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[发明专利]用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷-CN201810128979.9有效
发明人：萧满超;M·R·麦克唐纳;雷新建;王美良 -专利权人：弗萨姆材料美国有限责任公司
申请日： 2018-02-08 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C07F7/21 文献下载
摘要：本文公开了具有至少两个硅原子和两个氧原子以及有机氨基基团的氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷以及用于制备所述低聚硅氧烷的方法。本文还公开了使用所述有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷沉积含硅和氧的膜的方法。
用于沉积含硅膜有机氨基官能线性环状低聚硅氧烷

[发明专利]具有抗糖尿病活性的杂环化合物及其制备和用途-CN95105765.0无效
发明人：Ｔ·藤田;Ｋ·藤本;Ｔ·吉冈;Ｈ·柳泽;Ｔ·藤原;Ｈ·堀越;Ｍ·大口;Ｋ·和田 -专利权人：三共株式会社
申请日： 1995-04-11 - 公布日： 2001-01-03 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：式（Ⅰ）化合物$［其中Ｘ代表未被取代或取代的吲哚基，二氢吲哚基，氮杂吲哚基，氮杂二氢吲哚基，咪唑并吡啶基或咪唑并嘧啶基；Ｙ代表氧原子或硫原子；Ｚ代表２，４－二氧杂噻唑烷－５－亚基甲基，２，４－二氧杂噻唑烷－５－基甲基，２，４－二氧杂恶唑烷－５－基甲基，３，５－二氧杂恶二唑烷－２－基甲基或Ｎ－羟基脲甲基；Ｒ代表氢原子，烷基，烷氧基，卤原子，羟基，硝基，芳烷基或未被取代或取代的氨基；ｍ是１—５的整数］具有降血糖和抗糖尿病活性
具有糖尿病活性杂环化合物及其制备用途

[发明专利]硅酮相容性光引发剂-CN201280077483.4在审
发明人：李志明;张勇;J·李;Z·陆;陆征 -专利权人：汉高股份有限及两合公司;汉高知识产权控股有限责任公司
申请日： 2012-12-05 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： C07F7/18 文献下载
摘要：本发明提供由下式(I)表示的化合物：CCOSi*O R 2R 3R(I)，其中-R和R2各自独立地表示具有1-12个碳原子的烷基或者具有5或6个碳原子的环烷基，或者R和R²连同它们所连接的碳原子一起形成具有5或6个碳原子的脂环族环，-Si*表示有机聚硅氧烷基团，所述有机聚硅氧烷基团通过该基团的硅原子结合到式(I)中所示的氧，或者表示硅烷基SiR4RR6，其中R4、R和R6各自独立地表示具有1-12个碳原子的烷基、具有5或6个碳原子的环烷基或具有6-10个碳原子的芳基，并且-R3表示氢原子或由下式(II)表示的基团：CCOSi**O CH 2R 8R 7(II)，其中-R7和R8各自独立地表示具有1-12个碳原子的烷基或者具有5或6个碳原子的环烷基，或者R7和R8连同它们所连接的碳原子一起形成具有5或6个碳原子的脂环族环，并且-Si**表示有机聚硅氧烷基团，所述机聚硅氧烷基团通过该基团的硅原子结合到式(II)中所示的氧，或者表示硅烷基SiR9R10R11，其中R9、R10和R11各自独立地表示具有1-12个碳原子的烷基、具有5或6个碳原子的环烷基或具有6-10个碳原子的芳基，本发明还提供所述化合物的制备方法以及其作为光引发剂和/或光敏剂的用途
硅酮相容性引发

[发明专利]氧化硅沉积方法-CN202111067315.4在审
发明人： V.沙尔玛;D.基亚佩;E.托伊斯;V.马德希瓦拉;M.图米恩;C.德泽拉;M.吉文斯;T.布隆贝格 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：该方法包括：在反应室中提供衬底；在反应室中提供硅前体，硅前体包括连接到至少一个氧原子的硅原子，至少一个氧原子连接到碳原子；以及在反应室中提供包含氢原子的反应物，以在衬底上形成氧化硅。
氧化沉积方法

