专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]优化装置优化方法和优化程序-CN202111582819.X在审
  • 岛田大地 - 富士通株式会社
  • 2021-12-22 - 2022-08-02 - G06F30/27
  • 本发明公开了优化装置优化方法和优化程序。装置包括存储器和一个或更多个处理器,所述一个或更多个处理器耦接至存储器并且被配置成执行以下操作:针对多个单目标函数中的每一个单目标函数执行基于退火的解搜索,以便获得通过解搜索产生的第一解,多个单目标函数各自通过在利用多个加权模式中的对应一个加权模式对多个目标函数进行加权之后将多个目标函数相加在一起而生成
  • 优化装置方法程序
  • [发明专利]优化装置优化方法、及优化程序-CN201110413829.0有效
  • 木原美怜;今成宏幸 - 东芝三菱电机产业系统株式会社
  • 2011-12-02 - 2013-04-03 - B21B37/00
  • 本发明的优化装置对轧制设备的控制进行优化,使得既确保轧材的产品质量,又使想要优化优化指标量最小。该优化装置包括:计算出轧制装置轧制轧材用的控制设定值的设定计算部;基于由设定计算部计算出的控制设定值、对经轧制装置轧制的轧材的材质进行预测的材质预测计算部;基于由设定计算部计算出的控制设定值、计算出对于轧制装置轧制轧材进行优化的指标的量以作为优化指标量的优化指标量计算部;以及优化部,该优化部使设定计算部计算出如下的控制设定值,该控制设定值使得在由材质预测计算部所预测的材质满足外部输入的要求材质的范围内,使由优化指标量计算部计算出的优化指标量最小。
  • 优化装置方法程序
  • [实用新型]一种可调节废气排放优化装置-CN201620761589.1有效
  • 陈森忠;何国辉;方耀光;叶子伦 - 陈森忠
  • 2016-07-19 - 2017-06-09 - F01N13/08
  • 本实用新型提供一种可调节废气排放优化装置,包括优化装置本体,所述优化装置本体包括优化装置A、优化装置B、优化装置C和优化装置D,所述优化装置A和所述优化装置B安装在空气滤清器和所述发动机之间的排气管内,所述优化装置B设置在优化装置A的一侧,所述发动机通过排气管与三元催化器连接,所述三元催化器通过排气管与消声器连接,所述消声器的数量为2个,两消声器之间通过排气管连接,所述优化装置C设置在三元催化器和所述消声器之间,所述优化装置D设置在两个消声器之间,该可调节废气排放优化装置设计新颖,具有较高的推广价值。
  • 一种调节废气排放优化装置
  • [发明专利]优化装置优化方法-CN202010542694.7在审
  • 田村泰孝;此岛真喜子 - 富士通株式会社
  • 2020-06-15 - 2020-12-18 - G06F30/20
  • 提供了优化装置优化方法。优化装置包括:状态保持单元,其保持在表示能量的评价函数中包括的多个状态变量的值以及针对状态变量的每个集合的权重值;能量变化计算单元,其在多个状态变量的任何值改变的情况下,基于多个状态变量的值和权重值计算在多个状态变量的值中的每个值被设置为下一变化候选时的能量变化值
  • 优化装置方法
  • [发明专利]优化装置优化方法-CN202111306343.7在审
  • 神田浩一 - 富士通株式会社
  • 2021-11-05 - 2022-06-03 - G06N10/20
  • 提供了优化装置优化方法。优化装置包括:搜索单元,其基于当在表示伊辛模型的能量的评估函数中包括的多个状态变量之一的值变化时的能量的变化量来搜索使能量最小化的最优解;以及转换允许范围确定单元,其基于在多个状态变量中包括的多个状态变量组中的第一状态变量组中具有第一值的第一状态变量的第一标识号来确定在多个状态变量组中的第二状态变量组中被允许从第二值变化的第二状态变量的第二标识号的上限或下限
  • 优化装置方法
  • [发明专利]源、掩模和投影光学装置优化流程-CN201110353099.X有效
  • 徐端孚;陈洛祁;冯函英;R·C·豪威尔;周新建;陈逸帆 - ASML荷兰有限公司
