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[实用新型]腔体装置-CN201520774769.9有效
发明人：林振东 -专利权人：田宇科技股份有限公司
申请日： 2015-10-08 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：一种腔体装置，包含：一壳体构件，具有一腔室及一腔口部；一闸门构件，连接于壳体构件以闭合或开启腔口部，具有一门片部、一弹性皮层部及一压制框体部，弹性皮层部为柔软具有伸缩性的气密材料层，贴合于门片部的内侧表面，压制框体部框设叠覆于弹性皮层部；以及一气流构件，连通于腔室用来抽取或通入气体；其中，腔室在被抽气而呈负压时，弹性皮层部受压而填入腔口部且密合于腔口部的周缘，使腔体装置呈气密状态，腔室在被通入气体时，弹性皮层部用以缓冲腔室内的气冲，使闸门构件仍密合于腔口部周缘且腔体装置呈气密状态。
装置

[发明专利]腔体恒压装置-CN201810274633.X在审
发明人：李国峰 -专利权人：珠海聚能精密工业有限公司;苏州聚昶精密五金机械有限公司
申请日： 2018-03-30 - 公布日： 2018-08-17 - 主分类号： F16K17/00 文献下载
摘要：本发明公开并提供了一种结构简单、设计合理和具有适时调节密封环境中压强变化的腔体恒压装置。本发明包括中空的壳体，所述壳体内适配安装有恒压密封结构，所述恒压密封结构内储存有流体，所述恒压密封结构仅开设有一个通气口，且所述通气口与外部密封装置密闭连接。本发明可用于压强调节装置的技术领域。
恒压装置密封结构通气口恒压腔体外部密封装置压强调节装置密闭连接密封环境压强变化压密封中空的壳体可用流体适配体内储存

[发明专利]腔体清洁装置-CN202210102728.X在审
发明人：张啸;魏峥颖;刘涛;柳小敏;朱亮 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本发明提供一种腔体清洁装置，装置包括抽吸结构和擦拭结构；抽吸结构包括抽吸基体和过渡管，抽吸基体具有沿自身轴向贯通的抽吸通道，抽吸通道的第一端用于伸入半导体设备的腔体中，抽吸通道的第二端与过渡管连通，过渡管用于外接一抽真空设备使用中，工作人员可先使用抽吸结构将腔体底部的颗粒物抽吸出来，随后通过擦拭结构对腔体底部进行旋转擦拭清洁，工作人员仅需在腔体的外部操纵所述的腔体清洁装置，可避免工作人员穿着的无尘服被腔体内的棱角凸出物勾出毛絮而产生额外的污染物
清洁装置

[发明专利]加热腔体装置-CN200710148999.4有效
发明人：丁振原;黄滢儒;吴冠贤 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2007-09-13 - 公布日： 2008-01-30 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：一种加热腔体装置，供液晶显示器电路阵列制程使用。加热腔体装置包含加热腔体、封闭盖体以及清洁装置。加热腔体具有腔体开口。封闭盖体具有内面，可位于腔体开口处，用以遮盖腔体开口。清洁装置具有清洁面。封闭盖体于移开腔体开口处时接触清洁面。清洁装置进一步具有固定件，供固定清洁面。封闭盖体进一步包含驱动装置，用以驱动封闭盖体定位于腔体开口处。驱动装置包含汽缸及悬臂。
加热装置

[实用新型]腔体恒压装置-CN201820440056.2有效
发明人：李国峰 -专利权人：珠海聚能精密工业有限公司;苏州聚昶精密五金机械有限公司
申请日： 2018-03-30 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： F16K17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开并提供了一种结构简单、设计合理和具有适时调节密封环境中压强变化的腔体恒压装置。本实用新型包括中空的壳体，所述壳体内适配安装有恒压密封结构，所述恒压密封结构内储存有流体，所述恒压密封结构仅开设有一个通气口，且所述通气口与外部密封装置密闭连接。本实用新型可用于压强调节装置的技术领域。
本实用新型恒压装置密封结构通气口恒压腔体外部密封装置压强调节装置密闭连接密封环境压强变化压密封中空的流体壳体可用适配体内储存

[实用新型]腔体除尘装置-CN201520628669.5有效
发明人：钱承林;李国锋;俞开明;顾佳超 -专利权人：浙江田中精机股份有限公司
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种腔体除尘装置，其包括上吹气板、下吹气板、气腔本体、吹气盘、吸尘管接口，上吹气板安装在气腔本体的一侧并与气腔本体内的吹气盘连接，下吹气板安装在气腔本体的下端，吸尘管接口安装在气腔本体的另一侧且与上吹气板相对应
除尘装置

[实用新型]腔体清洁装置-CN201821989353.9有效
发明人：杨事成;张锋;吴孝哲;吴龙江;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种腔体清洁装置，用于对一半导体工艺腔体内部进行清洁，所述腔体清洁装置包括等离子体生成部件和腔体电场施加部件；其中，所述等离子体生成部件产生的等离子体在所述半导体工艺腔体内流动，所述腔体电场施加部件用于在所述半导体工艺腔体内产生一电场，以吸引所述等离子体中的带电离子到达所述半导体工艺腔体的内壁。所述腔体电场施加部件用于在所述半导体工艺腔体体壁上施加电压，以吸附用于清洁的带电离子，使带电离子到达所述半导体工艺腔体内各个位置，特别是气态等离子体正常情况难以到达的位置，从而提升清洁的效果。
半导体工艺腔腔体电场施加部件带电离子清洁装置等离子体等离子体生成体内清洁气态等离子体本实用新型施加电压电场体内部内壁体壁吸附种腔流动吸引

