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[发明专利]HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法-CN202111613450.4有效
发明人：杨骥;鲁林峰;黄金;李东栋;杨立友;王继磊;贾慧君 -专利权人：晋能清洁能源科技股份公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法，属于太阳能电池生产技术领域。包括：将ITO旋转靶材安装在磁控溅射设备的靶位上；给磁控溅射设备抽真空，将磁控溅射设备的真空度抽至2E‑4Pa以下；将靶材的转速设置为5rap，并开启靶材旋转；以200sccm的流量向磁控溅射设备中通入Ar，以0.8‑3.5sccm的流量通入O2；开启磁控溅射设备的DC电源，调整功率为9.3kw，将打弧阈值减小为溅射工艺通用范围的50％；开启磁控溅射设备进行硅片镀膜。
hjt 电池生产操控磁控溅射设备方法

[发明专利]基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法-CN201510962160.9在审
发明人：喻波;姚舜;金春水 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： G06N3/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中磁控溅射速率空间分布的确定方法效率低，成本高的问题。本发明的反演方法，步骤如下：先选取三个到五个不同基片高度下的膜厚分布曲线，采用遗传算法反演磁控溅射源分布特性参数；然后通过得到的磁控溅射源分布特性参数计算磁控溅射速率空间分布。该方法大大减少了获得溅射速率空间分布的时间，显著降低了获得溅射速率空间分布的成本。
基于遗传算法磁控溅射速率空间分布反演方法

[发明专利]一种高透薄膜的制备方法-CN201310548946.7有效
发明人：陈路玉 -专利权人：中山市创科科研技术服务有限公司
申请日： 2013-11-07 - 公布日： 2014-03-19 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种高透薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：A、直流电源溅射Nb平面靶，在透明耐热玻璃基板上磁控溅射Nb2O5层；B、交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在Nb2O5层上磁控溅射TiO2层；C、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷靶旋转靶，在TiO2层上磁控溅射AZO层；D、直流电源溅射银平面靶，在AZO层上磁控溅射Ag层；E、直流电源溅射NiCr合金平面靶，在Ag层上磁控溅射NiCr层；F、交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在NiCr层上磁控溅射TiO2层。
一种薄膜制备方法

[发明专利]一种三维溅射镀膜装置-CN201810159056.X在审
发明人：王德苗;任高潮;顾为民;金浩;冯斌 -专利权人：苏州求是真空电子有限公司
申请日： 2018-02-26 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种三维溅射镀膜装置，包括真空腔体、磁控溅射靶组件以及搅拌锅，磁控溅射靶组件设置在真空腔体的顶部，搅拌锅设置在真空腔体的底部，搅拌锅开口与磁控溅射靶组件相对，搅拌锅内设置有搅拌桨。
搅拌锅磁控溅射靶真空腔体溅射镀膜装置三维均匀镀膜组件设置搅拌桨六面体四面体圆珠开口

[实用新型]一种蒸发溅射两用真空镀膜机-CN201920313497.0有效
发明人：潘燕萍;朱海军 -专利权人：常州市乐萌压力容器有限公司
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种蒸发溅射两用真空镀膜机。该真空镀膜机具有设置有通孔的机架，所述机架内设置有基片架，还包括蒸发装置、磁控溅射装置、真空系统和控制系统；所述蒸发装置包括设置在基片架下方的蒸发基片架和蒸发源，蒸发源与蒸发基片架间设置有挡板，挡板设在挡板转动杆上；所述磁控溅射装置包括靶体、溅射基片架和设置在挡板转动杆上的预溅射挡板；基片架一端还设置有传动杆，相邻磁控溅射装置间设置有升降式挡板和真空机械手。该种蒸发溅射两用真空镀膜机，可根据工艺要求选择真空蒸发或磁控溅射镀膜的方式；其中磁控镀膜单靶单腔，避免靶基之间的污染问题，同时采用高真空机械手进行传送片，减少了工艺腔室真空破坏，提高工作效率。
基片架挡板磁控溅射装置真空镀膜机蒸发溅射蒸发装置蒸发源转动杆磁控溅射镀膜本实用新型升降式挡板真空机械手磁控镀膜工艺腔室工艺要求工作效率控制系统污染问题真空破坏真空系统机械手传动杆高真空预溅射靶基靶体单靶单腔通孔传送

