专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]系统和系统的方法-CN201710439046.7有效
  • 尹志中 - 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
  • 2017-06-12 - 2019-07-19 - C23C14/56
  • 本发明公开了一种系统和系统的方法,系统包括:至少一条线、第一传送轨道和托盘,每条线包括腔室,腔室包括多个子腔,多个子腔依次相连,腔室的一端形成有线入口、另一端形成有线出口,子腔内设有蒸发源组件;第一传送轨道穿设在线入口和线出口之间,第一传送轨道位于蒸发源组件的上方;托盘包括用于放置工件的托架,托盘可移动地设在第一传送轨道上以在线入口和线出口之间传送工件使蒸发源组件对工件进行根据本发明实施例的系统,优化了线的布局,简化了操作步骤,提高了空间利用率,减小了系统的整体占用空间和成本。
  • 系统方法
  • [发明专利]真空系统及真空方法-CN201310046198.2无效
  • 若林雅;加藤升;石泽泰明 - 株式会社日立高新技术
  • 2013-02-05 - 2013-08-21 - C23C14/24
  • 本发明提供能够在串联地配置真空搬运腔体与真空腔体的真空系统中降低材料损失的经济性好的真空系统及真空方法。本发明是一种真空系统,其交替且串联地配置水平搬运工件的真空搬运腔体与对上述工件材料的真空腔体,由具有多个上述真空腔体的线构成,互相并列地设置N条上述线,其中N为2以上,上述真空腔体是横跨各个上述N条线而设置的N条线真空腔体,上述N条线真空腔体在每条线上具有对工件进行位置,当在上述N条线中的第一线对第一上述工件进行期间,在与上述第一线不同的另一线上将第二工件搬出到下游侧的上述真空搬运腔体
  • 真空系统方法
  • [实用新型]托盘及装置-CN202222132390.0有效
  • 陈锐;张龙;石建华;范斌 - 中威新能源(成都)有限公司
  • 2022-08-12 - 2022-12-09 - C23C14/50
  • 本实用新型涉及一种托盘及装置,托盘包括底板以及遮挡线,其中,底板设有用于固定电池片的固定位。遮挡线铺设于底板,并且遮挡线横跨固定位,即遮挡线的两端分别固定于固定位的两侧。遮挡线用于遮挡电池片的待表面的栅线。上述托盘在对电池片的表面进行绝缘材料时,通过遮挡线遮挡栅线,能有效地避免绝缘材料到栅线上,从而避免了栅线被绝缘材料覆盖,进而保证了栅线的导通能力。
  • 托盘装置
  • [实用新型]设备-CN202122005493.6有效
  • 赵利;孙军旗;刘芳军;孙玉群;鲁艳春 - 北海惠科半导体科技有限公司
  • 2021-08-24 - 2022-01-07 - C23C14/24
  • 本实用新型实施例公开了一种设备,具有一腔体,所述设备包括:源和锅;源,设置在所述腔体的底部;其中,所述源的数量设置至少两个,每个所述源间隔排布,且每个所述源到所述腔体的中心线的距离相等;锅,设置在所述腔体的顶部,所述锅在所述腔体内绕所述中心线公转;其中,单个所述源用于将材料转化为气体分子材料,所述气体分子材料在所述腔体中运动形成单个区域;所有所述单个区域构成总区域,所述锅对应设置在所述总区域内。本实用新型实施例以此提高了的效率。
  • 设备
  • [发明专利]方法及设备-CN201710055136.6有效
  • 彭兆基;邱林;李倩;何麟;高峰 - 昆山国显光电有限公司
  • 2017-01-24 - 2020-04-21 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种方法及设备。上述方法包括如下步骤:将材料放置于设备的源中,将源与待基板相对设置,且源的开口朝向待基板;对源进行加热至预设温度后,移动源和/或待基板,使源相对于待基板,在平行于待基板的平面上移动的轨迹为波浪线。采用上述方法进行时,即使TS距离较小,由于源相对于待基板,在平行于待基板的平面上移动的轨迹为波浪线,则shadow effect贡献度低、分布均匀且无周期性波动,不容易形成低视角G向此外,本发明还涉及一种可采用上述方法的设备。
