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[发明专利]一种投影拼合式3D打印方法和3D打印装置-CN201910326731.8在审
发明人：何宇浩;高磊;高子行 -专利权人：上海幻嘉信息科技有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： B29C64/124 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影拼合式3D打印方法和3D打印装置，3D打印方法包括如下步骤，先切片处理要打印的三维模型，并根据三维模型的尺寸大小长宽等比例切分每一层的切片，形成由若干个大小相同、顺序排列的矩形阵列；再获取每层待打印的三维模型的图像数据；然后在设定的时间段，根据矩形阵列顺序排列矩形，逐个曝光矩形阵列的每个矩形，直至该层的所有矩形的图像曝光完毕。当处于一层的图像曝光完毕后，图像曝光平面下降到下一层打印高度，实现下一层图像的曝光，逐层打印直至完成产品打印。解决了现有采用数字光处理技术进行3D打印的设备的打印产品的尺寸不够大的问题。
打印矩形阵列三维模型图像曝光打印装置拼合式投影数字光处理曝光产品打印切片处理图像数据时间段切片图像

[发明专利]一种广告优化方法-CN201811327187.0在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：蒋小军
申请日： 2018-11-08 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： G06Q30/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种广告优化方法，在服务器端，包括建立广告数据库，该数据库至少包括广告ID及对应的推广链接信息；针对一种或多种客户端应用软件的广告位置设定多个广告的初始投放顺序；在推广链接信息网页嵌入Javascript采集代码，采集广告ID对应网页的被访问记录信息生成曝光数和点击数，服务器端根据用户的点击行为和广告曝光程度在服务器端实时对相应广告的曝光数、点击数进行累计；设定规则，在预设时间内计算每个广告ID的曝光书和点击数以及对应的点击价格和曝光价格计算其收益比；继而按照收益比的高低顺序播放网页；本发明利于实现广告平台投放的收益最大化。
一种广告优化方法

[发明专利]一种静态场景下细节保持多曝光图像融合算法-CN202011064707.0在审
发明人：罗林欢;梁国开;熊国锟;邓国豪;刘剑;白徐欢;陈小倩 -专利权人：广东电网有限责任公司广州供电局
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： G06T5/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种静态场景下细节保持多曝光图像融合算法，首先获取静态场景下的多幅曝光图像；将所述曝光图像按曝光度递增的顺序输入曝光序列；根据所述输入曝光序列中的曝光图像的每个像素的曝光度参数计算曝光图像的绝对曝光权重得到权重分布图；对权重分布图中的像素进行阈值处理，保留适度曝光像素；用多分辨率融合工具对阈值处理后的权重分布图进行平滑处理；本发明基于绝对曝光权值得出权重分布图，经阈值处理和修正后，由图像拉普拉斯金字塔指导融合过程，
一种静态场景细节保持曝光图像融合算法

[实用新型]一种应用于柔性印刷电路板的光刻装置-CN201922403879.5有效
发明人：张雷;刘栋 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种应用于柔性印刷电路板的光刻装置，其包括底座，其还包括置于所述底座上的放卷装置、第一曝光系统、第二曝光系统、收卷装置，所述柔性印刷电路板自所述放卷装置，依次通过所述第一曝光系统和所述第二曝光系统，从所述收卷装置收起，所述第一曝光系统和所述第二曝光系统均包括吸附台面，对应所述吸附台面的对位装置和曝光装置，所述第一曝光系统和第二曝光系统顺序排列，方向相对。所述光刻装置不需要复杂的折返结构即完成了柔性印刷电路板的双面曝光。
一种应用于柔性印刷电路板光刻装置

[发明专利]在向下采样模式中具有高动态范围的图像传感器-CN200810214998.X有效
发明人：罗晓东;杨宏利 -专利权人：豪威科技有限公司
申请日： 2008-09-01 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：在常规的分辨率模式中，每行具有相同的标称增益和曝光时间。在向下采样模式中，根据具有至少两个不同曝光时间的交替顺序而改变行的曝光时间。在向下采样期间，来自具有不同曝光时间的行的原始像素数据被结合，从而在获得向下采样的同时，得到高动态范围。
向下采样模式具有动态范围图像传感器

