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[发明专利]改善通孔金属连接缺陷的方法-CN200610119157.1有效
发明人：洪中山 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-12-05 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种改善通孔金属连接缺陷的方法，包括下列步骤：在金属层上形成氧化硅层；在氧化硅层上形成图案化第一光阻层；以第一光阻层为掩膜，蚀刻氧化硅层至露出金属层，形成接触孔；去除第一光阻层；在氧化硅层形成抗反射层，且抗反射层填充满接触孔；在抗反射层上形成图案化第二光阻层；以第二光阻层为掩膜，蚀刻抗反射层和氧化硅层，形成开口宽度大于等于500nm的沟槽，与接触孔连通构成通孔；去除第二光阻层和抗反射层；在通孔内填充满金属
改善金属连接缺陷方法

[发明专利]显示面板的信号线制作方法-CN201610153934.8在审
发明人：姜祥卫 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2016-03-17 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：所述信号线制作方法是先于金属膜层上涂布光阻，经过曝光显影后，进一步通过灰化处理去除一定厚度的光阻层，进而一并去除对应曝光区域的残留光阻，以形成图案化的光阻层，之后再进行金属膜层的蚀刻，以形成信号线。
显示面板信号线制作方法

[发明专利]指纹传感器、其制造方法和包括指纹传感器的显示装置-CN202110517036.7在审
发明人：林载翊;金智慧;兪炳汉 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：该指纹传感器包括：感光层，具有其中感测电流响应于入射光流动的感光元件；以及导光层，设置在感光层上。导光层包括：第一透光膜，彼此分隔开；阻光膜，设置在第一透光膜之间；以及第二透光膜，设置在第一透光膜中的每个与阻光膜之间。
指纹传感器制造方法包括显示装置

[发明专利]应用于微影制程的结构及半导体元件的制造方法-CN200310110388.2有效
发明人：林顺利;林云珠;张文忠;李静怡 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-12-30 - 公布日： 2005-07-06 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：该应用于微影制程的结构，是依序由配置在一基底上的至少一膜层、一光线阻隔层、一抗反射层以及一光阻层所组成。在微影制程中，光线阻隔层可用以阻挡光线穿透至底下的膜层。在本发明中，因为光阻层的底下是配置有光线阻隔层，所以曝光的光线就无法穿透光阻层底下的膜层再由基底表面反射出。换言之，光阻层底下的膜层厚度的变化将不会影响微影制程的关键尺寸，从而更加适于实用。
应用于微影制程结构半导体元件制造方法

[发明专利]一种OLED显示面板的制备方法及OLED显示面板-CN202011215784.1在审
发明人：张乐陶;张良芬 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：所述制备方法包括下列步骤：在第一金属层上制备有机光阻层；采用半色调掩膜版对所述有机光阻层进行曝光显影处理，使所述有机光阻层形成对应像素电极图案的图案化有机光阻层；利用所述图案化有机光阻层，将所述第一金属层未被所述图案化有机光阻层遮蔽的部分刻蚀，形成像素电极；将所述图案化有机光阻层部分灰化，形成像素定义层；采用等离子体工艺处理所述像素定义层的表面以形成疏水层；在所述像素电极上且对应于所述像素定义层的开孔内采用喷墨打印工艺打印发光材料，形成有机发光层本发明将像素电极和像素定义层采用同一张半色调掩膜版制作，减少了黄光制程次数，节约了成本。
一种 oled 显示面板制备方法

[发明专利]使用集成阻光层和透镜的热电堆温度感测器的视场窄化-CN201610346159.8有效
发明人： S·巴尼特;C-W·裴;A·伊马迪;J·C·巴特 -专利权人：马克西姆综合产品公司
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： B81B7/00 文献下载
摘要：描述了感测器装置、感测器封装及用于制造感测器装置的方法，其包括设在热电堆装置上的集成的阻光器以及被配置为将光导向热电堆装置的透镜；在实施例中，热电堆装置包括：衬底；设于衬底上的热电堆膜，该热电堆膜包括至少一个钝化层；设在热电堆膜内的热电堆，该热电堆包括至少一个热电偶；以及邻近热电堆膜设置的阻光层，该阻光层包括邻近热电堆设置的光阑。
使用集成阻光层透镜热电温度感测器视场

