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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]半导体装置的制造方法-CN200810145438.3有效
发明人：古泽健志;三浦典子;后藤欣哉;松浦正纯 -专利权人：株式会社瑞萨科技
申请日： 2005-07-06 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供一种制造使用有机硅氧烷类绝缘膜且电特性优良的半导体装置的方法。具备在半导体衬底上形成的多层布线结构的半导体装置中，该多层布线结构具有层间绝缘膜，该层间绝缘膜至少部分具备相对介电常数小于等于3.1且硬度大于等于2.7GPa的有机硅氧烷类绝缘膜。此外，该有机硅氧烷类绝缘膜中碳原子数与硅原子数之比大于等于0.5小于等于1.0。另外，该多层布线结构在有机硅氧烷类绝缘膜的上面具有从有机硅氧烷类绝缘膜中进行脱碳并且使碳原子数与硅原子数之比小于等于0.1的绝缘层。
半导体装置制造方法

[发明专利]半导体装置及其制造方法-CN200510082522.1有效
发明人：古泽健志;三浦典子;后藤欣哉;松浦正纯 -专利权人：株式会社瑞萨科技
申请日： 2005-07-06 - 公布日： 2006-02-01 - 主分类号： H01L23/532 文献下载
摘要：本发明提供一种制造使用有机硅氧烷类绝缘膜且电特性优良的半导体装置的方法。具备在半导体衬底上形成的多层布线结构的半导体装置中，该多层布线结构具有层间绝缘膜，该层间绝缘膜至少部分具备相对介电常数小于等于3.1且硬度大于等于2.7GPa的有机硅氧烷类绝缘膜。此外，该有机硅氧烷类绝缘膜中碳原子数与硅原子数之比大于等于0.5小于等于1.0。另外，该多层布线结构在有机硅氧烷类绝缘膜的上面具有从有机硅氧烷类绝缘膜中进行脱碳并且使碳原子数与硅原子数之比小于等于0.1的绝缘层。
半导体装置及其制造方法

[发明专利]一种FeMn双金属单原子氧还原催化剂及其制备方法与应用-CN202011521861.6有效
发明人：余宇翔;李杰;蒋军生 -专利权人：华南理工大学
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H01M4/90 文献下载
摘要：本发明公开了一种FeMn双金属单原子氧还原催化剂及其制备方法与应用。该制备方法包括如下步骤：将含氮碳基底、氮源、配体、造孔剂和金属盐在乙醇中分散，然后经蒸发干燥、研磨、煅烧得到多孔碳负载的FeMn双金属单原子氧还原催化剂。本发明所提供的氧还原电催化剂以非贵金属Fe‑Nx和Mn‑Nx作为活性位点，其中铁元素和锰元素都以单原子的形式均匀分布，有效提高了原子利用率，同时在氧还原反应中展现出了优异的催化活性和稳定性，对开发新型氧还原催化剂和燃料电池具有重要的理论和实际意义
一种 femn 双金属原子还原催化剂及其制备方法应用

[发明专利]过氧化氢制造用贵金属催化剂和过氧化氢的制造方法-CN201780036190.4在审
发明人：石原达己;池田英俊;君塚健一;奥田典和 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社;国立大学法人九州大学
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： B01J27/13 文献下载
摘要：该贵金属催化剂是在使氢和氧直接反应而获得过氧化氢的方法中使用的贵金属催化剂，包含钯、金、氧原子和溴原子，上述氧原子和溴原子存在于贵金属催化剂的最外表面；并且，该过氧化氢的制造方法包括：在反应介质中导入包含氢和氧的气体的步骤，和在反应介质中，使导入的氢和氧与上述的贵金属催化剂在0.1MPa以上的压力下接触而获得过氧化氢的步骤。
贵金属催化剂过氧化氢的制造氧原子溴原子过氧化氢直接反应最外表面

[发明专利]外部添加剂颗粒和调色剂-CN202111228866.4在审
发明人：白川润;长谷川和香;丸山晶夫 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03G9/08 文献下载
摘要：该聚合物包含乙烯基聚合物部分和硅氧烷部分。外部添加剂颗粒中的硅原子数相对于碳原子数、氧原子数和硅原子数的总和的比例为4.0％以上且25.0％以下，并且通过X射线光电子能谱检测到外部添加剂颗粒的表面中包含硫原子。
外部添加剂颗粒调色