[发明专利]线圈机构及磁控溅射装置-CN201810805217.8有效
发明人：周慧蓉;张迅;郑芳平;张伯伦;易伟华 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2018-07-20 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种线圈机构及磁控溅射装置。其中，线圈机构设于磁控溅射装置内的靶材的背面，以为磁控溅射装置提供磁场环境，其特征在于，所述线圈机构包括第一线圈单元，所述第一线圈单元包括由导电线构成的环形结构以及由导线构成的条形结构，所述条形结构位于所述环形结构内上述线圈机构及磁控溅射装置，在镀膜过程中，通过调整线圈机构通入的直流电流的大小来改变磁场强度，以调整溅射速率，避免了靶材打火。
线圈机构磁控溅射装置

[发明专利]多孔电极及其磁控溅射制备方法、固体氧化物燃料电池-CN202210860268.7有效
发明人：周莉骅;王贺武;欧阳明高 -专利权人：清华大学
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01M4/88 文献下载
摘要：本发明涉及一种多孔电极及其磁控溅射制备方法、燃料电池。所述多孔电极的磁控溅射制备方法，包括如下步骤：获取基材：采用磁控溅射法进行电极材料和多孔介质材料的共溅射，于所述基材的表面形成多孔电极层。上述多孔电极的磁控溅射制备方法，利用磁控溅射的方法将电极材料和多孔介质材料进行共溅射，形成多孔电极，能够有效控制多孔电极孔道的形成，可以制备得到通孔多且排列有序、孔径较大的多孔电极，方便通入电极的气体传输到电解质表面同时，上述多孔电极的磁控溅射制备方法使得电池制造工艺简单连续，不接触大气环境，易于规模化生产。
多孔电极及其磁控溅射制备方法固体氧化物燃料电池

[实用新型]用于磁控溅射室观察窗的保护机构-CN201820864145.X有效
发明人：朱安秋 -专利权人：苏州胜利精密制造科技股份有限公司
申请日： 2018-06-05 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C23C14/52 文献下载
摘要：本实用新型公开了用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其包括：转轴(1)，转动设置在磁控溅射室外壁(4)上，其内端延伸至所述磁控溅射室内而外端延伸至所述磁控溅射室外；及遮盖板(2)，其固定在所述转轴(1)上并位于所述磁控溅射室内本实用新型提供的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，结构简单，可减少自由状态电子附着于观察窗上，减少观察窗玻璃的更换次数，降低生产成本。
磁控溅射观察窗保护机构转轴本实用新型遮盖板室外室内观察窗玻璃电子附着转动设置自由状态延伸转动覆盖观察

[实用新型]一种磁控溅射镀膜机-CN201720302687.3有效
发明人：王福贞 -专利权人：王福贞
申请日： 2017-03-27 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型是一种旋靶管型柱状非平衡闭合磁场的磁控溅射镀膜机。属于真空镀膜技术领域。在镀膜机内安装旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，相邻和对向安装的旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶靶内磁钢的磁极性反向排列，形成闭合磁场。闭合磁场可以使磁控溅射靶镀膜机内的等离子体密度提高，有利于镀制各种优异的薄膜材料。旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶和平面非平衡磁控溅射靶相比，具有结构简单、安装方便、成本低、靶材利用率高等优点。
一种磁控溅射镀膜

[发明专利]一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法-CN201410736207.5有效
发明人：谭华;秦遵红;王恋贵;董安光 -专利权人：洛阳康耀电子有限公司
申请日： 2014-11-29 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法，确保在大型连续性生产氧化铟锡膜中，通过控制对磁控溅射磁悬浮车靶的各部位的加热温度，使ITO薄膜得到整版均匀性良好的电阻，电阻率达到2×10‑4Ω/cm一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置，是由连续性真空磁控溅射镀膜设备室，真空室温控门，真空门加热器，真空门均温加热器，磁控溅射磁悬浮车靶装置，真空墙体上加热器，真空墙体中间加热器，真空墙体下加热器，真空室温控后墙体，钐钴磁铁装置构成。
一种 ito 磁控溅射磁悬浮均匀加热装置及其方法

