专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半疏水性介质及其制备方法-CN201811560190.7有效
  • 张颂红;杨婷婷;黄杰;贠军贤 - 浙江工业大学
  • 2018-12-19 - 2022-02-15 - B01J20/26
  • 本发明公开了一种半疏水性介质及其制备方法,所述介质为有疏水性凝胶的部分疏水性连续床介质,所述介质内含有疏水苄基和阴离子交换叔氨基功能基团,所述介质的基质骨架材料为疏水性聚甲基丙烯酸丁酯凝胶和亲水性聚甲基丙烯酸羟乙酯,所述疏水性聚甲基丙烯酸丁酯凝胶被包埋在亲水性聚甲基丙烯酸羟乙酯内。本发明提供的半疏水性介质中同时含有疏水性的凝胶、疏水性苄基‑叔氨基阴离子交换双功能基团,更有利于对不同疏水性生物大分子的选择吸附,实现高纯度的分离与纯化。
  • 一种疏水性纳晶胶介质及其制备方法
  • [发明专利]光学器件制造方法-CN202011624355.X在审
  • 王淼 - 嘉兴驭光光电科技有限公司
  • 2020-12-31 - 2021-04-30 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种微光学器件制造方法,该方法包括:利用半导体光刻和刻蚀工艺在圆上形成第一微结构;在圆上涂敷光刻;将第一区域中的光刻完全移除,以露出至少部分第一微结构,并对第二区域中的光刻进行灰度曝光,以在第二区域的光刻上形成第二微结构;以及将第一和第二微结构转印到待加工材料的表面上。根据本发明实施例,通过在已经经过半导体光刻刻蚀工艺处理的圆上涂覆灰度曝光用的光刻并选择性地进行部分区域的完全除和部分区域的灰度曝光,在一个统一的制作流程中融合了两种不同的微结构制作工艺;相应地,可以实现不同的微结构的构造制作。
  • 光学器件制造方法
  • [发明专利]圆扇出型封装方法和结构-CN202311190251.6在审
  • 康志龙;姚大平 - 江苏中科智芯集成科技有限公司
  • 2023-09-15 - 2023-10-24 - G03F7/16
  • 本公开提供的一种圆扇出型封装方法和结构,涉及半导体封装技术领域。该圆扇出型封装方法包括:提供具有第一涂层的圆;其中,第一涂层包括覆盖部和超出圆边缘预设距离的去胶部。在去胶部上形成微结构;采用旋涂工艺在第一涂层上形成光刻;光刻在微结构上的张力小于在覆盖部上的张力,以使微结构上的光刻在离心力作用下脱离第一涂层。该方法能在旋涂过程中自动去除边缘的光刻,省去了后续的边缘清洗工艺,工艺步骤简单,边缘去除效果好,封装效率高。
  • 晶圆扇出型封装方法结构
  • [发明专利]一种纳米压镜头的异形切割方法-CN202211348034.0在审
  • 李翔;魏敏 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2022-10-31 - 2023-01-20 - B23K26/382
  • 本发明提供一种纳米压镜头的异形切割方法,将纳米压印圆水平放置在红外皮秒切割机的工作台上,并开启工作台的真空状态,防止圆在切割过程中产生位移;使用红外皮秒切割机对圆进行正面和反面除,红外皮秒切割机能够以较低的脉冲能量获得极高的峰值光强,同时利用地热能扩散的特点,在热传导到周边材料前完成材料打断,实现高精度的细腻切割;使用绿光秒激光切割机将完成除圆进行玻璃钻孔,绿光秒激光切割机能够降低玻璃的破裂和变形,使圆上的镜头脱落,完成纳米压镜头的异形切割,本方法能够进行异形切割,以及多材质堆叠产品进行切割,具有较强的适用和通用
  • 一种纳米镜头异形切割方法
  • [发明专利]半导体圆的刻蚀方法及微光学器件-CN202210839467.X在审
  • 刘林韬;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-10-21 - H01L21/306
  • 本发明揭示了一种半导体圆的刻蚀方法及微光学器件。所述半导体圆的刻蚀方法,包括:在圆上形成具有原始光刻版图的光刻抗蚀层;对圆依次进行干法刻蚀和湿法腐蚀,得到具有陡直且光滑的微结构的半导体圆。本发明提供的半导体圆的刻蚀方法,采用干湿法混合刻蚀同一种材料,干法刻蚀提高结构陡直度,而在湿法刻蚀过程中,腐蚀液会不断对干法刻蚀的侧壁上的凸起进行修饰,以降低侧壁粗糙度,进而得到陡直且光滑的微结构。
  • 半导体刻蚀方法光学器件
  • [实用新型]一种防静电的LED-CN201220008353.2有效
  • 陈业宁 - 陈业宁
  • 2012-01-10 - 2012-10-17 - H01L33/62
  • 本实用新型公开了一种防静电的LED,由阳极引脚、阴极引脚和LED芯片组成,LED芯片置于阴极引脚顶端碗杯的绝缘基台上,碗杯设有固封装LED芯片,固的点高度小于LED芯片的1/2高度,芯片上设有负电极点和正电极点,负电极点和正电极点分别通过第一细导线和第二细导线与阴极引脚和阳极引脚的顶端焊接,固内还设有一齐管,齐管上设有金属焊点,金属焊点通过第三细导线与阳极引脚焊接。由于静电能产生超过万伏的高压电,上述LED的接线方式和齐管的设置能形成双向脉冲,双向电压V≥5.6,可对LED芯片进行保护,将静电产生的高压电释放,延长LED的使用寿命和不受高压电的冲击。
  • 一种静电led
  • [实用新型]一种飞船状的超微晶美容仪-CN201620069174.8有效
  • 陈家骊;陈彦彪 - 陈彦彪
  • 2016-01-25 - 2016-06-29 - A61M37/00
  • 本实用新型涉及一种飞船状的超微晶美容仪,该超微晶美容仪,包括驱动电机及手柄, 包括一个置于手柄上表面的超导入接口,按键开关和电池盒开关置于手柄同侧,均处于手柄的下表面,超导入接口与手柄连接超导入接口内置螺旋槽可手动调节与其连接的超套件与皮肤相距的高度,驱动电机置于手柄内,与超导入接口驱动连接。由于进行导入的液体滴落也不会导致短路发生意外,提高了整个美容仪的安全,内置螺旋槽可手动调节与其连接的超套件与皮肤相距的高度,使该美容仪可适合不同的肌肤和不同部位的肌肤使用。
  • 一种飞船超纳微晶美容

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