[发明专利]一种多工件台协作直写光刻方法-CN201410539501.7在审
发明人：曹旸;李阳 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2014-10-13 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多工件台协作直写光刻方法，采用并行曝光控制技术，属于直写式光刻机曝光技术领域。首先对A工件台进行上板、对准操作，后将A工件台移动至曝光起始位置进行扫描曝光；同时对B工件台进行上板、对准操作，后将B工件台移动至曝光起始位置，等待扫描曝光；A工件台完成扫描曝光后，退出A工件台，并对A工件台进行下板、上新板、对准的扫描曝光准备工作，同时开始对B工件台进行扫描曝光流程。本发明大幅降低了结构的复杂性，多个工件台在各自的工作区域内互不干扰，使原本按顺序串行进行的曝光流程变为并行的曝光流程，极大地缩短了曝光时间。此外本发明提高了曝光品质及生产良率，在保证光刻精度的同时，不会增加任何耗时。
一种工件协作光刻方法

[发明专利]用于利用图像对材料进行曝光的系统和方法-CN202080036246.8在审
发明人：恩德雷·柯克霍恩;特龙·约尔根森;约翰·达埃 -专利权人：维斯泰克公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于利用图像对材料进行曝光的系统，包括曝光台(12)和电子光投影仪(13)，该电子光投影仪布置在曝光台(12)的上方，并适于朝向布置在曝光台(12)上的材料投射图像。电子光投影仪和曝光台被配置为相对于彼此移动，并且电子光投影仪(13)连接到投影仪控制单元。投影仪控制单元被配置为提供由图像数据表示的要曝光的图像的序列，将静态图像图案叠加到要曝光的图像的边缘部分上，从而产生组合的图像的序列，并且电子光投影仪(13)被配置为将组合的图像顺序地曝光到材料上。
用于利用图像材料进行曝光系统方法

[发明专利]图像处理装置和图像处理方法-CN202180017883.5在审
发明人：五味田遵 -专利权人：索尼集团公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：图像处理装置(1)包括曝光控制单元(102)、Δ姿势估计单元(109)和整合单元(111)。曝光控制单元(102)通过以预定执行顺序顺次执行从适当曝光增加曝光的正校正或从适当曝光减少曝光的负校正，作为按时间序列获取多个图像帧中的每个图像帧时的曝光，来控制曝光。
图像处理装置方法

[发明专利]摄像装置、以及在其中使用的固体摄像元件-CN201680058360.4有效
发明人：岸本昌也;高野遥;松尾纯一 -专利权人：新唐科技日本株式会社
申请日： 2016-10-04 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G01S17/10 文献下载
摘要：摄像装置(1)，照射出光并接受来自被摄体的反射光，从而测量到被摄体(OB)的距离，摄像装置(1)具备：控制部(13)，输出发光控制信号以及曝光控制信号；光源部(11)，在发光控制信号的定时，进行光的照射；受光部(12)，将照射出的光在被摄体的反射光，通过曝光控制信号在多个不同的定时进行曝光，并且输出由该多个不同的定时的曝光而生成的多个曝光信号；以及运算部，将多个曝光信号作为输入，进行距离运算，控制部(13)，输出发光控制信号以及曝光控制信号，从而对发光期间和曝光期间的长度、以及发光期间以及曝光期间的重复顺序中的至少一方进行调制。
摄像装置以及其中使用固体元件

[发明专利]处理基板的设备和方法-CN201010103502.9有效
发明人：金东浩;崔晋荣;高在昇;卢亨来 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2010-02-01 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：所述设备包括：在一个方向顺序设置的装载端口，移送模块，第一缓冲模块，涂覆/显影模块，第二缓冲模块，预曝光/后曝光处理模块，接口模块。所述涂覆/显影模块包括：设置在不同层的涂覆模块和显影模块。所述预曝光/后曝光处理模块包括：设置在不同层的预处理模块和后处理模块。在曝光工艺前，所述预处理模块在晶片上涂覆保护层。所述后处理模块在曝光工艺后执行晶片清洗工艺和后曝光烘焙工艺。
处理设备方法

