均匀度、表面粗糙度佳、可制作精微三维结构、生产周期快速；利用光罩设计，可以设计不同图样，制作出不同微结构的微凹镜（如椭圆、长扇形等任意形状），进而得到不同的导光效果
镍合金导光板

[实用新型]镍合金导光板模仁-CN201220034177.X有效
发明人：黎杰;周涛;李真明;黎盼;余文龙 -专利权人：昆山美微电子科技有限公司
申请日： 2012-02-03 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本实用新型涉及显示器背光模组的导光板领域，尤其涉及一种用LIGA技术制造的镍合金导光板模仁，包括基板、涂布于基板的光阻膜和电铸沉积于光阻膜表面及四周的电铸镍层，光阻膜设有光阻膜图案，电铸镍层上设有多个均匀微孔；光阻膜图案与微孔的形状一致。技术制造的镍合金导光板模仁，制造出的导光板具高辉度及高均匀度、表面粗糙度佳、可制作精微三维结构、生产周期快速；利用光罩设计，可以设计不同图样，制作出不同微结构的微凹镜（如椭圆、长扇形等任意形状），进而得到不同的导光效果
镍合金导光板

[发明专利]具有双面导电凸块的封装基板及其制作方法-CN202210378965.9在审
发明人：张文猛;邱培修;李治綋 -专利权人：礼鼎半导体科技秦皇岛有限公司;礼鼎半导体科技（深圳）有限公司
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：本申请提供一种具有双面导电凸块的封装基板及其制作方法，该制作方法包括以下步骤：提供基板，包括基材层，基材层的相对两表面均叠设有至少一线路层和至少一保护层，每一保护层中均设有第一通孔，每一线路层均暴露于第一通孔；于保护层上设置光阻层；对光阻层进行曝光并显影，得到图形化光阻层，所述图形化光阻层中形成有第二通孔，第一通孔与第二通孔相连通；于第一通孔和第二通孔中填充焊膏；于图形化光阻层上形成覆盖膜，所述覆盖膜接触所述焊膏；加热熔融焊膏，冷却以形成导电凸块，所述导电凸块与线路层电性连接；移除覆盖膜和图形化光阻层，获得所述具有双面导电凸块的封装基板。
具有双面导电封装及其制作方法

[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶显示面板-CN201510314080.2在审
发明人：苏亮;董历伟;朱景河;黄伟东;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2015-06-09 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：一种彩膜基板，其包括衬底基板，以及在所述衬底基板上形成的显示区域和非显示区域，所述显示区域包括形成于所述衬底基板的黑色矩阵、设置于所述衬底基板上方且部分覆盖所述黑色矩阵的光阻层、覆盖所述黑色矩阵及所述光阻层且延伸至所述非显示区域的保护层、以及位于所述保护层上且分布于所述显示区域及非显示区域的多个隔垫物，所述光阻层延伸至所述非显示区域，且所述光阻层在所述非显示区连续分布。上述彩膜基板，通过在显示区域及非显示区域形成光阻层及隔垫物，可以消除彩膜基板中显示区域及非显示区域之间的断差，从而减弱或消除了液晶显示面板的摩擦痕，提高了显示质量。
彩膜基板及其制作方法液晶显示面板

[发明专利]一种显示面板的制备方法-CN202210647916.0在审
发明人：林钦遵 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本申请提供一种显示面板的制备方法，显示面板的制备方法包括以下步骤：提供一衬底基板，在衬底基板上形成钝化层；在钝化层背离衬底基板的一侧形成一图案化的光阻层；在光阻层背离钝化层的一侧形成一纳米颗粒层，其中，纳米颗粒层包括多个纳米级颗粒，且任意相邻的两个纳米级颗粒之间具有间隙；以纳米级颗粒为掩膜版，对光阻层进行干蚀刻，以形成包括多个纳米级光阻柱的光阻层。本申请提供的显示面板的制备方法中，由于显示面板中的光阻层包括多个纳米级光阻柱，从而能够使光阻层具有较高的比表面积，使得后续制程中光阻剥离液和光阻层具有较大的接触面积，优化光阻剥离的效果，缩短光阻剥离的时间
一种显示面板制备方法

