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[发明专利]一种多通道并行超分辨激光直写系统-CN202111241111.8在审
发明人：匡翠方;孙秋媛;徐良;丁晨良;朱大钊;刘旭;马程鹏;杨臻垚 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多通道并行超分辨激光直写系统，包括：用于产生直写路光束的第一激光器、用于产生抑制路光束的第二激光器、至少一个直写‑抑制光束组合单元、二级合束模块和刻写模块，所述直写路光束和所述抑制路光束同时入射到所述直写‑抑制光束组合单元后形成一对直写‑抑制光束组合，之后再依次经过所述二级合束模块和所述刻写模块，形成直写‑抑制光斑组合。本发明将传统单路激光直写打印系统的速度成倍提升。
一种通道并行分辨激光系统

[发明专利]一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置-CN202110388124.1有效
发明人：匡翠方;朱大钊;徐良;丁晨良;刘旭;李海峰 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
一种基于调控并行分辨激光装置

[发明专利]一种激光微熔覆专用设备-CN201010562229.6有效
发明人：蔡志祥;曾晓雁;段军;张洁;李祥友;王泽敏 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： C23C24/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光微熔覆专用设备，该设备包括工作台、激光加工系统和控制系统，其特征在于，该系统还包括CCD监测定位系统和直写系统；CCD监测定位系统包括同轴CCD传感器、旁轴CCD传感器、变焦透镜、成像目镜、变焦光学系统、旁轴成像物镜和外接监视器；直写系统包括微细笔直写装置和微喷直写装置；微细笔直写装置包括支架，导轨、气缸、滑块、活塞杆、千分表、微距调节螺母和微细笔；微喷直写装置包括水浴锅、导气管、微压表和微喷工具；该设备合理设计了激光光路、微喷和微细笔的安装工位及工作方式，将激光加工与微细笔、微喷直写系统集成在同一个工作平台上，实现多种加工手段的优势互补。
一种激光微熔覆专用设备

[发明专利]一种基于二自由度平衡环的曲面微笔静电直写成形装置-CN202010436542.9有效
发明人：彭鹏;栾振宇;刘艳改;郭伟;周兴汶;王欣达 -专利权人：北京航空航天大学;中国地质大学（北京）
申请日： 2020-05-21 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H05K3/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于二自由度平衡环的曲面微笔直写成形装置，其中二自由度平衡环系统、气动导电油墨供料系统、曲面基板支撑系统均安装在平台支架上，曲面基板支撑的工作轴心与气动导电油墨供料系统的直写针头轴心重合，真空泵通过气管连接在曲面基板支撑系统的吸盘连接杆部分，电场电源正负极分别连接在气动导电油墨供料系统的直写针头部分和曲面基板支撑系统的电极部分，从而使固定在二自由度平衡环系统上的曲面基板处在直写针头与曲面基板支撑系统电极之间形成的静电电场中本发明使曲面基板的待直写区域时刻保持水平，可实现曲面基板上电路的直写成形，可以在形状比较复杂的随机曲面基板表面直写制备具有电学性能的微型电路。
一种基于自由度平衡曲面静电成形装置

[实用新型]一种激光微熔覆专用设备-CN201020628633.4无效
发明人：蔡志祥;曾晓雁;段军;张洁;李祥友;王泽敏 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： C23C24/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种激光微熔覆专用设备，该设备包括工作台、激光加工系统和控制系统，其特征在于，该系统还包括CCD监测定位系统和直写系统；CCD监测定位系统包括同轴CCD传感器、旁轴CCD传感器、变焦透镜、成像目镜、变焦光学系统、旁轴成像物镜和外接监视器；直写系统包括微细笔直写装置和微喷直写装置；微细笔直写装置包括支架，导轨、气缸、滑块、活塞杆、千分表、微距调节螺母和微细笔；微喷直写装置包括水浴锅、导气管、微压表和微喷工具；该设备合理设计了激光光路、微喷和微细笔的安装工位及工作方式，将激光加工与微细笔、微喷直写系统集成在同一个工作平台上，实现多种加工手段的优势互补。
一种激光微熔覆专用设备

