专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]形成具有成型的窗口的方法以及用于形成其的设备-CN201580001711.3有效
  • 张相旭;车成云;郑文官 - 进宇工程有限公司
  • 2015-11-12 - 2017-12-01 - C03B23/03
  • 提供一种窗口成形方法以及适用于所述窗口成形方法的窗口成形设备,所述方法包括制备窗口成型材料;在成形设备上设置待成型窗口成型材料;通过使用所述成形设备对设置后待成形的窗口成型材料上的第一形状成形;以及独立于第一形状的成形,通过使用所述成形设备对设置后待成形的窗口成型材料上的第二形状成形,其中第二形状的成形是在与第一形状的成形不同的阶段中实施。由此,第一和第二形状为独立地成形以使可以形成具有高品质形状的窗口,并且第一形状的成形和第二形状的成形不受彼此影响使得所述第一和第二形状具有高品质。
  • 形成具有成型窗口方法以及用于设备
  • [发明专利]形成不同高度的多个鳍的方法-CN201210379986.9在审
  • 邓浩 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2012-09-29 - 2014-04-09 - H01L21/8234
  • 一种形成不同高度的多个鳍的方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面形成有绝缘层、和具有高度相同的第一初始鳍和第二初始鳍形成第一保护层,所述第一保护层暴露出第二区域的绝缘层表面;以所述第一保护层为掩膜,刻蚀第二区域中部分厚度的绝缘层,使得第二初始鳍比第一初始鳍高出指定高度;随后,去除第一保护层,形成覆盖第一初始鳍和第二初始鳍的第二保护层;以第二保护层为掩膜,刻蚀所述绝缘层,并向暴露出的第一初始鳍和第二初始鳍内注入氧离子,然后退火,形成隔离层、第一鳍以及第二鳍,所述第二鳍比第一鳍高出所述指定高度。在同一晶圆上形成的鳍的高度可以不同,以满足不同需要。
  • 形成不同高度多个鳍部方法
  • [发明专利]图像形成装置、定影保持机构和定影装置-CN201210356857.8有效
  • 有川树一郎;石田正美;渡边茂;小西佳郎 - 富士施乐株式会社
  • 2012-09-21 - 2017-04-12 - G03G15/20
  • 本发明提供了一种图像形成装置、定影保持机构和定影装置,图像形成装置包括装置主体,在所述装置主体中设置有将图像形成在记录材料上的图像形成和产生旋转驱动力的驱动机构;定影,其在接受旋转驱动力的同时传送记录材料并且对记录材料上的图像进行定影,所述定影的两个轴向端由所述装置主体保持;以及传动机构,其设置在所述定影的两个轴向端之中的一个轴向端处并且连接至所述驱动机构,所述传动机构将旋转驱动力从所述驱动机构传递至所述定影。当拉力施加到位于所述定影中的记录材料上时,所述驱动机构和所述传动机构彼此断开连接。
  • 图像形成装置定影保持机构
  • [发明专利]形成用于气囊门的预设断裂的方法-CN201210236792.3有效
  • 伊藤裕造 - 井上株式会社
  • 2012-07-10 - 2013-01-16 - B60R21/2165
  • 一种形成用于气囊门的预设断裂的方法,包括将仪表板定位在固定夹具上的步骤,并且在形成构成预设断裂的槽之前由测量装置测量所述仪表板的基板的背面位置。当形成第一槽时,以所述固定夹具的定位表面的预先设定位置为基准来控制由加工装置形成的所述第一槽的深度,并且当由所述加工装置形成第二槽时,根据由所述测量装置测量到的所述基板的背面位置来进行校正,并且基于该校正数据来控制由所述加工装置形成的所述第二槽的深度
  • 形成用于气囊预设断裂方法
  • [发明专利]一种形成自对准接触的方法-CN201510580417.4有效
  • 赵治国;殷华湘;朱慧珑;赵超 - 中国科学院微电子研究所
  • 2015-09-11 - 2019-07-16 - H01L21/768
  • 本发明提供了一种形成自对准接触的方法,包括:提供衬底,所述衬底上形成有栅堆叠以及位于所述栅堆叠两侧的侧墙,所述侧墙两侧的衬底上形成有源/漏区及位于所述源/漏区之上的金属硅化物层;依序形成阻挡掩膜层及位于所述侧墙之外、所述阻挡掩膜层之上的第二侧墙;形成层间介质层,并进行表面平坦化直至暴露所述栅堆叠;去除所述第二侧墙及与所述第二侧墙相接的所述阻挡掩膜层,暴露所述金属硅化物层;以金属填满凹槽,并进行平坦化直至暴露所述栅堆叠,能有效解决现有技术中无法精确且简易的减小栅极与接触之间的距离的问题。
  • 一种形成对准接触方法
  • [发明专利]图像形成装置的开闭开关机构-CN01135374.0有效
  • 石井洋 - 株式会社理光
  • 2001-10-09 - 2002-05-01 - G03G21/00
  • 本发明涉及复印机、打印机等图像形成装置的开闭开关机构。在与设在图像形成装置壳体上的门的动作连动接通或断开图像形成装置的所定电源的门开闭开关机构中,设有动作部件131,开关135及接通/断开部件134。通过开闭设在图像形成装置上的第1门106,动作部件朝第1方向动作,通过开闭设在图像形成装置上的第2门120,动作部件朝第2方向动作所述开关135用于接通或断开图像形成装置的所定电源;所述接通/断开部件134不对门设定开闭顺序,不损害门的开闭操作性,提供能以简单且低成本检测门开闭的图像形成装置的开闭开关机构。
  • 图像形成装置开闭开关机构

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