[实用新型]腔体衔接装置-CN202220106595.9有效
发明人：符宇强 -专利权人：库卡机器人（广东）有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B65G47/61 文献下载
摘要：本申请提供了一种腔体衔接装置，包括：第一输送机构，具有第一承载面，所述第一承载面能够承载腔体的一端；第二输送机构，具有第二承载面，所述第二承载面能够承载腔体相对的另一端；所述第一输送机构和所述第二输送机构被配置为能够相对运动本方案提供的腔体衔接装置能输送不同外轮廓尺寸的腔体。
衔接装置

[实用新型]刻蚀腔体的支撑装置和刻蚀腔体-CN202123071921.1有效
发明人：桑康;高强;王铖熠;郭颂;张怀东;刘海洋;胡冬冬;许开东 -专利权人：北京鲁汶半导体科技有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： F16M11/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了刻蚀腔体的支撑装置和刻蚀腔体，刻蚀腔体包括腔室本体和腔盖，腔盖可旋转地连接在腔室本体上，支撑装置适于在腔盖打开腔室本体时支撑在腔盖的背面，支撑装置包括：第一固定块和第二固定块，第一固定块和第二固定块沿刻蚀腔体的左右方向间隔开布置根据本实用新型的刻蚀腔体的支撑装置，不会额外占用机架周围的地面空间，使用方便，便于收纳。
刻蚀支撑装置

[发明专利]GIS腔体作业装置与GIS腔体作业方法-CN202210266769.2有效
发明人：刘佳鑫;罗明睿;郭锐;李胜川;李恩;胡博;刘劲松;张旭;李勇;刘海波 -专利权人：国网辽宁省电力有限公司电力科学研究院;中国科学院自动化研究所;国网山东省电力公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种GIS腔体作业装置与GIS腔体作业方法，GIS腔体作业装置包括：安装部，包括相互铰接的安装端以及连接端；运动感知部，设于所述安装部，所述运动感知部用于获取所述GIS腔体作业装置在GIS腔体内的位置；除尘部，设于所述安装部，所述除尘部用于吸附所述GIS腔体内的灰尘；视觉感知部，设于所述安装部，所述视觉感知部用于获取所述GIS腔体内的环境情况；清洁部，设于所述安装部，所述清洁部用于清洁所述GIS腔体本发明提供的GIS腔体作业装置，有效提高了GIS腔体作业任务的执行效率，减少了人力的投入，降低了人工检修所带来的安全风险。
gis 作业装置方法

[发明专利]腔体压力调节方法及腔体压力调节装置-CN201210169498.5无效
发明人：金懿;徐伯山;沈剑平 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2012-05-28 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明提出一种腔体压力调节方法，包括：设定目标值，根据所述目标值，计算所述目标值的预设粗调范围；打开节流阀角度至固定角度，使腔体压力从初始值调节至所述预设粗调范围；根据腔体压力的实时变化，在所述固定角度基础上实时调节角度；腔体压力调节至目标值，关闭节流阀。本发明还提出一种腔体压力调节装置。
压力调节方法装置

[实用新型]腔体排水结构、腔体组件及蒸汽烹饪装置-CN202122004942.5有效
发明人：杨娟 -专利权人：广东顺德融方电器有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： A47J36/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种腔体排水结构、腔体组件及蒸汽烹饪装置，该腔体排水结构包括集水部，所述集水部包括杯口和杯底，所述杯底上开设有出水孔；开关部，所述开关部包括封堵件，所述封堵件与所述出水孔紧闭连接，在浮力作用下本申请的腔体排水结构、腔体组件及蒸汽烹饪装置，其开关部在重力作用下，与出水孔紧闭连接；当水从杯口进入集水部，水被装容于集水部中，随着水逐渐增多，浮力增大，封堵件在浮力的作用下与出水孔分离，集水部中的水从出水孔处排出
排水结构组件蒸汽烹饪装置

[发明专利]腔体-CN202180088603.X在审
发明人：恩金·塔基兰;塞诺尔·巴斯卡亚 -专利权人： TUSAS-土耳其航空航天工业公司
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B64C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及主体(2)；腔体(3)，位于主体(2)上，能够将弹药和类似的有效载荷放置在该腔体中；后壁(4)，该后壁是这样的表面，即随着主体(2)的移动而产生的气流(AF)在该表面上离开腔体(3)；以及底板(5)，气流(AF)在该底板上方沿着腔体(3)移动。
腔体

[实用新型]腔体铰链装置及具有该装置的密封腔体机构-CN200920236789.5在审
发明人：杨明生;范继良;刘惠森;王曼媛;王勇 -专利权人：东莞宏威数码机械有限公司
申请日： 2009-09-30 - 公布日： 2010-09-01 - 主分类号： E05D3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种腔体铰链装置，所述腔体铰链装置包括铰链座、转动轴及铰链，所述铰链座包括底座及两侧块，两所述侧块相对的设于所述底座的两侧，所述侧块与所述底座固定连接，所述侧块开设有腰形通孔，所述铰链包括外连接部及铰链连接部把所述腔体铰链装置安装于密封腔体机构上，由于所述侧块的上设有腰形通孔，腔盖因大气压力而向腔体平行贴合，使密封效果更好。本实用新型还提供一种具有所述腔体铰链装置的密封腔体机构。
铰链装置具有密封机构

[发明专利]自动清洗腔体装置-CN201410236041.0在审
发明人：张镇磊;金一诺;张怀东;王坚;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2015-12-09 - 主分类号： B08B9/093 文献下载
摘要：本发明公开了一种自动清洗腔体装置，对湿法工艺腔体进行清洗，去除腔体内壁上的残留物。其技术方案为：自动清洗腔体装置包括外壳和喷头，其中外壳具有顶板和侧壁；喷头固定在外壳的顶板的下底面，对准腔体内喷射清洗液体。
自动清洗装置

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