[发明专利]激光直写对焦装置及激光直写对焦方法-CN201710713385.X有效
发明人：朱鹏飞;朱鸣;浦东林;李恒;赵改娜;吕帅;邵仁锦;张瑾;袁晓峰;陈林森 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种激光直写对焦装置，包括微调机构、承载平台和成像系统，微调机构与承载平台相对设置，微调机构包括微调驱动器、活动架和位移传感器，成像系统包括直写镜头，微调驱动器、位移传感器、直写镜头分别与活动架连接。本发明的激光直写对焦装置能保证直写镜头与光刻板的距离在直写镜头的焦深范围内，能解决光刻板厚度变化较大的情况下无法自动对焦的问题。本发明还涉及一种激光直写对焦方法。
激光对焦装置方法

[发明专利]保持高速缓冲存储器一致性的方法和系统-CN00118854.2无效
发明人： J·M·努内斯;T·A·彼得森;M·J·沙利文 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2000-06-15 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： G06F15/16 文献下载
摘要：在数据处理系统中直写存储操作时保持高速缓冲存储器一致性的方法和系统。通过高速缓冲存储器，将直写存储操作由特定的处理器传递到系统总线。在插入的高速缓冲存储器中进行直写存储操作。没有插在特定的处理器系统总线之间的所述多级高速缓冲存储器的所有高速缓冲存储器用所述直写操作的数据地址从系统总线的外部侦听路径侦听，直到直写操作成功，由此在完成到相同数据地址的任何其它指令之前成功地完成直写操作
保持高速缓冲存储器一致性方法系统

[发明专利]一种晶圆沟道的直写填充装备-CN202310468649.5在审
发明人：尹周平;吴豪;徐洲龙;谢斌 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆沟道的直写填充装备，属于晶圆沟道填充设备技术领域，包括有工作台、机架、移动载物台、十字模组、激光检测系统、视觉实时监控系统、直写填充装置、填充视觉监测系统；所述十字模组安装在所述机架上；所述移动载物台位于所述工作台上，带动晶圆运动至直写填充位置；所述视觉实时监控系统用于对沟道的填充过程进行实时监控；所述直写填充装置用于对晶圆沟道进行直写填充；所述填充视觉监测系统用于监测所述直写填充装置的填充高度本发明提供的晶圆沟道的直写填充装备，自动化程度高，减少了填充材料的使用量，减少了打磨面积，提高了生产效率，节约了生产成本。
一种沟道填充装备

[发明专利]一种激光直写方法和激光直写系统-CN202111637233.9在审
发明人：贾富强;丘国雄;冯涣;陈银榕;李巍伟;叶泽群 -专利权人：南光高科（厦门）激光科技有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光直写方法和激光直写系统，所述激光直写方法包括步骤：建立模板：通过激光直写软件，将直写材料的加工面上需激光直写加工内容创建在图层上；设置参数：通过激光直写软件，将加工面上的激光直写加工内容进行填充或者像素化，并设置激光参数；上料：将直写材料固定，将加工面朝向激光光束的传输方向；激光直写加工：将激光光束照射在加工面上，将激光光束与直写材料之间产生相对运动，形成激光光束对加工面的激光扫描点，将激光扫描点对加工面进行激光直写加工；能实现在例如证照票签材料上激光直写加工，并实现高质量的加工效果，及实现灰度等级、表面形貌和粗糙度等的精确控制。
一种激光方法系统

[发明专利]一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置-CN202110048105.4有效
发明人：匡翠方;温积森;刘旭;丁晨良;朱大钊 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置，包括偏振控制模块、准直扩束系统、激发光束阵列掩膜、偏振分光镜、四光束干涉形成的抑制光虚拟掩膜、聚焦高数值孔径物镜以及三维可控精密位移台等主要装置，所述的空间光调制器实时连续加载不同的计算全息图实现激发光束阵列子光束的开光，从而实现不同图案的直写。四光束两两呈一定角度干涉形成光学掩膜作为抑制光阵列，从而提高直写分辨率。这使得该系统的直写效果更加丰富，直写效率与分辨率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
一种双掩膜高通量激光分辨方法装置

