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[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统-CN201410838351.X有效
发明人：安德鲁·J·黑兹尔顿;迈克尔·瑟高 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-03-29 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)中环境的环境系统(26)包括流体屏障(254)和沉浸流体系统(252)。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。
包括用于沉浸光刻装置真空清除环境系统

[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统-CN201310236773.5有效
发明人：安德鲁·J·黑兹尔顿;迈克尔·瑟高 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-03-29 - 公布日： 2013-11-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件（16）与器件（30）之间间隙（246）中环境的环境系统（26）包括流体屏障（254）和沉浸流体系统（252）。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。
包括用于沉浸光刻装置真空清除环境系统

[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统-CN201310339659.5有效
发明人：安德鲁·J·黑兹尔顿;迈克尔·瑟高 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-03-29 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件（16）与器件（30）之间间隙（246）中环境的环境系统（26）包括流体屏障（254）和沉浸流体系统（252）。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。
包括用于沉浸光刻装置真空清除环境系统

[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统-CN201310235130.9有效
发明人：安德鲁·J·黑兹尔顿;迈克尔·瑟高 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-03-29 - 公布日： 2013-11-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件（16）与器件（30）之间间隙（246）中环境的环境系统（26）包括流体屏障（254）和沉浸流体系统（252）。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。
包括用于沉浸光刻装置真空清除环境系统

[发明专利]内燃发动机引入动力增压系统-CN201780048600.7在审
发明人：安德烈·埃武雷特;约翰·霍金斯 -专利权人：杰托普特拉股份有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： F02M35/10 文献下载
摘要：内燃发动机包括流体地耦接至环境流体并且具有内部横截面面积的引入管道和流体地耦接至引入管道的发动机气缸。流体放大器设置在引入管道内并且流体地耦接至环境流体和发动机气缸。放大器还流体地耦接至主流体的源，并被构造成将主流体和环境流体的至少一部分引进到发动机气缸。
流体耦接发动机气缸环境流体引入管道内燃发动机主流体放大器动力增压系统流体放大器引入

[发明专利]用于发电环境的流体-CN201910387804.4在审
发明人： M.托夫斯;G.普赖斯;P.凯恩斯;J.雷德芬;J.史密斯 -专利权人：埃沃尔技术股份有限公司
申请日： 2019-05-10 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： F03G4/00 文献下载
摘要：公开了用于电力生产的井和地热环境中的能量回收的流体类别。流体属于能够提高闭环地热系统的电力和/或热量生产的热力学效率的流体类别。公开了许多方法，其利用流体的热力学来获得最佳的能量回收。
流体能量回收闭环热力学效率地热系统电力生产热力学地热生产

[发明专利]环境模拟系统及具有其的设备-CN201911426411.6在审
发明人：高杨;邢赢;徐志良 -专利权人：北京金风科创风电设备有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： F03D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及发电技术领域，具体涉及一种环境模拟系统及具有其的设备。一种环境模拟系统用于模拟待测部件所处环境的环境参数，包括：流体通道，两端分别用于与待测部件所处的环境入口和环境出口连接；温度调节装置设在流体通道上，用于调节流体的温度；湿度调节装置用于调节流体的湿度；沙尘浓度调节装置用于调节流体的沙尘浓度；盐度调节装置用于调节流体的盐度。通过在流体通道上设置温度调节装置、湿度调节装置、沙尘浓度调节装置和盐度调节装置，能够对待测部件所处环境模拟温度参数的基础上，还能够模拟湿度、沙尘浓度和盐度，能够对待测部件所处环境的多个环境参数进行模拟，使得待测部件的测试环境能够尽可能地与实际环境相匹配。
环境模拟系统具有设备

[其他]温度测量器件-CN86107606无效
发明人： M·达尔·梅伊斯 -专利权人：陶氏化学公司
申请日： 1986-11-07 - 公布日： 1987-10-14 - 主分类号： G01K7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种测量在容器内的流体环境温度的器件和操作方法。该器件以开口于容器之内并容纳流体环境的一部分的腔体为特色。提供了为防止腔体内的流体环境的一部分与流体环境的其它部分之间的显著的对流运动的结构。提供了一种可在腔体内的一个位置移动至流体环境的其余部分中的一个位置的温度传感器。腔体保持在低于流体环境的温度。本发明还涉及到周期性测量容器内流体环境温度的操作方法。
温度测量器件

[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统-CN201610221854.1有效
发明人：安德鲁·J·黑兹尔顿;迈克尔·瑟高 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-03-29 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件(16)与晶圆(30)之间间隙(246)中环境的环境系统(26)包括流体屏障(254)和沉浸流体系统(252)。流体屏障(254)位于晶圆(30)附近。沉浸流体系统(252)输送充满间隙(246)的沉浸流体(248)。沉浸流体系统(252)收集直接位于流体屏障(254)与晶圆(30)之间的沉浸流体(248)。流体屏障(254)可以包括位于晶圆(30)附近的清除入口(286)，并且沉浸流体系统(252)可以包括与清除入口(286)流体连通的低压源(392A)。流体屏障(254)限制沉浸流体(248)的任何蒸汽(249)并且防止它干扰测量系统(22)。另外，环境系统(26)可以包括在流体屏障(254)与晶圆(30)之间引导轴承流体(290C)以相对于晶圆(30)支撑流体屏障(254)的轴承流体源(290B)。
流体屏障晶圆沉浸流体系统环境系统沉浸流体沉浸光刻装置轴承流体干扰测量系统光学组件流体连通低压源蒸汽支撑

