专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]极紫外光刻投影曝光光学系统-CN202210014886.X有效
  • 李艳秋;闫旭;刘丽辉;刘克 - 北京理工大学
  • 2022-01-07 - 2022-11-29 - G03F7/20
  • 本发明提供一种极紫外光刻投影曝光光学系统,包含照明模块和成像模块两部分,其中成像模块的设计使用了基于真实光线追迹的分组移动双向构造法,分组设计可以将复杂的系统分解为多个简单的子系统分别进行设计,即将整体系统众多未知参数分解到每一组中进行求解,由于分组后子系统较原系统待求参数数量大大减小,因此可以根据每一组的结构特点,使用现有经典光学基础定律进行求解,大大的减小了系统求解的计算量,该方法可以快速有效的实现NA0.33成像模块的设计,满足极紫外光刻物镜系统高数值孔径
  • 紫外光刻投影曝光光学系统
  • [发明专利]一种应用于5G最小二乘定位的自适应伪逆计算方法-CN202310505402.6在审
  • 冯洲武;赵昆;郑正奇 - 华东师范大学
  • 2023-05-06 - 2023-09-08 - G06F5/01
  • 本发明公开了一种应用于5G最小二乘定位的自适应伪逆计算方法,其特点是将伪逆算法、其预处理中使用的高资源占用模块的输入移位到除符号位的最高位为一,利用到该模块的资源,获得更高的精度,自适应伪逆计算具体包括:将矩阵A和A的转置求出、根据AAT矩阵求解其行列式|AAT|、通过自适应模块将1和|AAT|移位到最高为不为零、求解1/|AAT|和(AAT)‑1求解A的伪逆本发明与现有技术相比具有对广义矩阵进行求逆,通过自适应移位提高对计算时有效位数的利用,从而提高硬件求解器的资源利用,更好的满足5G计算延迟低、硬件资源消耗少的要求,达到节省硬件求解器的资源和提高精度的效果
  • 一种应用于最小定位自适应计算方法

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