[发明专利]极坐标激光直写系统单线触发解析对准方法-CN200510077455.4无效
发明人：刘俭;谭久彬;杨文国;金国良;邱丽蓉;邹丽敏;赵晨光 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2005-06-23 - 公布日： 2006-01-11 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种极坐标激光直写系统单线触发解析对准方法，该方法借助极坐标激光直写系统的差动像散检焦装置和精密定位驱动机构与伺服反馈系统，利用一块带有单刻线的基片实现直写光轴与工作台回转轴的精密对准。其中，单刻线基片包括一条刻线，基片表面经过离心涂胶，刻线宽度略大于或等于检焦光斑直径，刻线深度大于直写物镜焦深；本发明在极坐标直写系统中利用已有的检焦装置、精密定位装置，再借助一块带有刻线的基片就可以实现对准，不需要在直写系统中额外增添CCD探测器等器件或机构，具有结构简单、操作方便的优点。
坐标激光系统单线触发解析对准方法

[发明专利]超精密回转轴与激光直写机直写光轴空间对准方法-CN200510076827.1有效
发明人：谭久彬;刘俭;杨文国;金国良;邱丽蓉;邹丽敏;赵晨光 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2005-06-17 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种超精密回转轴与激光直写机直写光轴空间对准方法，该方法利用极坐标直写机系统的差动像散离焦检测装置、调焦伺服系统、精密定位机构以及位相光栅，实现回转轴与直写光轴的对准，所述方法包括以下步骤：把测量范围划分成精确测量区和定位测量区，并使定位测量区的分辨率极限值小于精确测量区的范围；借助差动像散离焦检测装置的检焦功能，使光斑处于准焦状态；产生光斑离焦产生轴对准偏离量测量信号；根据对准偏离量测量信号，使直写光轴进入所述定位测量区；测量对准偏离量，借助直写机系统精密定位机构的精密定位功能使光轴移动到所述精确测量区；再次测量对准偏离量，并借助直写机系统精密定位机构的精密定位功能实现最终对准。
精密回转激光直写机直写光轴空间对准方法

[发明专利]一种激光直写系统的曝光异常检测方法-CN202111496546.7在审
发明人：刘栋;胡传武;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光直写系统的曝光异常检测方法，所述激光直写系统设置有曝光区域和检测区域，所述曝光区域用于对工件图像进行曝光，所述检测区域用于对检测图像进行曝光，所述检测区域设置有标记点，根据所述标记点对所述检测图像进行对位曝光，获取曝光后的曝光检测图像的数据信息，根据所述曝光检测图像的数据信息对激光直写系统的曝光异常进行检测。利用检测区域对检测图像进行曝光，便于及时检测激光直写系统是否存在异常，及时处理曝光不合格的工件，减少异常板的流出，及时校正激光直写系统存在的问题，避免产生异常板，有效减少损失。
一种激光系统曝光异常检测方法

[发明专利]直写光刻系统和直写光刻方法-CN201911303595.7有效
发明人：浦东林;朱鹏飞;朱鸣;邵仁锦;张瑾;王冠楠;陈林森 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
光刻系统方法

[发明专利]一种静电纺丝近场直写射流触发系统、方法及设备-CN202310874272.3在审
发明人：张荣光;陈桪;陈新;张烜志 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及静电纺丝技术领域，公开了一种静电纺丝近场直写射流触发系统、方法及设备。本发明的系统包括静电纺丝直写针组件、收集板和驱动装置，静电纺丝直写针组件和收集板之间被施加有高压静电场，本发明通过驱动装置来触发静电纺丝直写针组件产生平行于高压静电场方向的微颤动，使得静电纺丝直写针组件的带电液滴由于高速下惯性作用对带电射流进行触发本发明能够提高射流触发的可靠性和稳定性，且可以实现多针近场直写射流触发，从而提高批量制造的实现可行性。
一种静电纺丝近场射流触发系统方法设备

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