专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于神经网络与图像分割的图像显著性精方法-CN201810321653.8有效
  • 傅可人;赵启军 - 四川大学
  • 2018-04-11 - 2021-10-01 - G06K9/32
  • 本发明公开了一种基于神经网络与图像分割的图像显著性精方法,通过对输入图像进行图像分割,得到若干个分割区域,并根据输入图像的粗糙显著性图,计算每个分割区域对应粗糙显著性值的平均池值,再将该平均池值作为各个分割区域内图像的中间显著性值,而得到中间显著性图,并将输入图像、粗糙显著性图和中间显著性图输入至训练好的神经网络中,最终通过该神经网络输出得到精显著性图。因此,本发明在图像显著性检测过程中引入图像的边界信息,从而使最终得到的显著性图能准确完整地突出整个显著物体及其边缘细节,同时具有比粗糙显著性图更优的F‑measure评价指标。
  • 基于神经网络图像分割显著性精化方法
  • [发明专利]超薄精密不锈钢箔表面特性控制方法-CN202011207196.3有效
  • 段浩杰;李学斌;任岩;韩晓冬;罗纪平 - 山西太钢不锈钢精密带钢有限公司
  • 2020-11-03 - 2022-07-12 - B21B37/16
  • 本发明涉及一种超薄精密不锈钢箔表面特性控制方法,包括:1)根据超薄精密不锈钢箔目标成品表面类型、表面粗糙度的要求,选用材质为钼系高速钢M2、直径为21~23mm的轧辊进行毛加工以制备毛轧辊,其中毛轧辊的类型及粗糙度根据目标成品表面类型和表面粗糙度确定;2)选取厚度为0.05~0.1mm的不锈带钢原料进行轧制,轧制中根据目标成品表面类型、成品轧程轧制总变形量,确定成品轧程中轧制道次分配及毛轧辊的选用。本发明方法能够有效控制产品粗糙度、光泽度、表面纹理,并且厚度公差波动小,板形平直度好,表面质量稳定,满足超薄精密不锈钢箔的高端行业高品质要求。
  • 超薄精密不锈钢表面特性控制方法
  • [发明专利]PCB板金属台阶槽的制备方法-CN200910109717.9无效
  • 李小晓;崔荣;王南生 - 深南电路有限公司
  • 2009-11-12 - 2010-05-19 - H05K3/00
  • 本发明公开了一种PCB板金属台阶槽的制备方法,包括以下步骤:1)备料,准备芯板;2)铣槽,在芯板上铣台阶槽;3)在台阶槽的台阶处形成粗糙面;4)孔、电镀,对台阶槽进行孔、电镀,得到金属台阶槽。由于增加台阶槽的台阶处基材的表面粗糙度,使得在后续的电镀步骤中所述粗糙面出现芯吸现象,增加电镀层与台阶处基材层的结合面积,保证电镀层的结合力,从而可改善机械加工中引起的台阶处基材结合力不良的现象和台阶处基材分层起泡的现象
  • pcb金属化台阶制备方法
  • [发明专利]发光二极管-CN201910042124.9有效
  • 郭修邑;王德忠 - 隆达电子股份有限公司
  • 2019-01-17 - 2022-04-29 - H01L33/22
  • 发光二极管包含第一型半导体层、主动层、第二型半导体层、图案电极层、平坦层及反射层。主动层配置于第一型半导体层上。第二型半导体层配置于主动层上,第二型半导体层包含第一表面及第二表面,其中第一表面面对主动层,第二表面具有第一算术平均粗糙度。图案电极层配置于第二型半导体层的第二表面上,并暴露出部分第二型半导体层。平坦层配置于第二型半导体层的露出部分上,平坦层包含第三表面及第四表面,第三表面接触第二型半导体层的第二表面,第四表面具有第二算术平均粗糙度,第二算术平均粗糙度小于第一算术平均粗糙度。
  • 发光二极管
  • [发明专利]晶圆的粗糙处理方法、装置和存储介质-CN201811398609.3在审
  • 黄德权 - 东莞新科技术研究开发有限公司
  • 2018-11-22 - 2020-05-29 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种晶圆的粗糙处理方法,涉及半导体工艺领域,该粗糙处理方法包括步骤:将待处理晶圆置于处理室中;其中,所述处理室为真空环境;向所述处理室中导入混合气体;其中,所述混合气体包括惰性气体和碳氢化合物气体;对所述混合物气体进行离子,再经过电场加速,以得到离子束;控制所述离子束对所述待处理晶圆的背面进行蚀刻,得到背面粗糙的已处理晶圆。本发明实施例还提供了晶圆的粗糙处理装置和存储介质,能有效提高处理后的晶圆的背面粗糙度,从而提高蒸镀金属的稳定性。
  • 粗糙处理方法装置存储介质

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