[发明专利]一种ESL转BCE架构的TFT器件的制造工艺方法-CN202210640391.8在审
发明人：陈伟;潜垚 -专利权人：福建华佳彩有限公司
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：一种ESL转BCE架构的TFT器件的制造工艺方法，包括：依序在玻璃基板上形成金属栅极、栅极绝缘层；栅极绝缘层上沉积有源层；在有源层上表面涂布一层第一正型光阻，进行曝光显影制程，将未被光罩遮挡的第一正型光阻显影去除，并进行硬烤，去除PR内溶剂，完全硬化形成保护膜；Pattern出有源层SE；继续涂布一层第二正型光阻，进行DC制程曝光显影；显影掉被ES光罩光照到的第二正型光阻；采用干蚀刻方式蚀刻出DC孔；进行光阻剥膜制程，此时DC孔完全开孔，有源层未被蚀刻；Pattern出源漏极；沉积一层钝化绝缘层，形成TFT器件。本发明解决了现有的ESL转BCE架构遇到的有源层背沟道damage的制程问题。
一种 esl bce 架构 tft 器件制造工艺方法

[发明专利]台阶结构的形成方法-CN201710749908.6有效
发明人：吕震宇;陈俊;戴晓望;朱继锋;胡思平;姚兰;肖莉红;郑阿曼;鲍琨;杨号号 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2017-08-28 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： H01L27/11568 文献下载
摘要：所述方法包括：提供衬底，在衬底上形成叠层结构，在叠层结构上形成第一掩膜层；在第一掩膜层上旋涂光阻层，光阻层覆盖部分第一掩膜层；对光阻层进行多次修剪并作为掩膜，刻蚀第一掩膜层和叠层结构形成预设数量的单层台阶层后，去除光阻层，并采用光刻工艺形成其他台阶层得到台阶结构；形成覆盖层，覆盖层覆盖台阶结构并与台阶结构中顶层台阶的上表面齐平；去除剩余的第一掩膜层。本发明中，通过同一个掩膜层形成台阶结构中最上面的多个单层台阶层，其不仅提升了形成台阶结构过程中化学机械研磨的工艺裕度，而且降低了制作成本。
台阶结构形成方法

[发明专利]光罩及图案化方法-CN201711456939.9在审
发明人：尹易彪 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩及图案化方法，通过在光罩的光罩主体上设置用于聚光的透镜，并使所述透镜遮盖所述光罩主体上的透光区。由于所述透镜具有聚光作用，使得通过所述光罩形成光阻层时，透过所述透镜的光线能够倾斜的照射于形成所述光阻层的光阻材料层上，从而使得得到的所述光阻层的光阻区的斜面与所述基板的夹角相对于现有技术中减小，进而使得沉积于所述基板上的待图案化膜层与所述光阻层的斜面形成的空隙增大，使得剥离图案化的所述光阻层的剥离液会容易的渗入所述空隙中，进而容易的通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，从而提高所述光阻层从所述基板上剥离的效率。
光阻层光罩透镜基板图案化渗入光阻材料层图案化膜层剥离图案聚光作用斜面形成剥离液光阻区聚光的透光区沉积减小遮盖照射剥离

[发明专利]具有挠性结构外层的刚挠结合板的光阻膜避浸润工艺-CN201510250095.7有效
发明人：马卓;陈强;黄江波 -专利权人：信丰迅捷兴电路科技有限公司
申请日： 2015-05-15 - 公布日： 2018-03-02 - 主分类号： H05K3/46 文献下载
摘要：一种具有挠性结构外层的刚挠结合板的光阻膜避浸润工艺，包括步骤一，使用线路菲林在FCCL基材上制作对应线路图形；步骤二，在所需要贴附膜的动态区局部贴附覆盖膜，以使其局部被覆盖膜覆盖；步骤三，在已经局部贴附覆盖膜的一面整板贴合光阻膜；步骤四，在紫外线照射下利用挡光菲林片使光阻膜局部被紫外光照射而聚合，然后使用弱碱药水去除未曝光聚合的光阻膜区域；步骤五，次叠层排板，然后使用铆钉铆合固定并压合，然后钻孔、制作金属化孔和制作外层线路；步骤六，机械控深铣，其深度调试铣到光阻膜层即可；步骤七，使用氢氧化钠溶液去除剩余的光阻膜层。
具有结构外层结合光阻膜避浸润工艺

[发明专利]彩色滤光基板、液晶显示面板及液晶显示装置-CN201811574572.5有效
发明人：林旭林 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2018-12-21 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供一种彩色滤光基板，包括依次设置的衬底基板、第一有机层、色阻层、透明膜层、第二有机层和导电层；所述透明膜层中设置有孔洞。本发明提供一种彩色滤光基板，通过在RGB色阻层的上表面设置具有多孔微结构的透明膜层，通过选择合适的透明膜层的材料，使其折射率与有机层和色阻层的折射率相匹配，进而使得通过透明膜层的小角度入射光的等效折射率与色阻层的折射率相匹配，对其反射率较低，同时使得大角度入射光的等效折射率较小，通过全反射效应抑制大角度散射光，从而改善显示面板的对比度和穿透率。
彩色滤光液晶显示面板液晶显示装置