专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]烷基铵盐表面活性剂插的改性黏土的制备方法-CN200910076628.9无效
  • 阳明书;封喜彦;张世民;丁艳芬 - 中国科学院化学研究所
  • 2009-01-12 - 2010-07-14 - C01B33/44
  • 本发明涉及烷基铵盐表面活性剂插的改性黏土的制备方法。首先制备黏土在水中的悬浮液,再将含有烷基铵盐表面活性剂的溶液加入到黏土悬浮液中,通过调节反应介质成份组成的变化,得到烷基铵盐表面活性剂充分交换插的改性黏土;或者直接将黏土粉末加入到烷基铵盐表面活性剂的溶液中,通过反应介质成份组成的变化,来改变烷基铵盐表面活性剂的状态,得到烷基铵盐表面活性剂充分交换插的改性黏土。本发明通过调节反应介质成份组成的变化来改变烷基铵盐表面活性剂的状态,在尽量减少烷基铵盐表面活性剂物理作用吸附的同时,实现黏土层间阳离子的充分交换,烷基铵盐表面活性剂插的改性黏土中的烷基铵盐表面活性剂插量等于黏土的离子交换容量
  • 烷基铵盐表面活性剂改性黏土制备方法
  • [发明专利]纳米粒子材料的制造方法、纳米粒子材料以及光电转换器件-CN201080042600.4有效
  • 村山浩二 - 株式会社村田制作所
  • 2010-09-14 - 2012-07-11 - H01L31/04
  • 一种纳米粒子材料的制造方法,其中,将空穴输送性表面活性剂注入至InP/ZnS分散溶液中,将InP/ZnS量子点表面用空穴输送性表面活性剂覆盖,制作带有空穴输送性表面活性剂的InP/ZnS分散溶液。接着,使用旋涂法等,将带有空穴输送性表面活性剂的InP/ZnS分散溶液涂布于基板7上,形成带有1或2以上的空穴输送性表面活性剂的量子点8(a)。接着,准备含有电子输送性表面活性剂6的分散溶液(置换溶液)。将在表面形成带有空穴输送性表面活性剂的量子点8的基板7以规定时间浸渍于置换溶液中,使空穴输送性表面活性剂的一部分与电子输送性表面活性剂进行置换,形成1或2以上的量子点9(b)。
  • 纳米粒子材料制造方法以及光电转换器件
  • [发明专利]正极及具备其的非水电解液二次电池-CN202210327007.9在审
  • 铃木慎也;辻子曜 - 泰星能源解决方案有限公司
  • 2022-03-30 - 2022-10-04 - H01M4/62
  • 提供正极,其为具备含有Ni含量高的锂复合氧化物和表面活性剂的正极活性物质的正极,其中,非水电解液向正极活性物质的含浸性优异,且抑制高电压下的气体产生。在此公开的正极具备正极集电体和支持于所述正极集电体的正极活性物质。正极活性物质含有正极活性物质和表面活性剂。正极活性物质包含镍相对于锂以外的金属原子的含量为70mol%以上的锂复合氧化物。正极活性物质具有包含2以上的表面活性剂相对于正极活性物质和表面活性剂的合计的质量比例不同的的多层结构。在多层结构包含的中的表面活性剂的质量比例大的中,表面活性剂的质量比例为1.0质量%以上且10质量%以下。
  • 正极具备水电二次电池
  • [发明专利]一种表面活性剂复合胶膜制备方法-CN202111009121.9有效
  • 钟海标 - 江苏万淇生物科技股份有限公司
  • 2021-08-31 - 2021-10-29 - C09J7/30
  • 本发明公开了一种表面活性剂复合胶膜制备方法,属于表面活性剂领域,通过将两片表面活性剂气体分离胶膜铺设在两块面板上后,再将面板安装进合膜装置内,对一块面板加压,使两片面板逐渐靠近,同时合膜装置向两块面板之间喷出表面活性剂颗粒喷雾;在两块面板复合时,加热面板上的胶膜,使胶膜恢复粘性,捕获表面活性剂颗粒,使形成的复合胶膜中间形成表面活性剂粉粒;最后将复合胶膜冷却并干燥,实现获得含有压缩表面活化剂粉尘的复合胶膜,在气体穿过膜时通过胶膜进先进行初步拦截和过滤,防止表面活性剂对气体中物质吸附,同时胶膜的粘性束缚表面活性剂,防止表面活性剂被穿过膜的气流携带离开。
  • 一种表面活性剂复合胶膜制备方法
  • [发明专利]发光背板及其制作方法-CN202210186370.3有效
  • 邓红照 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2022-02-28 - 2023-06-27 - G02F1/13357
  • 其包括以下步骤:提供基板;在基板上形成多个发光结构,各发光结构包括发光件和覆盖发光件的第一表面活性,第一表面活性远离发光件的一侧具有第一表面;在基板上形成反光薄膜,反光薄膜包括反光材料和覆盖反光材料的第二表面活性,第二表面活性远离反光材料的一侧具有第二表面,反光薄膜形成于相邻的发光结构之间,且第二表面的亲疏水性与第一表面的亲疏水性相反,以使第一表面活性与第二表面活性在发光件与反光材料之间相间隔;对反光薄膜进行固化处理,以在基板上形成位于相邻的发光件之间的反光,反光与多个发光件相间隔。本发明可以提高反光的覆盖精度和厚度均一性。
  • 发光背板及其制作方法
  • [发明专利]聚乳酸系树脂片及成型品-CN201280045144.8有效
  • 药师堂健一;田端久敬;石井猛 - 东丽株式会社
  • 2012-11-13 - 2014-05-21 - B32B27/18
  • 一种聚乳酸系树脂片,其特征在于,片为具有A和B的叠结构,所述A由含有聚乳酸的组合物(A)形成,所述B由含有丙烯酸系、离子系表面活性剂和非离子系表面活性剂的组合物(B)形成,该B为片的至少一个最外层,在组合物(B)的整体100质量%中,丙烯酸系的含量为50质量%以上99.5质量%以下,离子系表面活性剂和非离子系表面活性剂的质量比为:2≤离子系表面活性剂/非离子系表面活性剂≤25。
  • 乳酸树脂成型
  • [发明专利]Ⅲ族氮化物半导体的制造方法-CN201010135194.8有效
  • 奥野浩司 - 丰田合成株式会社
  • 2010-03-15 - 2010-09-29 - H01L21/205
  • 一种制造III族氮化物半导体的方法,所述方法包括:制备包括缓冲的衬底;在所述缓冲上通过MOCVD由III族氮化物半导体在掺杂反表面活性剂的同时形成第一,其中所述第一的厚度等于或小于2μm;在所述第一上通过MOCVD由III族氮化物半导体在掺杂表面活性剂和反表面活性剂中至少其一的同时形成第二;和通过在形成所述第二期间调节所掺杂的表面活性剂和反表面活性剂的量来控制所述第二的结晶品质和表面平坦性。
  • 氮化物半导体制造方法

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