  • 2011-11-09 - 2012-07-04 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种源、掩模和投影光学装置优化流程。本发明的实施例提供用于优化光刻投影设备的方法,所述方法包括优化其中的投影光学装置。当前的实施例包括几个流程,包括优化源、掩模和投影光学装置和各种连续的且迭代的优化步骤,其将投影光学装置、掩模和源任意组合。投影光学装置有时被广义地称作为“透镜”,因此优化过程可以用术语源掩模透镜优化来表示。源掩模透镜优化可能相对于已有的源掩模优化过程或其它优化过程是被期望的,该其它的优化过程不包括投影光学装置优化,部分原因在于将投影光学装置包括在优化中可能通过引入投影光学装置的多个可调节的特性导致更大的过程窗口投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形,使得能够对整个成像过程进行像差控制。
  • 投影光学装置优化流程
  • [发明专利]一种分布式优化器系统-CN201610518462.1在审
  • 罗宇浩 - 浙江昱能科技有限公司
  • 2016-06-28 - 2018-01-05 - H02J3/38
  • 本发明提供了一种分布式优化器系统。该优化器系统包括N个优化器串,每个优化器串包括通过直流电力线串联的一个串优化器和M个子优化器,每个子优化器和串优化器具有直流通信装置,每个子优化器通过直流通信装置经直流电力线与串优化器进行双向数据交互,串优化器还具有第一无线通信装置;一逆变器,N个优化器串并联后接入逆变器;一通信器,具有第二无线通信装置,串优化器与通信器通过第一无线通信装置和第二无线通信装置以无线方式进行双向数据交互;其中N、M为整数且大于等于本发明提供的一种分布式优化器系统能保证所有子优化器和通信器之间的数据传输稳定可靠。
  • 一种分布式优化系统
  • [发明专利]束流整形装置优化方法和优化装置-CN202210871016.4在审
  • 程凡杰;李开健;张巍;杨历军 - 中国原子能科学研究院
  • 2022-07-22 - 2022-09-30 - G06F30/20
  • 本申请的实施例提供一种束流整形装置优化方法,包括:建立装置模型;确定待优化参数;确定待优化参数的取值范围;生成装置模型的多个优化模型;利用程序获取每个优化模型的适应度;当满足结束条件时,结束优化,并将适应度最接近预设值的一个或多个优化模型作为待优化参数的优化结果,当不满足结束条件时,重新生成多个优化模型,获取重新生成的优化模型的适应度,并验证重新生成的优化模型的适应度,直到满足所述结束条件。本申请实施例还提供一种优化装置和一种计算机可读存储介质。
  • 整形装置优化方法
  • [发明专利]一种电台通信信息采集和信道优化方法及装置-CN201910677655.5有效
  • 王振家;蒋林;王景 - 北京睿信昌达科技有限公司
  • 2019-07-25 - 2021-11-02 - H04B17/318
  • 本发明提供了一种电台通信信息采集和信道优化方法及装置优化装置分别与主从电台外接端口连接,并通过与其连接的电台实现优化装置之间的通讯;优化方法包括:步骤1,主台优化装置获取频管控制系统下发的用频方案或已有的用频方案,作为需优化的电台通信信道;步骤2,优化装置控制主从电台采集需优化的电台通信信道各频点信号强度;步骤3,主台优化装置对各频点信号强度进行评估,并选出信号质量最好的频点作为新通信信道;步骤4,主台优化装置控制通信网络中主从电台统一切换到信号质量最好的新通信信道本发明中的优化方法通过优化装置将电台转换为信息采集终端,利用主电台在通信网络中的主导控制作用实现不同预设用频方案的信道优化
  • 一种电台通信信息采集信道优化方法装置
  • [发明专利]FPGA逻辑综合中逻辑优化的实现方法及装置、系统-CN201911375726.2有效
  • 刘奎;王宁;王维;王勇麟;宋宁;刘建华 - 广东高云半导体科技股份有限公司
  • 2019-12-27 - 2022-10-28 - G06F30/343
  • 本发明公开了FPGA逻辑综合中逻辑优化的实现方法及装置、系统,包括:后端处理装置在读取综合后网表后判断综合后网表中的逻辑优化结果与后端需求是否匹配;若否,则生成逻辑优化导向信息以提供给前端逻辑综合装置;当获取到逻辑优化导向信息时,前端逻辑综合装置根据逻辑优化导向信息对综合后网表中的逻辑优化结果执行逻辑优化操作得到目标逻辑优化结果,并根据目标逻辑优化结果生成新的综合后网表,前端逻辑综合装置生成的综合后网表用于提供给后端处理装置可见,实施本发明能够通过后端需求多次引导FPGA逻辑综合中的逻辑优化方向,不仅提高了逻辑优化控制方式的通用性以及优化效率,还提高了逻辑优化后的结果与后端需求的匹配度。
  • fpga逻辑综合优化实现方法装置系统

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