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[发明专利]一种基于等离子体的电子防护装置-CN202210505962.7有效
发明人：刘琦;吴征威 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2022-05-10 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： A62B7/00 文献下载
摘要：本发明属于低温大气等离子体技术领域，具体的说是一种基于等离子体的电子防护装置，包括防溅面罩；所述防溅面罩左右两侧分别固接有空气质量传感器和通讯装置；所述防溅面罩侧壁位于空气质量传感器和下方固接有口鼻通风块；所述防溅面罩下方设有防护外壳；所述防护外壳和口鼻通风块之间通过连接管进行连通；所述防护外壳内部设有送风装置和放电装置；通过利用防溅面罩和防护外壳的便捷化可以快速、方便的使工作人员完成对空气的等离子化，减少大规模等离子体设备的搬运，方便工作人员进行操作，提高便携性。
一种基于等离子体电子防护装置

[发明专利]一种硅基氮氧化合物薄膜的制备方法-CN201310210836.X有效
发明人：董恒平;陈坤基;李伟;徐骏;刘增元;孙正凤 -专利权人：南京理工大学泰州科技学院
申请日： 2013-05-30 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种硅基氮氧化合物薄膜的制备方法，首先将清洗过的衬底放入PECVD设备的反应腔内，分别将Ar、H₂等离子化对衬底进行轰击清洗，然后在20～30℃通入SiH₄、NH₃、H₂混合气体，等离子化后在衬底上淀积a-SiN_x薄膜，通入O₂氧化a-SiN_x
一种硅基氮氧化薄膜制备方法

[发明专利]一种微波镀纳米金刚石薄膜的设备-CN201910830902.0有效
发明人：蔡茜;付斗才 -专利权人：成都道启弘环境科技有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：工作时，工艺气通过进气管进入微波发射喇叭，利用微波将工艺气进行裂解并等离子化，经过裂解等离子化后碳原子作为镀金刚石薄膜的碳源材料。
一种微波纳米金刚石薄膜设备

[实用新型]一种微波镀纳米金刚石薄膜的设备-CN201921459399.4有效
发明人：蔡茜;付斗才 -专利权人：成都道启弘环境科技有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：工作时，工艺气通过进气管进入微波发射喇叭，利用微波将工艺气进行裂解并等离子化，经过裂解等离子化后碳原子作为镀金刚石薄膜的碳源材料。
一种微波纳米金刚石薄膜设备

[发明专利]一种直流光离子化检测紫外光源-CN202210164887.2在审
发明人：黄时佺 -专利权人：深圳市恩智传感技术有限公司
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01N27/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种直流光离子化检测紫外光源，包括第一灯体、第二灯体、第一电极和第二电极，第一电极中心开设有等离子体通道，第一电极设置于第一灯体上端，第一电极还包括插入端，插入端设置于第一电极靠近第一灯体一端，且插入端与第一灯体下端内壁抵接，第一灯体底面开设有第一通孔，等离子体通道一端通过插入端与第一通孔连通，等离子体通道一端设有封堵件，第二电极设置于第一灯体下端，第二灯体设置于第二电极下端，第二电极中心开设有第二通孔本发明提供了一种直流光离子化检测紫外光源，减少了杂气分子的产生，延长紫外灯的使用寿命。
一种流光离子化检测紫外光源

[发明专利]在高深宽比特征结构中沉积金属的方法-CN201180036678.X有效
发明人：艾伦·里奇;卡尔·布朗;约翰·皮比通 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：在某些实施例中，一方法包括以超高频(VHF)频率施加第一射频(RF)功率至含金属的靶材以形成等离子体，该靶材设置在基板上方；施加直流(DC)功率至靶材，以引导等离子体朝向靶材；利用等离子体从靶材溅射金属原子，同时维持物理气相沉积(PVD)腔室内的压力使足以离子化大部分的金属原子；在开口的底表面上以及基板的第一表面上沉积第一多个金属原子；施加第二RF功率以将至少某些第一多个金属原子从底表面重分配至该开口侧壁的下部；以及通过减少PVD腔室内的离子化金属原子数量在侧壁上部沉积第二多个金属原子，其中第一多个金属原子与第二多个金属原子形成第一层，该第一层实质上沉积在开口的全表面上。
高深特征结构沉积金属方法