[发明专利]一种考虑环境流体作用机制的密度流实验装置和方法-CN201910317669.6有效
发明人：林颖典;韩东睿;杨彧;袁野平;贺治国;姜书 -专利权人：浙江大学
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： G01M10/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种考虑环境流体作用机制的密度流实验装置和方法，包括电子流量阀、循环水泵、管道系统、平底实验水槽、出流稳流装置、固定水头密度流槽、控制阀、入流口、基于抵抗环境流体的密度流、抵抗机制水槽段、基于协同环境流体的密度流本发明装置所能进行的实验包括基于动态环境流体的密度流实验、基于静态环境流体的密度流实验。尤其是能同时形成抵抗机制环境流体和协同机制环境流体，两组实验同时进行，便于实验对比，减小实验偶然性，试验过程可结合多设备进行量测，可结合粒子图像测速技术以及声学多普勒测速技术等手段进行精细化水力过程试验
一种考虑环境流体作用机制密度实验装置方法

[发明专利]用于建立一空气帘幕分隔屏障的方法-CN200480005550.7无效
发明人： M·D·萨罗卡;A·A·阿拉亚里 -专利权人：开利商业冷藏公司
申请日： 2004-01-06 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： A47F3/04 文献下载
摘要：公开了一种用于在一个有一处于第一状态的流体的第一环境和一个有一处于第二状态的流体的第二环境之间的界面处建立一分隔屏障的方法。沿该第一环境和第二环境之间的第一路径(45)引导一第一流体流(55)，同时沿该第一流体流和第二环境之间的第二路径(75)引导一第二流体流(65)。在该第一流体流和第二流体流之间保持一种所要的参数关系，由此减少流体从第一和第二环境中的任一个到第一和第二环境中的另一个的通过。
用于建立空气帘幕分隔屏障方法

[实用新型]一种增强现实显示设备以及护目镜-CN202021548112.8有效
发明人：杨宁 -专利权人：歌尔光学科技有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： G01P5/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种增强现实显示设备以及护目镜，包括AR显示设备本体，以及设置在AR显示设备本体上的流体测速装置；流体测速装置用于检测AR显示设备本体所在环境中气态流体和/或液态流体的流动速度；AR显示设备本体用于向佩戴者显示流动速度本发明所提供的增强显示设备中，设置有可测环境中流体流速的流体测速装置，该流体测速装置可以实现佩戴者所在环境中风速或水速的测量，在一定程度上扩展增强显示设备的功能，为用户提供更为全面的环境数据，提升用户的使用体验
一种增强现实显示设备以及护目镜

[发明专利]用于密封涡轮机内部环境的设备-CN201480075887.9有效
发明人： G.马里奥蒂;R.焦尔达诺;L.比安科 -专利权人：诺沃皮尼奥内股份有限公司
申请日： 2014-12-16 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： F01D25/18 文献下载
摘要：一种用于密封涡轮机内部环境的设备(1)，包括：第一腔(2)，其能够以流体连通的方式与涡轮机(100)的高压环境(HP)连接，以便工作流体可从高压环境(HP)流到第一腔(2)；第二腔(3)，其与润滑回路(106)流体地连通，以便润滑剂可从润滑回路(106)流到第二腔(3)；第一腔(2)和第二腔(3)与彼此流体连通地布置，以便工作流体可从第一腔(2)流到第二腔(3)；返回管线(4)，其用于工作流体，与第一腔(2)流体地连通，且能够以流体连通的方式与涡轮机(100)的低压环境(LP)连接，以便工作流体可从所述第一腔(2)流到所述低压环境(LP)；低压调节装置(5)，其沿着返回管线(4)，构造成提供预定压降。
用于密封涡轮机内部环境设备

[发明专利]衬底运送器-CN201810456586.0有效
发明人： D.巴布斯;R.T.卡夫尼;R.C.梅;K.A.马查克 -专利权人：博鲁可斯自动化美国有限责任公司
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：衬底运送系统包括：载体，其具有壳体以及门，壳体形成内部环境，内部环境具有开口，以保持至少一个衬底，门用于将开口与外部气氛密封开，其中在被密封时，内部环境构造成保持其中的内部气氛，壳体包括流体贮存器，其在内部环境的外部且构造成容纳流体，从而在流体贮存器中形成与内部气氛不同的气氛，以形成流体阻隔密封件，其将内部环境与载体外部的环境密封开。
衬底运送

[发明专利]衬底运送器-CN201480017533.9有效
发明人： D.巴布斯;R.T.卡夫尼;R.C.梅;K.A.马查克 -专利权人：布鲁克斯自动化公司
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：衬底运送系统包括：载体，其具有壳体以及门，壳体形成内部环境，内部环境具有开口，以保持至少一个衬底，门用于将开口与外部气氛密封开，其中在被密封时，内部环境构造成保持其中的内部气氛，壳体包括流体贮存器，其在内部环境的外部且构造成容纳流体，从而在流体贮存器中形成与内部气氛不同的气氛，以形成流体阻隔密封件，其将内部环境与载体外部的环境密封开。
内部环境壳体流体贮存器衬底密封外部开口衬底运送系统环境密封流体阻隔密封件运送器流体容纳

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