[发明专利]一种制备空间原子氧防护涂层的设备及方法-CN201910641800.4有效
发明人：陈绍广;杨广;马聚沙;王凯;杨洪东;刘智;苏宝法;尤黔林 -专利权人：上海空间电源研究所
申请日： 2019-07-16 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种制备空间原子氧防护涂层的设备及方法，属于太阳能电池阵原子氧防护技术领域。本发明的方法能够在刚性、柔性太阳电池阵正表面喷涂制作防原子氧硅橡胶涂层，实现工程化应用，提高了刚性、柔性太阳电池阵稳定性和原子氧防护水平；喷涂面积大，有效提高刚性、柔性太阳电池阵的防护面积；且喷涂效率高
一种制备空间原子防护涂层设备方法

[实用新型]一种氧原子杀菌消毒器-CN97217309.9无效
发明人：邓鸿模;虞锦岚;唐成美;张军;李保忠;牟启云 -专利权人：中国人民解放军昆明陆军学院
申请日： 1997-05-05 - 公布日： 1999-07-14 - 主分类号： A61L9/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种高压静电氧原子杀菌消毒器,属消毒装置领域。由机壳、气泵、定时器、高压静电电源、氧原子发生器、气水混合器等组成,氧原子发生器由金属圆筒及其心部的金属丝,盖于金属圆筒两端并带有导气管的两个绝缘套组成,金属丝及金属筒分别与高压静电电源高压输出极及零线相连具有结构简单、产生氧原子浓度高、效率高、功耗小、成本低、无污染、使用效果好等优点、广泛用于空气、物品、水及各种场合的消毒杀菌。
一种氧原子杀菌消毒器

[发明专利]图案化材料、图案化组合物和图案形成方法-CN202110402526.2在审
发明人：张磊;仪晓凤;王迪;张宇 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2021-04-14 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本申请的图案化材料具有金属氧团簇骨架、辐射敏感性有机配体和第二配体，所述辐射敏感性有机配体经由配位原子而与金属M配位，所述配位原子为选自氧原子、硫原子、硒原子、氮原子、磷原子中的至少一种，并且所述辐射敏感性有机配体为单齿配体或者为两齿以上的配体
图案材料组合形成方法

[发明专利]光学膜、偏振片及液晶显示装置-CN201380010749.8有效
发明人：中原一成;木内宏佳;福坂洁;铃木隆嗣 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2013-02-14 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： C08L101/00 文献下载
摘要：通式(1)中，X₁表示氧原子或硫原子，Y₁表示氧原子、硫原子、氮原子或NR₄₁，Z₁表示氧原子、氮原子、或硫原子。R₄₁表示氢原子或取代基。k1表示1～5的整数。m1表示0～4的整数。n1表示0～4的整数。虚线部分表示单键或者双键。
光学偏振液晶显示装置

[发明专利]新型吡啶衍生物及嘧啶衍生物(2)-CN200580001923.8无效
发明人：松岛知广;高桥惠子;船坂势津雄;尾叶石浩 -专利权人：卫材株式会社
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： C07D213/75 文献下载
摘要：R²及R³表示氢原子。R⁴、R⁵、R⁶及R⁷相同或不同，表示氢原子、卤原子、C_1－6烷基等。R⁸表示氢原子等。R^9b表示3～10元非芳香族杂环基等。V¹表示氧原子等。V²表示氧原子或硫原子。X表示式－CH＝表示的基团或氮原子等。Y表示氧原子等。
新型吡啶衍生物嘧啶

[发明专利]新型吡啶衍生物及嘧啶衍生物(1)-CN200580001760.3无效
发明人：松岛知广;高桥惠子;船坂势津雄;尾叶石浩 -专利权人：卫材株式会社
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： C07D213/75 文献下载
摘要：R²及R³表示氢原子。R⁴、R⁵、R⁶及R⁷相同或不同，表示氢原子、卤原子、C_1－6烷基等。R⁸表示氢原子等。R⁹表示C_1－6烷基等。V¹表示氧原子等。V²表示氧原子或硫原子。X表示式－CH＝表示的基团或氮原子等。Y表示氧原子等。
新型吡啶衍生物嘧啶