[发明专利]混合离子源以及质量分析装置-CN201480044977.1有效
发明人：佐竹宏之;长谷川英树;平林由纪子;桥本雄一郎 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2017-07-11 - 主分类号： H01J49/10 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种高灵敏度并且能够在短时间内简单地切换的离子源，该离子源具有用于将试样喷雾的离子化探测器(1)、用于对试样进行加热气化的加热室(11)、以及用于使离子化探测器的出口端(喷雾的一侧的端部)(8)与加热室的入口端(离子化探测器侧的一端)(15)的距离变化的驱动部(31、33)。利用驱动部，以使用了离子化探测器的离子化区域(21)或者使用了加热室的离子化区域(22)位于质谱仪(24)的离子导入口(25)的附近的方式对离子化探测器、加热室的位置进行控制，从而单独地执行多个离子化法
混合离子源以及质量分析装置

[发明专利]离子化气流释出型无发尘静电消除机-CN02810860.4无效
发明人：水野彰;杉田章夫;铃木政典;佐藤朋且;日野利彦;锋治幸 -专利权人：菱和技术株式会社;浜松光子学株式会社;原田产业株式会社
申请日： 2002-05-28 - 公布日： 2004-07-14 - 主分类号： H05F3/06 文献下载
摘要：一种离子化气流释出型无发尘静电消除机，包括：具有将供应到容器内的离子输送气体的一部分离子化之离子化部、及朝向带电体供应离子输送气体的吹出部之容器，前述离子化部由内藏于前述容器中之离子化源、及设置在前述容器的外部，介由高电压电缆控制前述离子化源的离子产生量之控制装置构成；其特征为：前述离子化源为软X线产生装置的产生部、低能量电子线产生装置的产生部或是紫外线产生装置的产生部当中的一种，控制装置、控制装置与高电压电缆之间的连接部、及离子化源与高电压电缆的连接部为防爆结构。
离子化气流释出型无发尘静电消除

[发明专利]质谱分析装置-CN201880017300.7有效
发明人：古田匡智 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01J49/16 文献下载
摘要：在具备通过激光离子化来进行试样的离子化的离子化室(10)的质谱分析装置中设置：开口部(12)，其设置于离子化室(10)的侧面，具备能够开闭的门(13)；通气口(14)，其设置于离子化室(10)的与开口部(12)相向的面；以及气体供给单元(64)、(67)，其用于经由通气口(14)向离子化室(10)供给高压的清扫用气体。根据这种结构，在打开了门(13)的状态下使高压的清扫用气体从气体供给单元(64)、(67)向离子化室(10)内流入，由此能够通过该清扫用气体的流动将堆积在离子化室(10)内的地面的菌体的碎片等颗粒卷起或者将漂浮在地面附近的颗粒冲走
谱分析装置

[发明专利]一种电喷雾离子源辅助增强装置-CN201910292652.X在审
发明人：徐学峰 -专利权人：江苏汭博医疗科技有限公司
申请日： 2019-04-12 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： H01J49/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种电喷雾离子源辅助增强装置，包括电喷雾离子源、辐射光源、保护外壳，所述电喷雾离子源、辐射光源均设置在外壳上，在保护外壳上与电喷雾离子源相对的一侧设置有通孔，在通孔外设置有真空腔体，通孔与真空腔体的真空接口相接；在真空腔体内部设置有离子分析装置；所述辐射光源发射产生有激发高能态环境，激发高能态环境设置在电喷雾离子源与通孔之间；通过特定波段范围的短波辐射，在周围空间环境形成高能等离子体氛围，直接将周围空气和电喷雾液滴中的水全面离子化，以达到提高电喷雾电离源的去溶剂化效率和离子化效率，以改善高流速电喷雾离子源的分辨率。
电喷雾离子源通孔辐射光源增强装置真空腔体高能态电喷雾电离源高能等离子体离子分析装置离子化效率短波辐射环境设置真空接口周围空间周围空气电喷雾高流速离子化溶剂化体内部真空腔分辨率波段激发液滴发射

[实用新型]一种电喷雾离子源辅助增强装置-CN201920502734.8有效
发明人：徐雪峰 -专利权人：江苏汭博医疗科技有限公司
申请日： 2019-04-12 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： H01J49/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电喷雾离子源辅助增强装置，包括电喷雾离子源、辐射光源、保护外壳，所述电喷雾离子源、辐射光源均设置在外壳上，在保护外壳上与电喷雾离子源相对的一侧设置有通孔，在通孔外设置有真空腔体，通孔与真空腔体的真空接口相接；在真空腔体内部设置有离子分析装置；所述辐射光源发射产生有激发高能态环境，激发高能态环境设置在电喷雾离子源与通孔之间；通过特定波段范围的短波辐射，在周围空间环境形成高能等离子体氛围，直接将周围空气和电喷雾液滴中的水全面离子化，以达到提高电喷雾电离源的去溶剂化效率和离子化效率，以改善高流速电喷雾离子源的分辨率。
电喷雾离子源通孔辐射光源真空腔体高能态电喷雾电离源高能等离子体离子分析装置本实用新型离子化效率短波辐射环境设置增强装置真空接口周围空间周围空气电喷雾高流速离子化溶剂化体内部真空腔分辨率波段激发液滴发射

