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[发明专利]一种真空镀膜设备-CN201810457470.9有效
发明人：李纲;华冬辉;罗立珍;郑启发 -专利权人：湖南菲尔姆真空设备有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空镀膜设备，包括：真空腔，真空腔的一端为电弧离子镀膜区，另一端为磁控溅射镀膜区，电弧离子镀膜区与磁控溅射镀膜区连通；卷绕系统，包括正面电弧离子镀膜辊、反面电弧离子镀膜辊、反面磁控溅射镀膜辊、正面磁控溅射镀膜辊；镀件依次经过正面电弧离子镀膜辊、反面电弧离子镀膜辊、反面磁控溅射镀膜辊、正面磁控溅射镀膜辊；电弧离子靶组件，数量为两组，一组在正面电弧离子镀膜辊旁且朝向镀件正面，另一组在反面电弧离子镀膜辊旁且朝向镀件反面；磁控溅射靶组件，数量为两组，一组在正面磁控溅射镀膜辊旁且朝向镀件正面，另一组在反面磁控溅射镀膜辊旁且朝向镀件反面。
磁控溅射镀膜电弧离子镀膜镀件真空镀膜设备真空腔两组磁控溅射靶电弧离子卷绕系统靶组件镀膜连通应用

[发明专利]一种用于锆合金包壳上涂层的制备方法-CN201910270332.4有效
发明人：韦天国;张瑞谦;杨红艳;陈寰;杜沛南;刘然超;邱绍宇 -专利权人：中国核动力研究设计院
申请日： 2019-04-04 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明在涂层制备工艺上采用了真空电弧离子镀与磁控溅射离子镀相结合的方法。本发明首先采用真空电弧离子镀的方法在锆合金包壳上沉积涂层，以提高镀膜速率以及膜基结合力；然后，同时进行真空电弧离子镀沉积和磁控溅射离子镀沉积，生成致密的中间层，提高表面平整度；最后，单独采用磁控溅射离子镀继续沉积涂层
一种用于合金包壳上涂层制备方法

[发明专利]一种利用电弧离子镀在模具表面制备多层薄膜的方法-CN201611137139.6在审
发明人：曹玉坤 -专利权人：沈阳云美科技有限公司
申请日： 2016-12-12 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种镀膜工艺，具体涉及一种利用电弧离子镀在模具表面制备多层薄膜的方法。本发明的技术方案如下：包括如下步骤：1)模具表面等离子体氮化；2)采用电弧离子镀方式在待镀模具表面制备第一层薄膜；3)采用电弧离子镀方式在第一层薄膜上继续制备第二层薄膜；4)采用电弧离子镀方式在第二层薄膜上继续制备第三层薄膜本发明提供的一种利用电弧离子镀在模具表面制备多层薄膜的方法，能够提高锻造模具表面质量和使用寿命。
电弧离子镀制备模具表面薄膜多层薄膜第一层等离子体氮化镀膜工艺锻造模具使用寿命第三层砂处理微喷

[发明专利]一种电弧离子镀CN薄膜的方法-CN201010522818.1有效
发明人：马占吉;赵栋才;武生虎;肖更竭;任妮 -专利权人：中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所
申请日： 2010-10-26 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种电弧离子镀CN薄膜的方法，属于表面工程技术领域。在石墨电弧源工作的过程中，通过离子源辅助引入N元素，从而制备了CN薄膜；通过调节N2气流量和石墨电弧源的工作频率，可以改变CN薄膜中的N含量，获得综合性能优异的耐磨损CN薄膜；CN薄膜为非晶态，薄膜厚度可以达到3μm；采用电弧离子镀技术制备的CN薄膜可以应用于复杂曲面精密工件表面的耐磨损处理；本发明采用电弧离子镀技术制备的CN薄膜硬度大于30GPa；CN薄膜中的N元素含量可控，易于实现CN薄膜性能优化；采用电弧离子镀技术可以在复杂曲面工件表面镀
一种电弧离子镀 cn 薄膜方法

[发明专利]提高电弧离子镀沉积薄膜质量的装置-CN200810010062.5无效
发明人：肖金泉;郎文昌;孙超;宫骏;赵彦辉;杜昊;闻立时 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2008-01-09 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜制备领域，具体地说是一种提高电弧离子镀沉积薄膜质量的装置，解决由于电弧离子镀中大颗粒的存在，严重影响了涂层和薄膜的性能和寿命等问题。本发明采用双层带孔挡板放置于电弧离子镀沉积装置的靶材与基体之间，与靶材和基体同轴放置，基体后放置增强磁场的发生装置。本发明是在电弧离子镀沉积工艺中使用的简便装置，用以减少薄膜中大颗粒的含量，降低薄膜表面的粗糙度，提高薄膜的性能和寿命，达到制备高质量薄膜的要求。
提高电弧离子镀沉积薄膜质量装置