[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置-CN201610204173.4在审
发明人：朱涛;陆相晚;袁慧芳;唐文浩;尹海斌;方群;陈建;董安鑫;钟国强 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明公开了一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置，通过将衬底基板的显示区域和周边区域中的黑矩阵设置成相同结构，当在显示区域制作不同颜色第一光阻层时，可以使显示区域与周边区域交界处以及显示区域其它区域中位于黑矩阵上的第一光阻层的材料的流动性统一，从而可以使显示区域中的第一光阻层的膜厚分布相同，进而可以提高彩膜基板的显示区域中第一光阻层的膜厚分布的均一性；由于周边区域设置有包括至少两层层叠设置的且颜色不同的第二光阻层的遮光部，可以起到周边区域的遮光作用；由于遮光部包括至少层叠设置的两层第二光阻层，可以增加周边区域的高度，从而可以代替现有的位于周边区域中的隔垫物起周边区域支撑作用。
一种彩膜基板制作方法液晶显示面板显示装置

[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置-CN201610019474.X无效
发明人：朱涛;陆相晚;袁慧芳;唐文浩;尹海斌;方群;陈建;董安鑫;钟国强 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2016-01-13 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明公开了一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置，通过将衬底基板的显示区域和周边区域中的黑矩阵设置成相同结构，当在显示区域制作不同颜色第一光阻层时，可以使显示区域与周边区域交界处以及显示区域其它区域中位于黑矩阵上的第一光阻层的材料的流动性统一，从而可以使显示区域中的第一光阻层的膜厚分布相同，进而可以提高彩膜基板的显示区域中第一光阻层的膜厚分布的均一性；由于周边区域设置有包括至少两层层叠设置的且颜色不同的第二光阻层的遮光部，可以起到周边区域的遮光作用；由于遮光部包括至少层叠设置的两层第二光阻层，可以增加周边区域的高度，从而可以代替现有的位于周边区域中的隔垫物起周边区域支撑作用。
一种彩膜基板制作方法液晶显示面板显示装置

[发明专利]显示面板及显示装置-CN202210316071.7在审
发明人：胡凯 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示面板及显示装置，显示面板包括衬底、像素定义层、发光层和彩膜层，彩膜层包括多个色阻，多个色阻至少包括不同颜色的第一色阻、第二色阻和第三色阻；其中，第一色阻包括第一子色阻和第二子色阻，第一子色阻在像素定义层上的正投影的边缘与对应的像素开口之间的距离大于第二色阻及第三色阻在像素定义层上的正投影的边缘与对应的像素开口之间的距离，第二子色阻位于第二色阻和第三色阻之间，有利于减少反射光的出光量，能够调整反射光的强度，使得外界光源照射的光线经过彩膜层射出的光线能够合并为白光，能够改善熄屏色偏问题，提高了一体黑效果。
显示面板显示装置

[发明专利]栅极制造方法-CN201010192407.0无效
发明人：沈满华;黄怡;孟晓莹 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2010-06-04 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明揭露了一种栅极制造方法，该栅极方法包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上依次形成栅极介质层和栅极导电层；在所述栅极导电层上形成图案化光阻层；在所述图案化光阻层表面形成聚合物层，所述图案化光阻层和所述聚合物层构成第一掩膜单元；以所述第一掩膜单元为掩膜，刻蚀所述栅极导电层和栅极介质层；去除所述第一掩膜单元，以形成栅极。
栅极制造方法