[发明专利]一种电工钢氢离子还原方法-CN201510306633.X有效
发明人：裴陈新;裴英豪;王立涛;何峰 -专利权人：马钢（集团）控股有限公司;马鞍山钢铁股份有限公司
申请日： 2015-06-04 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： C21D1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种电工钢氢离子还原方法，包括炉体(7)，炉体(7)内具有对钢带(1)进行退火的加热段(2)和均热段(3)；在炉体(7)内支撑钢带(1)的支撑辊(6)；设置在加热段(2)和均热段(3)、对钢带(1)进行还原的等离子发生装置；使氢气在高温条件下的等离子化，提高氢气的还原速度和能力，通过氢离子将电工钢氧化物层还原，提高退火电工钢的磁性能和表面质量。
一种电工氢离子还原方法

[发明专利]等离子体溅射成膜方法和成膜装置-CN200580035907.0无效
发明人：铃木健二;池田太郎;波多野达夫;水泽宁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-10-18 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种利用等离子体使金属靶(56)离子化，产生金属离子，利用偏置电力将金属离子引入到在处理容器内的载置台(20)上载置的被处理体(S)，使金属膜(74)沉积在形成有凹部(2)的被处理体上以填充凹部的方法设定偏置电力，使得在被处理体表面，因金属离子的引入而产生的金属沉积速率和等离子体溅射蚀刻的蚀刻速率大致均衡。由此，能够向被处理体的凹部填充金属，而不会产生空隙等缺陷。
等离子体溅射方法装置

[发明专利]长寿命可消耗氮化硅-二氧化硅等离子处理部件-CN200880114683.6有效
发明人：特拉维斯·R·泰勒;穆昆德·斯里尼瓦桑;鲍比·卡德霍达彦;K·Y·拉曼努金;比利亚纳·米琪杰尔治;吴尚华 -专利权人：朗姆研究公司;赛瑞丹公司
申请日： 2008-10-27 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供一种增加等离子蚀刻室清洁之间的平均时间和室部件寿命的方法。半导体基片在该室中等离子蚀刻，同时使用至少一个暴露于离子轰击和/或离子化卤素气体的、烧结的氮化硅部件。等离子处理室设为包括该烧结的氮化硅部件。一种减少等离子处理过程中该硅基片的表面上金属污染物的方法提供包括一个或多个烧结的氮化硅部件的等离子处理设备。一种制造等离子蚀刻室中暴露于离子轰击和/或等离子腐蚀的部件的方法，包括成形高纯度氮化硅和二氧化硅组成的粉末成分并使该成形部件致密。
寿命消耗氮化二氧化硅等离子处理部件

[发明专利]软X射线式静电去除装置-CN202080036060.2在审
发明人：木崎原稔郎;上野幸太;吉田真;上杉宣之;饭田尚司 -专利权人：近藤工业株式会社;日本剑桥过滤器株式会社
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H05F3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种以简单的构造使离子化空气的释放量增加的软X射线式静电去除装置。软X射线式静电去除装置(1)，包括：软X射线发生装置(90)，其产生软X射线(92)；容器(10)，其供通过软X射线而被离子化的离子化空气(100)从出口(12)流出；软X射线遮蔽板材(20)，其在容器的出口使用；以及绝缘层(50)，其将软X射线遮蔽板材和容器绝缘，软X射线遮蔽板材(20)包括：采用不使软X射线通过的材料形成的第1外层板材(30)、中间层板材(34)和第2外层板材(40)，在第1外层板材形成有离子化空气的供给口(32)，在中间层板材形成有离子化空气通路(38)，该离子化空气通路(38)具有与供给口连通的离子化空气流入开口(36)，在第2外层板材形成有与离子化空气通路连通的排出口(42)，软X射线遮蔽板材具有离子化空气通过部(44)，该离子化空气通过部(44)以使供给口、离子化空气通路及排出口连通的方式设置。
射线静电去除装置