[实用新型]一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置-CN200720016782.3无效
发明人：肖金泉;郎文昌;孙超;宫骏;杜昊;赵彦辉;闻立时 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2007-12-12 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及薄膜制备领域，具体地说是一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置，解决由于电弧离子镀中大颗粒的存在，严重影响了涂层和薄膜的性能和寿命等问题。本实用新型双层带孔挡板放置于电弧离子镀沉积装置的靶材与基体之间，与靶材和基体同轴放置，基体后放置增强磁场的发生装置。本实用新型是在电弧离子镀沉积工艺中使用的简便装置，用以减少薄膜中大颗粒的含量，提高薄膜的质量，达到制备高质量薄膜的要求。
一种利用电弧离子镀沉积质量薄膜装置

[发明专利]一种中空阴极电弧离子镀涂层系统-CN200910272501.4无效
发明人：杨兵;丁辉 -专利权人：武汉大学
申请日： 2009-10-23 - 公布日： 2010-04-28 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种中空阴极电弧离子镀涂层系统，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有阴极电弧靶和工件架，所述真空室与地绝缘，真空室内壁装上靶材，与电源负极连接，形成中空阴极电弧靶；工件架位于中空阴极电弧靶所包围空间的中心区域本发明与常规电弧离子镀技术不同，本发明采用可旋转的电磁线圈产生控弧磁场，线圈旋转的转速可以通过调整电机转速进行调整。本发明对常规电弧离子镀技术进行大幅度的改进，首次提出了中空阴极电弧离子镀技术。
一种中空阴极电弧离子镀涂层系统

[发明专利]电解电极的制造工艺-CN200910133001.2有效
发明人：曹翊;和田启;细沼正志 -专利权人：培尔梅烈克电极股份有限公司
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2009-10-07 - 主分类号： C25B11/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种电解电极的制造工艺，特征在于：通过电弧离子镀方法在包括阀金属或阀金属合金的电极衬底的表面上形成包括含有晶态钽成分和晶态钛成分的阀金属或阀金属合金的电弧离子镀底涂层的工艺，含有阀金属作为主要元素的金属化合物溶液涂覆在电弧离子镀底涂层的表面上的加热烧结工艺，随后是将包括含有晶态钽成分和晶态钛成分的阀金属或阀金属合金的电弧离子镀底涂层的仅钽成分转化成非晶物质并且在含有转化后的非晶钽成分和晶态钛成分的电弧离子镀底涂层的表面上形成包括阀金属氧化物成分作为主要元素的氧化物中间层的加热烧结工艺
电解电极制造工艺

[实用新型]一种弹片式电弧离子镀引弧装置-CN201822034627.5有效
发明人：郎文昌;刘俊红;杜昊 -专利权人：苏州艾钛科纳米科技有限公司
申请日： 2018-12-05 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种弹片式电弧离子镀引弧装置，涉及电弧离子镀技术领域。其包括：引弧杆和电极触片；所述引弧杆密封穿过电弧离子镀设备的外壳本体，所述引弧杆的一端部伸入电弧离子镀设备的腔室内，另一端部安装有驱动所述引弧杆沿轴向往返运动的驱动装置；所述引弧杆和所述驱动装置上连接有根据所述引弧杆沿轴向往返运动而使所述引弧杆的电流闭合本实用新型提供了一种弹片式电弧离子镀引弧装置，用于使引弧针在与阴极靶接触时通电以瞬间短路放电，并在放电后断开电流同时实现引弧针与阴极靶的远离，从而避免引弧针的老化，增加引弧针的使用寿命。
引弧杆引弧针电弧离子镀引弧装置弹片式电弧离子镀设备轴向往返运动本实用新型电极触片驱动装置阴极靶放电电弧离子镀技术闭合断开电流使用寿命外壳本体短路断开伸入密封通电穿过老化室内驱动

[发明专利]电解电极的制造工艺-CN200910133002.7有效
发明人：曹翊;细沼正志 -专利权人：培尔梅烈克电极股份有限公司
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2009-10-07 - 主分类号： C25B11/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种电解电极的制造工艺，特征在于：通过电弧离子镀方法在包括阀金属或阀金属合金的电极衬底的表面上形成包括含有晶态钽成分和晶态钛成分的阀金属或阀金属合金的电弧离子镀底涂层的工艺，通过加热烧结所述电极衬底以使包括含有晶态钽成分和晶态钛成分的阀金属或阀金属合金的电弧离子镀底涂层的仅钽成分转化成非晶物质的加热烧结工艺，以及在包括含有转化成非晶物质的钽成分和晶态钛成分的阀金属或阀金属合金的所述电弧离子镀底涂层的表面上形成电极催化剂层的工艺。
电解电极制造工艺

