专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件的制造方法-CN00134730.6无效
  • 浅冈保宏;横井直树 - 三菱电机株式会社
  • 2000-10-19 - 2001-07-25 - H01L21/00
  • 半导体器件的制造方法,目的在于除去半导体器件的表面上形成的多晶膜,即在其衬底膜上不产生损伤,且不产生腐蚀残渣。在晶片的表面上成膜多晶膜。把晶片设置在分批湿腐蚀处理装置中。以包含预定混合比的氨水和双氧水及纯水的APM作为药液,开始多晶湿腐蚀(步骤100)。在湿腐蚀中途,在使用的药液中,经过预定时间追加APM(步骤104~108)。如果经过预定处理时间,那么结束APM的湿腐蚀(步骤112)。
  • 半导体器件制造方法
  • [发明专利]穿导孔的制作方法-CN201210152624.6无效
  • 吴崇熙 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2012-05-17 - 2012-10-03 - H01L21/768
  • 本发明公开一种穿导孔的制作方法,其包含:以一次干蚀刻在基板而形成环形深孔,并填入绝缘材料形成绝缘壁部;以及以一次湿蚀刻在绝缘壁部内的基板而形成柱状深孔,并填入导电金属,以便由绝缘壁部与金属柱或金属层构成一穿导孔本发明以湿蚀刻取代了现有穿导孔作法中的第二次深孔的工艺,可使得穿导孔的制作较为省时,以及整个穿导孔的制作成本得以降低,同时在湿蚀刻期间也可针对多片基板进行批次作业。
  • 硅穿导孔制作方法
  • [发明专利]高耐火低热传导复合材料-CN202210194091.1在审
  • 王家义;刘岩 - 江苏佳核新能源科技有限公司
  • 2022-03-01 - 2022-05-17 - C04B28/20
  • 本发明公开了高耐火低热传导复合材料,包括中空铝发泡耐火粒料、胶结料和纤维,中空铝发泡耐火粒料的绝对体积比为40~72%,胶结料的绝对体积比为25~40%,纤维的绝对体积比3~6%,中空铝发泡耐火粒料、胶结料和纤维利用湿拌合或者干挤压成型,中空铝发泡耐火粒料、胶结料纤维组成耐火构件。本发明通过由中空铝发泡耐火粒料、胶结料和纤维按绝对体积比所组成,利用湿拌合或者干挤压成型后,该胶结料将中空铝发泡粒料及纤维胶结住,会形成不连续多孔性质,阻绝热传导路径,因而具有耐高温及背温低的特性
  • 耐火低热传导复合材料
  • [发明专利]一种多晶薄膜表面处理方法-CN201910562548.8在审
  • 叶昱均 - 陕西坤同半导体科技有限公司
  • 2019-06-26 - 2020-12-29 - H01L21/02
  • 一种多晶薄膜表面处理方法,其步骤包括有:提供基板,基板由下而上依序包括玻璃、氮化硅层、氧化硅层及非晶层,其中在非晶层上具有原生氧化层;对基板执行第一清洗步骤,以去除在基板的表面上的杂质;对已去除杂质的基板执行第一湿蚀刻步骤,以移除在非晶层上的原生氧化层;对已移除在非晶层上的原生氧化层的基板执行第二清洗步骤,使得在非晶层上形成一层氧化层;对于具有氧化层的非晶层执行第二湿蚀刻步骤,以移除在非晶层上的部份氧化层;对基板进行水洗及干燥;以及对非晶层执行激光照射步骤,使得非晶层形成具有粗糙度表面的多晶层。
  • 一种多晶薄膜表面处理方法
  • [发明专利]一种晶圆背面减薄方法-CN201310012316.8有效
  • 李平 - 陆伟
  • 2013-01-14 - 2013-05-01 - H01L21/306
  • 本发明涉及一种晶圆背面减薄方法,特别涉及一种两步湿蚀刻的晶圆背面减薄方法,具体包括步骤一:使用强酸对晶圆背面的衬底进行湿蚀刻,一旦外延层露出,则停止蚀刻,强酸采用氢氟酸、硝酸、磷酸和硫酸的混合物,其对衬底进行湿蚀刻的速率为8-12微米/分钟;步骤二:使用选择性酸对晶圆背面的衬底和露出的外延层继续湿蚀刻至外延层完全露出,选择性酸采用氢氟酸、硝酸和醋酸的混合物,其对衬底进行湿蚀刻的速率为8-12微米/分钟,而对露出的外延层湿蚀刻速率为本发明通过两步湿蚀刻方法完成厚度约为2um、且厚度差异小于0.1微米的超薄且均匀晶圆的制备,成本较低,有较好的经济效益和性能,且不需要氧化层,速度更快,微粒较少。
  • 一种背面方法
  • [实用新型]一种湿砂粉组合装置-CN201520121214.4有效
  • 鹿立云;王晓芳;盛思仲;黄雪;段周玉 - 南京友西科技股份有限公司
  • 2015-03-02 - 2015-09-09 - B02C21/00
  • 本实用新型公开了一种湿砂粉组合装置,包括喂料机、球磨机、无纺布振动筛、料浆池、料浆泵、叠螺脱水机、无轴螺旋输送机、斗提升机、含水量测定仪;喂料机将砂粉输送至球磨机,然后向球磨机中加水,球磨机对砂粉进行粉磨在研磨砂粉的过程中,不需要对砂粉进行烘干,降低了生产成本;在球磨过程中,由于是湿磨,砂粉不会散发到空中、造成污染。料浆池中砂粉由叠螺脱水机脱水后,依次由无轴螺旋输送机、斗提升机输送至搅拌楼配料,最后送入搅拌机配置高强混凝土。因为无轴螺旋输送机、斗提升机都是封闭的。因此含水砂粉在运输过程中不会出现水分的大量蒸发,造成新的粉尘污染。
  • 一种湿磨硅砂粉组合装置
  • [发明专利]一种单晶生产废气处理系统-CN202310964186.1在审
  • 李锋;于萍萍;丁剑峰;冯成义 - 深圳市睿维盛环保科技有限公司
  • 2023-08-01 - 2023-10-13 - B01D50/60
  • 本发明提供的一种单晶生产废气处理系统,属于废气处理技术领域,包括干除尘器和湿除尘器,干除尘器开设有出气腔和进气腔,进气腔开设有多个与出气腔相连通的进气口,出气腔开设有出气口,干除尘器还设有多个除尘机构,除尘机构上设有过滤袋,湿除尘器设于干除尘器一侧,湿除尘器开设有上下依次设置的除尘腔和排水腔,除尘腔开设有第一排气口,湿除尘器还包括进气管、多个除尘管、储水箱及多个搅拌组件。本发明提供的单晶生产废气处理系统,借助干除尘器对废气进行一次除尘,之后利用湿除尘器对废气进行二次除尘,并利用搅拌组件对被气泡包裹的废气进行搅拌,不断地打碎气泡,使废气中的灰尘溶于水中,提高除尘效果
  • 一种单晶硅生产废气处理系统

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