[发明专利]磁控溅射设备及磁控管控制方法-CN201210152625.0有效
发明人：陈春伟;夏威;李杨超 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2012-05-16 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种磁控溅射设备及磁控管控制方法，磁控溅射设备包括反应腔室、靶材、磁控管、驱动机构、磁控管定位单元以及控制装置，驱动机构与控制装置连接，并根据控制装置的控制信号控制磁控管的自转速度和公转速度，磁控管定位单元用于确定磁控管的初始位置，控制装置用于根据初始位置确定磁控管的运转周期，并根据运转周期控制控制驱动机构的自转速度和公转速度，从而在磁控管通过靶材各个位置次数不变的前提下，控制磁控管在靶材单位面积上停留的时间该磁控溅射设备可以提高靶材的利用率，从而降低磁控溅射设备的运行成本；而且可以减少更换靶材的时间，从而提高磁控溅射设备的使用率。
磁控溅射设备磁控管控制方法

[发明专利]磁控溅射组件、磁控溅射设备及磁控溅射方法-CN202110684599.5在审
发明人：罗建恒;杨帆;耿宏伟;李庆明 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种磁控溅射组件，包括固定盘、旋转驱动机构和设置在固定盘上的磁控管，旋转驱动机构用于驱动固定盘旋转，磁控管包括多个磁极，多个磁极沿多条互相嵌套的螺旋状曲线依次排列，沿任一螺旋状曲线排列的多个磁极的极性与沿相邻的螺旋状曲线排列的多个磁极的极性相反本发明提供的技术方案提高了磁控管旋转产生的磁场的场强分布均匀性，进而提高了磁控溅射反应中薄膜沉积速率的均匀性。本发明还提供一种磁控溅射设备和磁控溅射方法。
磁控溅射组件设备方法

[发明专利]基于多靶材组合PVD程序的铜合金镀膜工艺-CN202310738971.5在审
发明人：杨岳红;王永江;陈猛;李子慕;杨学军;姚兴宝 -专利权人：鑫泽晟科技有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了基于多靶材组合PVD程序的铜合金镀膜工艺，具体为：对铜合金毛坯表面处理；底涂喷涂：在经过处理后铜合金毛坯表面采用UV涂料形成涂膜；磁控溅射镀金属底膜：通过磁控溅射使靶材溅射出金属离子附着在处理后铜合金毛坯表面；磁控溅射镀目标金属色：经载有有色金属靶材的腔体，通过磁控溅射使靶材溅射出金属离子附着在铜合金毛坯表面；面涂喷涂：在铜合金毛坯表面形成保护层。本发明实现的关键步骤是磁控溅射镀金属底膜以及磁控溅射镀目标色，其优势在于能够有效覆盖铜合金素材本色，再通过镀目标色赋予其更多样的色彩，完美解决磁控溅射镀膜产品因膜层较薄导致的异色问题，使铜合金真空镀膜后与其他合金镀膜后颜色具有一致性
基于多靶材组合 pvd 程序铜合金镀膜工艺

[发明专利]磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备-CN201510003435.6有效
发明人：张启平;孙文波 -专利权人：合肥京东方显示光源有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-01-05 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅射真空室进气装置及使用该进气装置的磁控溅射设备，该磁控溅射真空室进气装置包括用于接收并混合气体的混气盒、将气体通入真空室内的进气盒以及连接两者的连接管，所述混气盒具有一个或多个进气管。该进气装置可提高气体进入真空室后分布的均匀性，可提高在通入混合气体时气体混合的效果；还可有效地降低在磁控溅射镀膜进气过程中气体对真空室内精密设备的冲击力，从而延长设备的使用寿命。
磁控溅射真空室进气装置设备

[发明专利]真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机-CN201010289461.7无效
发明人：林锡强;陈孝田;鲁明辉 -专利权人：温州市佳能真空电镀设备科技有限公司
申请日： 2010-09-17 - 公布日： 2011-01-19 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的弧源装置，在真空室体上还设有磁控溅射装置。本发明有益的技术效果是：由于在真空室体上同时设有弧源装置和磁控溅射装置，在一台镀膜机上既可进行多弧离子镀膜，又可进行磁控溅射镀膜，也可同时进行两种方式的镀膜或先一种镀膜再另一种镀膜，具有一机多用、适用性广
真空磁控溅射离子复合镀膜