专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种LAB值均衡的不锈钢材-CN202220717643.8有效
  • 刘国涛;赵虎 - 东莞市灿煜金属制品有限公司
  • 2022-03-30 - 2022-12-13 - B32B33/00
  • 本实用新型公开一种LAB值均衡的不锈钢材,包括有本体,该本体的下表面形成有下磨砂层,该下磨砂层的表面电镀形成有下层,该下层的表面成型有下调色层,该本体的上表面形成有上磨砂层,该上磨砂层的表面电镀形成有上层,该上层的表面成型有上调色层。通过在本体的上下表面分别形成上磨砂层和下磨砂层,并配合在上磨砂层和下磨砂层分别电镀形成上层和下层,层颜色均一,同时配合设置上调色层和下调色层,使得本产品的LAB值均衡,满足使用的需要
  • 一种lab均衡不锈钢材
  • [发明专利]一种氮化层的退方法-CN201310148848.4有效
  • 于宏兵;耿丽娟 - 南开大学
  • 2013-04-26 - 2013-07-10 - C23F1/30
  • 一种氮化层的退方法,采用物理与化学相结合的方法对氮化层进行退处理,处理过程包括物理处理和浸蚀处理,所述物理处理为将氮化层退件加热到一定温度后立即淬入冷水中,使其骤冷;所述浸蚀处理为将骤冷后的退件放入混合酸中加热进行浸蚀处理,最后将浸蚀处理后的退件冷却后用水冲洗即可去除其表面的氮化层。本发明的优点是:氮化层的退方法工艺简单、操作方便、易于实施,将镀膜次品以及不能继续使用镀膜辅件进行氮化层退,使其再次得到利用,可大大降低生产成本,具有较高的实用价值。
  • 一种氮化钛膜层方法
  • [发明专利]一种对于粉末压结类靶材焊接面的镍方法-CN202110530277.5有效
  • 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;滕俊 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2021-05-14 - 2023-04-07 - C23C14/02
  • 本发明涉及一种对于粉末压结类靶材焊接面的镍方法,所述镍方法包括:将表面处理后的粉末压结类靶材放入物理气相沉积炉内,采用靶对粉末压结类靶材焊接面依次进行PVD轰击处理、PVD处理,采用镍靶对的表面进行PVD处理,得到带有镍的粉末压结类靶材。本发明所述镍方法采用物理气相沉积依次在粉末压结类靶材焊接面上和镍,镍作为易浸润层,可以提高铟等焊料对于粉末压结类靶材焊接面的浸润性,作为隔绝层,可以防止透过镍的铟等焊料进一步渗透至粉末压结类靶材的溅射区域,从而避免发生磁控溅射得到的层纯度不达标的问题。
  • 一种对于粉末压结类靶材焊接方法
  • [发明专利]层及其制备方法、制备系统和钙矿电池-CN202210725083.5在审
  • 陈寇成;吴俊杰;邵君;于振瑞 - 无锡极电光能科技有限公司
  • 2022-06-23 - 2022-10-25 - H01L51/48
  • 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种钙层及其制备方法、制备系统和钙矿电池。钙层的制备方法,包括以下步骤:采用真空蒸的方式将蒸原料沉积在移动地钙矿基片的表面,形成第一层;在第一层的表面涂布有机盐的溶液或蒸所述有机盐,经过热处理,得到钙层;所述蒸原料采用线性蒸发源进行蒸;所述蒸原料包括第一原料,所述第一原料包括卤化铅。通过采用线性蒸发源制备第一原料骨架,骨架同时兼具适当的疏松多孔,大面积、均匀高的特点,然后采用有机盐的溶液渗透或者蒸有机盐,热处理后形成高质量钙矿薄膜;该方法可具有大面积均匀成,钙矿晶体纯度高且形貌可控
  • 钙钛矿膜层及其制备方法系统钙钛矿电池
  • [实用新型]一种蒸设备-CN202021521382.X有效
  • 乔小平 - 福建华佳彩有限公司
  • 2020-07-28 - 2021-04-02 - C23C14/54
  • 本实用新型涉及一种蒸设备,包括蒸装置、旋转机构、遮挡装置以及厚仪;所述旋转机构设置于所述蒸装置一侧,所述旋转机构与所述遮挡装置连接,所述厚仪设置于所述遮挡装置一侧;所述厚仪包括晶片,所述晶片设置于所述遮挡装置一侧;所述旋转机构用于旋转所述遮挡装置;所述蒸装置用于蒸材料;所述遮挡装置用于调节遮挡蒸材料蒸汽到晶片上的比例。本实用新型的蒸设备通过遮挡装置来调节遮挡蒸材料蒸汽到晶片上的比例,以适应不同蒸材料率的需求,从而延长晶片使用寿命,且实现对厚精确的控制。
  • 一种设备
  • [发明专利]真空蒸装置-CN201510607517.1有效
  • 田村博之 - 佳能特机株式会社
  • 2015-09-22 - 2019-08-23 - C23C14/24
  • 真空蒸装置。本发明提供一种具有石英振荡式厚计的优良的真空蒸装置,通过在一个蒸发源的石英振荡式厚计中使用预先形成了一定厚的从其余的其它蒸发源蒸发的有机材料的石英子,从而不必设置基底形成工序,也能够预先形成带一定厚的有机材料基底的多个石英子,并且,抑制了石英子的等效串联电阻的上升并实现了寿命延长。在真空蒸装置中,用于对一个蒸发源的厚和蒸速度进行控制的石英振荡式厚计的多个石英子(4)是预先在利用其余的其它蒸发源实施的蒸工序中在控制厚和蒸速度的同时在该多个石英子上形成了该有机材料的有机材料基底的带有机材料基底的石英
  • 真空装置

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