[发明专利]多层导电线路及其制作方法及显示模组-CN202111518337.8在审
发明人：孙晓辉;奚玉琳 -专利权人：深圳市华鼎星科技有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H05K3/46 文献下载
摘要：本发明提供了一种多层导电线路，包括：第一导电层，包括第一导电金属膜和第一绝缘光阻层，第一绝缘光阻层设有第一窗口，第一导电金属膜在第一窗口相对应的位置形成外露于第一窗口的第一导电部；以及第二导电层，包括第二导电金属膜和第二绝缘光阻层，第二绝缘光阻层设有第二窗口，第二导电金属膜在第二窗口相对应的位置设有开孔，以使得第二导电金属膜形成外露于第二窗口且环绕开孔设置的第二导电部，第二导电金属膜贴合于第一绝缘光阻层，第一窗口和第二窗口对应设置
多层导电线路及其制作方法显示模组

[实用新型]多层导电线路以及显示模组-CN202123124583.3有效
发明人：孙晓辉;奚玉琳 -专利权人：深圳市华鼎星科技有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H05K1/11 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种多层导电线路，包括：第一导电层，包括第一导电金属膜和第一绝缘光阻层，第一绝缘光阻层设有第一窗口，第一导电金属膜在第一窗口相对应的位置形成外露于第一窗口的第一导电部；以及第二导电层，包括第二导电金属膜和第二绝缘光阻层，第二绝缘光阻层设有第二窗口，第二导电金属膜在第二窗口相对应的位置设有开孔，以使得第二导电金属膜形成外露于第二窗口且环绕开孔设置的第二导电部，第二导电金属膜贴合于第一绝缘光阻层，第一窗口和第二窗口对应设置
多层导电线路以及显示模组

[发明专利]薄膜晶体管矩阵基板及显示面板的制造方法-CN201110176756.8无效
发明人：许哲豪;薛景峰;姚晓慧 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-06-28 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：此制造方法包括如下步骤：依序形成栅极、栅极绝缘层、半导体层、欧姆接触层、电极层及光阻层于所述透明基材上；利用多段式调整光掩膜来图案化光阻层；形成源电极及漏电极于沟道的相对两侧；加热光阻层；蚀刻所述半导体层；移除所述光阻层；形成保护层于所述沟道、所述源电极及所述漏电极上；以及形成像素电极层于所述保护层上，本发明可减少制程的光掩膜数，且仅需对金属进行一次湿蚀刻。
薄膜晶体管矩阵显示面板制造方法

[发明专利]一种薄膜晶体管基板及其制作方法和液晶显示器-CN201410201456.4有效
发明人：李金磊 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2014-05-13 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明适用于显示技术领域，提供了一种薄膜晶体管基板的制作方法：在基板表面上依次形成第一金属层、第一化学气相沉积膜层、第二金属层、以及第二化学气相沉积膜层；在第二化学气相沉积膜层上形成光阻；用光罩对所述光阻进行曝光和显影，光罩对应的位置为共享电容区域；对第二化学气相沉积膜层上的光阻被去除的过孔区域进行过孔蚀刻；对光阻进行灰化，去除所述共享电容区域的光阻；蚀刻共享电容区域的氮化硅层；形成一像素电极层。本发明让共享电容的两个金属电极间夹着的介质仅为氮化硅层，让共享电容的大小在金属电极极性变化时保持不变，可以改善画质，还可以节省液晶电视的背光电能损耗。
一种薄膜晶体管及其制作方法液晶显示器

[发明专利]制造半导体器件的方法-CN200810130773.6无效
发明人：李基领 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2008-07-17 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在执行掩模工序以后，在光阻图案的侧部与顶部上形成间隔物，使得所述间隔物可用作蚀刻掩模。在执行所述掩模工序以后使用聚合物沉积层来形成所述间隔物，所述聚合物沉积层是可以在75～220℃的温度条件下沉积在所述光阻图案的侧部及顶部上的低温氧化物或氮化物。所述方法包括：在蚀刻目标层上形成底部抗反射涂层膜；将形成于所述底部抗反射涂层膜上的光阻层图案化；在已图案化的光阻层以及所述底部抗反射涂层膜上形成绝缘层；对所述绝缘层进行回蚀，从而在所述已图案化的光阻层的侧壁上形成间隔物；以及蚀刻所述底部抗反射涂层膜及从所述间隔物露出的所述蚀刻目标层，从而形成精细图案。
制造半导体器件方法

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