  • 方法设备
  • [发明专利]源清洁设备及系统-CN201910459263.1有效
  • 方刚;陈策;王宝友;尹俊 - 昆山国显光电有限公司
  • 2019-05-29 - 2020-09-08 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种源清洁设备及系统。该源清洁设备包括真空腔室、设置在真空腔室内的第一源加热单元和第二源加热单元,第一源加热单元包括支撑部,支撑部用于放置至少一个点源,第一源加热单元内能够生成热辐射以对点源进行清洁;第二源加热单元与第一源加热单元间隔分布,第二源加热单元包括用于放置线源或面源的至少一个容置槽,容置槽能够产生热辐射对线源或面源进行清洁。本发明公开的源清洁设备能够去除点源、线源以及面源的杂质,不会对腔室的工艺造成影响,进而可以提升效率,提升系统稼动率。
  • 蒸镀源清洁设备系统
  • [发明专利]一种源、装置及方法-CN201710145014.6有效
  • 上官荣刚;王欣欣 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2017-03-10 - 2019-01-22 - C23C14/24
  • 本发明实施例提供一种源、装置及方法,涉及真空蒸发镀膜领域,能够解决现有的线源或者面源在过程中对待基板上不同区域的镀膜层厚度不均匀的问题。包括坩埚,还包括设置在坩埚出口侧的多个喷嘴,多个喷嘴至少排列为一排。坩埚内部包括有材料空腔,坩埚出口侧的侧壁设置有连通材料空腔的贯通腔,喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部,喷头通过贯通腔与材料空腔相连通,活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动
  • 一种蒸镀源装置方法
  • [发明专利]蒸发镀膜装置和镀膜方法-CN202210718683.9在审
  • 吕凯丽;赵利;孙军旗;孙帅;任宏志 - 北海惠科半导体科技有限公司
  • 2022-06-23 - 2022-09-16 - C23C14/24
  • 本申请公开了一种蒸发镀膜装置和镀膜方法,蒸发镀膜装置包括腔体、源、多个锅和驱动组件;源用于将材料转化为气体分子材料,气体分子材料在腔体中运动形成区域;多个锅对应设置在区域内;驱动组件设置在腔体的顶部,驱动多个锅围绕源的中心线进行旋转;锅包括面,面上设有晶圆,所述晶圆与面形成的夹角大于等于10度,且小于等于25度。本申请通过将晶圆倾斜设置在蒸锅面上,并与面形成一定角度的夹角,减少晶圆占用空间,如此在原来的锅上可以放置更多的晶圆,从而提高生产效率。
  • 蒸发镀膜装置方法
  • [发明专利]蒸发镀膜装置及其镀膜方法-CN202210719810.7在审
  • 吕凯丽;赵利;孙帅;孙军旗;任宏志 - 北海惠科半导体科技有限公司
  • 2022-06-23 - 2022-09-02 - C23C14/24
  • 本申请公开了一种蒸发镀膜装置,蒸发镀膜装置包括腔体、源、多个锅、锅公转驱动组件和锅自转驱动组件;源设置在腔体的底部,锅公转驱动组件设置在腔体的顶部,驱动多个锅围绕源的中心线进行公转;锅自转驱动组件的一端与锅公转驱动组件连接,另一端与锅传动连接,控制锅进行自转;其中,锅公转驱动组件和锅自转驱动组件分别独立控制锅的公转和自转。本申请通过设置直接与锅连接的锅自转驱动组件控制锅进行自转,无需设置带动锅自转的轨道,避免锅转动时与轨道摩擦产生金属碎屑,降低产品的综合良率。
  • 蒸发镀膜装置及其方法

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