[发明专利]制备（杂）芳胺的方法-CN200580024084.1无效
发明人：玛堤丽达·玛丽亚·亨瑞克娜·蓝伯斯;斌·蓝格德;安德里亚斯·翰德里克斯·玛丽亚·弗里斯德;乔纳斯·盖尔杜斯·弗里斯德;纳特斯卡·斯里尼吉 -专利权人：帝斯曼知识产权资产管理有限公司
申请日： 2005-07-15 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： C07C209/10 文献下载
摘要：本发明涉及制备(杂)芳胺的方法，其中可选取代的(杂)芳族溴化物化合物与亲核有机含氮化合物在碱和包含铜原子或离子和至少一种配体的催化剂的存在下接触，所述配体包含至少一个配位氧原子，并且如果所述氧原子是OH基的一部分，则所述OH基与脂族sp³碳原子或乙烯基碳原子相连接。
制备方法

[发明专利]光掩模坯料和制备光掩模的方法-CN201811342214.1在审
发明人：稻月判臣;笹本纮平;松桥直树 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：该含铬膜包括由含氧或者氧和氮的含碳的铬化合物组成的层。该层的碳/铬原子比是0.3以上，氮/铬原子比是0.1以下，铬含量是50at％以下且碳/氧原子比是0.8以上，或铬含量是60at％以下且碳/氧原子比是1以上。通过干法刻蚀含铬膜将光掩模坯料加工成光掩模。
光掩模坯料光掩模含铬铬原子氧原子制备干法刻蚀铬化合物衬底含氧透明加工

[发明专利]一种基于聚硅氧烷的注射针涂层用溶剂组合物-CN201410694394.5有效
发明人：孙更生 -专利权人：孙更生
申请日： 2014-11-27 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： C09D7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于聚硅氧烷的注射针涂层用溶剂组合物，该溶剂组合物由反式-1，2-二氯乙烯、4-氯三氟甲苯和含有1个碳原子的醇、2个碳原子的醇、3个碳原子的醇、4个碳原子的醇中至少一种复配组成。该溶剂组合物复配简单、方便,具有无闪点、聚硅氧烷溶解能力强等特点。通过该溶剂组合物溶解、稀释后的聚硅氧烷溶液在注射针表面涂布性良好。
一种基于聚硅氧烷注射针涂层溶剂组合

[发明专利]一种抗原子氧聚酰亚胺材料的制备方法-CN201810867217.0有效
发明人：王金桢;张媛媛 -专利权人：义乌市诠铈新材料有限公司
申请日： 2018-08-02 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： C08G73/10 文献下载
摘要：本发明涉及材料制备领域，具体关于一种抗原子氧聚酰亚胺新材料的制备方法；本发明方法公开的一种抗原子氧聚酰亚胺新材料的制备方法，本方法用双(对氟苯基)苯基磷氧和2‑(4‑氨基苯基)‑2‑（4‑羟基苯基）六氟丙烷合成了一种功能性二胺单体，该单体分子结构中含有三苯基膦氧结构和含氟基团，用这种功能性二胺单体与二酐单体制备的聚酰亚胺材料不仅具有优异的热稳定性能、阻燃性能和良好的光学透过性能，而且能在原子氧的作用下在聚合物表面聚集成一层富含磷的保护层，阻碍原子氧进一步侵蚀，是一种有前途的低地球轨道航天器材料。
一种抗原聚酰亚胺材料制备方法

[发明专利]用于气体分离的超渗透膜-CN201180033913.8无效
发明人：刘哲宏;钟台生;刘松林;邵路;夏建中 -专利权人：新加坡国立大学
申请日： 2011-07-08 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： C08G65/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种单体，所述单体包含：(i)具有20-1000个碳原子和10-500个氧原子的聚环氧烷主链，所述碳/氧比率为1∶1-10∶1；(ii)附连于所述主链的1至100个聚环氧烷侧链，其中每个链具有10-500个碳原子和5-250个氧原子，所述碳/氧比率为1∶1-10∶1；和(iii)同样附连于所述主链的1至8个交联基团，每个交联基团具有2至4个结合部分。
用于气体分离渗透