[发明专利]有机聚硅氧烷水分散体的制备-CN200710185093.X无效
发明人： O·施奈德;U·谢姆 -专利权人：瓦克化学股份公司
申请日： 2007-11-08 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： C08G77/04 文献下载
摘要：一种制备有机聚硅氧烷的方法，通过：(a)使包含可缩合基团且具有通式(I)的有机聚硅氧烷(1)与通式(II)的硅烷(2)或其水解产物在水(3)和乳化剂(4)的存在下反应，其中R是具有1－18个碳原子的一价烃基，R¹是氢原子或具有1－8个碳原子的烷基，优选氢原子，x是10－1100的整数，优选20－700，更优选30－500，其中R²是氢原子或具有1－4个碳原子的一价烷基的基，其中R⁴是任选含有氮原子和/或氧原子的具有1－18个碳原子的一价烃基，R⁵是任选含有氮原子和/或氧原子的具有3－12个碳原子的二价烃基，(b)在反应(a优选在反应(a)之后任选加入粘合促进剂(6)，以及(d)在反应(a)的过程中或在反应(a)之后，优选在反应(a)之后任选加入不参与反应(a)的其它材料(7)，条件是使用不含金属的催化剂，并且所述有机聚硅氧烷(1)与硅烷(2)的用量使得在除去水(3)之后所述有机聚硅氧烷形成不溶于甲苯中的弹性体薄膜。
有机聚硅氧烷水分散体制备

[发明专利]硅晶片用研磨液组合物-CN201480057685.1有效
发明人：内田洋平;西田一博 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2014-10-21 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的硅晶片用研磨液组合物含有二氧化硅粒子0.01～0.5质量％、含氮碱性化合物、及水溶性高分子，水溶性高分子包含下述通式(1)所表示的结构单元，于水溶性高分子中，源自羟基的氧原子数与源自聚氧亚烷基的氧原子数之比(源自羟基的氧原子数/源自聚氧亚烷基的氧原子数)为0.8～10。
晶片研磨组合

[实用新型]一种易调节化学分子式模型-CN201620079941.3有效
发明人：林肖和 -专利权人：林肖和
申请日： 2016-01-27 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： G09B23/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种易调节化学分子式模型，包括第一氢原子、第一碳原子、氧原子和第二氢原子，所述第一氢原子与第一碳原子通过第一连接杆连接，所述第一碳原子与第二碳原子通过第二连接杆连接，所述第二碳原子的右端和氧原子的左端固定有第一固定杆，所述氧原子的右端和第二氢原子的左端固定有第二固定杆，所述第一氢原子、第一碳原子、第二碳原子、第一连接件和第二固定杆上设置有内螺纹，所述第一连接杆、第一固定杆和第二连接件上设置有外螺纹。
一种调节化学分子式模型

[发明专利]共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物及共轭二烯系聚合物的制造方法-CN201110047048.4无效
发明人：伊藤真;大岛真弓;稻垣胜成 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2011-02-24 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： C08F236/10 文献下载
摘要：聚合物的至少一端被下述式(2)所示的化合物改性，在此，r为0或1，R¹表示具有选自由氮原子、氧原子及硫原子构成的原子组中的至少一种原子的基团或碳原子数为1～10的烃基，R²表示具有选自由氮原子、氧原子及硫原子构成的原子组中的至少一种原子的基团，在此，n表示1～10的整数，R³、R⁴及R⁵分别表示碳原子数为1～10的烃基或碳原子数为1～10的烃氧基，R³、R⁴及R⁵中的至少一个为烃氧基，R⁶表示具有选自由氮原子、氧原子及硫原子构成的原子组中的至少一种原子的基团
共轭二烯系聚合物组合制造方法

[发明专利]一种高致密复合型原子氧防护薄膜-CN202211234011.7在审
发明人：李毅;李中华;何延春;王志民;李林;王虎;杨淼;王兰喜;高恒蛟;王艺;赵琳;赵印中;成功 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2022-10-10 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种高致密复合型原子氧防护薄膜。Sub>种子层上设计厚度为200～600nm的硅氧烷涂层。本发明的优点在于：SiOx种子层可以有效降低硅氧烷涂层中的微观缺陷，防止形成原子氧剥蚀通道。SiOx帽子层可以有效遮盖硅氧烷表面孔洞、裂纹等缺陷，同时增强原子氧防护性能。为低轨道、超低轨道卫星长期在轨运行提供原子氧防护方法，保证长寿命、低轨道卫星在轨性能和使用寿命。
一种致密复合型原子防护薄膜