[实用新型]一种离子镀枪靶材底座盘-CN201320090951.3有效
发明人：郎文昌 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2013-02-28 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及表面防护涂层制备领域，具体地说是一种用于离子镀枪装置的靶材底座盘。靶材底柱绝缘套的外侧设置离子镀枪底盘绝缘盘、离子镀枪底盘、离子镀枪底盘紧固板，离子镀枪底盘的一侧设置离子镀枪底盘紧固板，离子镀枪底盘紧固板通过靶材底柱绝缘套上的绝缘套盘与离子镀枪底盘隔开，绝缘套盘下部与离子镀枪底盘紧固板接触，绝缘套盘上部与离子镀枪底盘接触，通过密封圈形成密封，离子镀枪底盘的另一侧设置离子镀枪底盘绝缘盘。本实用新型结构简易紧凑有效，操作简便、密封性好，便于整机设计及满足工业生产对真空室内等离子体分布的各种需求，用以改善传统电弧离子镀弧源结构复杂、密封性差、难以实现特殊镀膜需求的缺点。
一种离子镀枪靶材底座

[发明专利]一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备-CN201710608226.3有效
发明人：华伟刚;曲士广 -专利权人：曲士广;华伟刚
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。本发明可将镀膜材料的阴离子导入到管内壁更深的区域。本发明解决电弧离子镀沉积深管内壁深度不够、涂层不均匀的难题，提出一种在现有电弧离子镀技术的基础上制作简单、成本低廉、易于实施的设计思路，拓展电弧离子镀技术在沉积管内壁方面的应用范围。
一种沉积内壁涂层电弧离子镀设备

[发明专利]一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法-CN201710044987.0在审
发明人：郭巧琴;李建平;郭永春;杨忠;高培虎;夏峰 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：该方法包括将轴瓦基体安装到磁控溅射设备内，并在轴瓦基体和靶材之间建立水平正交电磁场；将磁控溅射设备内部进行抽真空；转动轴瓦基体进行辉光清洗；辉光清洗后进行弧光清洗，弧光清洗时采用镍靶；对轴瓦基体的内圆面使用电弧离子镀制备镍栅层；对轴瓦基体同时使用电弧离子镀和磁控溅射离子镀进行处理，在形成的镍栅层上复合镀膜，形成轴瓦减摩镀层，其中，采用的靶材为铝铜合金靶、锡靶和碳靶。本发明利用电弧离子镀和磁控溅射离子镀技术协同制备轴瓦减摩镀层，实现了大厚度轴瓦镀层的高速沉积。
一种技术协同制备轴瓦镀层方法

[发明专利]一种过渡金属硼化物涂层及其制备方法-CN201410635526.7有效
发明人：唐永炳;蒋春磊 -专利权人：中国科学院深圳先进技术研究院
申请日： 2014-11-12 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明提供了一种过渡金属硼化物涂层及其制备方法，方法包括：将基底待沉积表面进行离子轰击清洗；将离子轰击清洗后的基底表面上用电弧离子镀形成过渡金属层；用磁控溅射与电弧离子镀共沉积的复合镀膜技术在过渡金属层上形成过渡金属硼化物涂层本发明中采用通过磁控溅射与电弧离子镀相结合的MS/AIP复合沉积工艺，得到通过过渡金属层与基底表面结合的过渡金属硼化物涂层MBx；其中过渡金属层通过电弧离子镀进行沉积，具有高的离化率和粒子能量，在沉积过程中由于负偏压的作用，可以对基底表面进行有效的离子轰击，提高了沉积粒子的动能，使表面不断沉积的粒子与表层原子发生冶金结合，最终使基底表面和沉积的过渡金属硼化物涂层MBx的结合力大大提升。
一种过渡金属硼化物涂层及其制备方法

[发明专利]压铸模具表面AlCrYN/AlCrSiN纳米复合梯度涂层及其制备方法-CN202010464982.5在审
发明人：杨兵;朱恩光;蒋佳丽;朱杨俊;卢嘉日;潘崇恩;吴伟;周林 -专利权人：宁波迈柯新材料科技有限公司
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：纳米复合梯度涂层及制备方法，涂层自压铸模具表面向外依次包括CrY结合层、CrYN的过渡层、CrYN/AlCrSiN纳米复合多层膜的支撑层、AlCrYN/AlCrSiN纳米复合多层膜的防橘皮缺陷耐磨耐温层；结合层由电弧离子镀方法制备；过渡层在氮气环境下采用电弧离子镀方法制备；支撑层采用电弧离子镀方法制备，由CrYN层和AlCrSiN层逐层交替形成，防橘皮缺陷耐磨耐温层采用电弧离子镀方法制备，由AlCrYN层和AlCrSiN层逐层交替形成
压铸模具表面 alcryn alcrsin 纳米复合梯度涂层及其制备方法

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