[发明专利]硅氧烷化合物及其制备方法-CN201880050484.7在审
发明人：冈村薰 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-07-20 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： C07F7/08 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种单体化合物及其制备方法，所述单体化合物是具有聚硅氧烷结构的聚合性单体，其可以给予在具有作为眼科用器件有益的高透氧性的同时具有充分的相容性和耐水解性的聚合物。式(1)所表示的硅氧烷化合物，其特征在于：该化合物在硅氧烷链的一个末端具有自由基聚合性基团，在另一个末端具有碳原子数1～10的烷基，在该自由基聚合性基团与硅氧烷链的键合部具有可以包含选自醚键和氨基甲酸乙酯键的一种以上的、碳原子数2～20的二价烃基，且与碳原子键合的氢原子的一部分为可被羟基取代的基团，以及具有式(3)所表示的亲水性基团作为与硅氧烷链的硅原子键合的取代基。
硅氧烷化合物及其制备方法

[发明专利]固化性有机硅组合物、密封材料和光半导体装置-CN202110792373.7在审
发明人：松崎真弓;竹内绚哉 -专利权人：杜邦东丽特殊材料株式会社
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C09J183/07 文献下载
摘要：【技术方案】本发明通过如下固化性有机硅组合物来解决上述课题，其包含：(A‑1)芳基在全部硅原子键合官能团中所占的量超过30摩尔％的树脂状含烯基有机聚硅氧烷；(A‑2)芳基在全部硅原子键合官能团中所占的量超过30摩尔％的直链状含烯基有机聚硅氧烷；(B)基于全部有机聚硅氧烷成分的总质量含有2质量％以下且芳基在全部硅原子键合官能团中所占的量为30摩尔％以下的直链状有机聚硅氧烷、或含铈有机聚硅氧烷；(C)与(B)成分不同且每一分子中含有至少两个硅原子键合氢原子的有机氢聚硅氧烷；以及(D)氢化硅烷化反应用催化剂。
固化有机硅组合密封材料半导体装置

[发明专利]有机硅氧烷组合物及其用途-CN201580048977.3有效
发明人： S·斯威尔;魏彦虎 -专利权人：美国陶氏有机硅公司
申请日： 2015-07-28 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：本公开提供了一种由硅氢加成可固化组合物制备有机硅氧烷聚合物组合物的方法，所述硅氢加成可固化组合物至少包含组分(a)和(b)并且包含组分(c)和(d)中的至少一者：(a)含脂族不饱和基团的有机硅氧烷树脂材料；和(b)包含多个硅原子键合氢原子的有机硅氧烷交联剂(如“SiH硅氧烷”)；结合下列组分中的至少一者：(c)至少一种包含至少两个硅原子键合氢原子的有机硅氧烷；和(d)至少一种包含至少两个具有脂族不饱和基团的硅原子键合烃基的有机硅氧烷(如，“二乙烯基官能化硅氧烷”)。
有机硅组合及其用途

[发明专利]采用臭氧等离子体的氧自由基增强的原子层沉积-CN201510103249.X在审
发明人： A·W·泽弗洛普洛 -专利权人：超科技公司
申请日： 2015-03-10 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用臭氧等离子体的氧自由基增强原子层沉积。具体地，公开了一种在位于反应室内部的衬底表面上进行氧自由基增强的原子层沉积过程的方法。该方法包括形成臭氧等离子体以产生氧自由基O*。该方法还包括按顺序供给该氧自由基和前体气体进入反应室的内部以在衬底表面上形成氧化物膜。还公开了一种用于进行氧自由基增强的原子层沉积过程的系统。
采用臭氧等离子体自由基增强原子沉积

[发明专利]对液体除气的方法-CN201080045179.2有效
发明人： W·布格尔;L·埃斯特尔鲍尔;H·劳特舍克 -专利权人：瓦克化学股份公司
申请日： 2010-09-29 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： B01D19/04 文献下载
摘要：％的支链聚醚-聚硅氧烷共聚物对所述液体除气的方法，所用的支链聚醚-聚硅氧烷共聚物中聚醚基团通过烃基与线性硅氧烷链SiC键合，并且这些硅氧烷链通过SiC键合的有机基互相连接，所述有机基优选是二至十价，更优选二至四价的烃基，其可以包含一个或多个选自氧原子和氮原子的杂原子。
液体方法

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