[发明专利]一种光电周视成像系统的补偿成像方法及装置-CN201910964951.3有效
发明人：季云松;陈德智 -专利权人：北京富吉瑞光电科技有限公司;大庆安瑞达科技开发有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明提供一种光电周视成像系统的补偿成像方法与装置，包括步骤一，光电周视扫描仪启动进行周视扫描，步骤二，设置曝光时序，卷帘传感器按照曝光时序，逐行顺序曝光，步骤三，设置补偿时序，所述补偿时序与曝光时序成比例等周期匹配，光学扫描补偿器按照补偿时序，在卷帘传感器曝光的同时进行光学扫描补偿，步骤四，读取补偿后的曝光数据，将曝光数据转成电子图像，并对电子图像进行处理。
一种光电成像系统补偿方法装置

[发明专利]成像设备、成像元件、成像控制方法和程序-CN201280008390.6无效
发明人：光永知生 -专利权人：索尼公司
申请日： 2012-01-26 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： H04N5/355 文献下载
摘要：提供了一种执行像素组单元间不同的曝光控制的成像设备及其方法。估算通过划分成像元件的成像表面上的多个像素限定的像素组单元的亮度，并且根据估算结果计算每个像素组单元的曝光控制值。成像元件向像素组的每个组成像素输出与计算的像素组单元的曝光控制值对应的控制信号，以便执行每个像素组单元的曝光控制。对于控制信号，例如，具有同一模式的曝光控制信号以时间序列顺序输出至像素组中的多个像素，以便逐像素组单元执行曝光控制，以使得对于属于一个像素组的多个像素曝光时间相等。
成像设备元件控制方法程序

[发明专利]用于曝光的掩模版、曝光方法以及半导体晶片的生产方法-CN201210353422.8无效
发明人：清水宏信 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2012-09-21 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种包含由减小投影曝光设备的圆形有效曝光区中的多个芯片图案构成的掩模版图案的用于曝光的掩模版，其中，所述掩模版图案具有布置成内接在有效曝光区的圆周内或者不从有效曝光区的圆周突出的外形，与平面视图中的四边形形状的芯片图案的数目相比具有更大数目的芯片图案，并且当顺序地曝光时，布置了所述多个芯片图案使得所述掩模版图案的顶部部分无间隙地匹配左右彼此邻近的掩模版图案的底部位置。
用于曝光模版方法以及半导体晶片生产

[发明专利]一种提高多层整合光罩工艺套准精度的光刻曝光方法-CN201210343524.1有效
发明人：朱骏;张旭昇 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2012-09-17 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种提高多层整合光罩工艺套准精度的光刻曝光方法，包括以下顺序步骤：先使用第一掩模板图形对硅片物理尺寸内部分进行曝光；后使用第二掩模板图形对硅片物理尺寸外部分进行曝光，所述第一掩模板图形和第二掩模板图形设置在同一掩模板上本发明提供的光刻曝光方法能有效解决套准精度低下和光学镜头局部受热不均匀的问题。
一种提高多层整合工艺精度光刻曝光方法

[发明专利]图像拍摄设备及其控制方法和程序-CN200910178510.7无效
发明人：水口淳;小山隆浩;石桥真哉;辻田茂;森津正臣 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2009-09-24 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：该图像拍摄设备包括：图像传感器，产生图像信号；拍摄控制部分，执行拍摄操作，其中根据预定曝光时间将图像传感器的曝光分割成多次曝光；相加部分，将每次曝光获得的图像信号顺序地相加；放大率计算部分，基于所述预定曝光时间计算相加的图像信号的放大率；放大部分，通过使用所述放大率对相加的图像信号进行放大，以补偿对于所述预定曝光时间而言的不足曝光；以及显示控制部分，显示与放大的图像信号相关的信息；其中，当用户进行了指示时，拍摄控制部分结束拍摄操作，并且确定放大的图像信号是以所述预定曝光时间执行拍摄操作获得的拍摄图像
图像拍摄设备及其控制方法程序