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[发明专利]一种增强现实摄像机监控方法及其系统-CN201410726341.7在审
发明人：俞翔;张永涛;李江明;胡颖;罗中亮;刘玉姣;覃学松;毛亮;王胜;刘新波;汪刚;黄振江;刘双广 -专利权人：高新兴科技集团股份有限公司
申请日： 2014-12-04 - 公布日： 2015-02-18 - 主分类号： H04N7/18 文献下载
摘要：本发明公开一种增强现实摄像机监控方法及其系统，所述方法包括通过摄像机获取监控区域的视频信息、摄像机的地理位置信息和摄像机的姿态信息；将视频信息、地理位置信息和姿态信息传输到增强现实管理终端，增强现实管理终端将地理位置信息和姿态信息进行图形化处理后叠加在实时画面上本发明能够将地理位置信息和姿态信息进行图形化后叠加在实时视频画面上，使得用户对地理位置和监控摄像机姿态的感知更直观。
一种增强现实摄像机监控方法及其系统

[发明专利]一种针对C-V2X车联网的路侧设施应用消息部署的检测方法-CN202111077169.3在审
发明人：赵佳欣;柳滨 -专利权人：北京威华博通科技有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： H04W4/40 文献下载
摘要：包括用于接收RSU广播应用层数据的车载OBU设备，所述OBU设备连接有智能手机，所述智能手机内设有数据解析模块，所述数据解析模块将RSU广播的应用消息通过通信协议进行实时解析，再进行数据转换、数据运算和图形化处理，再将通信数据通过智能手机进行图形化数据展示。
一种针对 v2x 联网设施应用消息部署检测方法

[发明专利]一种基于Web的生命科学分析图形化系统及方法-CN201910778073.6在审
发明人：周会群;王玲 -专利权人：南京信易达计算技术有限公司
申请日： 2019-08-22 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G06F16/54 文献下载
摘要：本发明涉及图形处理技术领域，具体地说，涉及一种基于Web的生命科学分析图形化系统及方法，包括生命科学图形库、生物名称输入模块、索引值匹配模块、图形处理模块、图形导出模块、图形分析模块和分析数据导出模块；生命科学图形库包括生物三维分子类图形库和二维分子类图形库。本发明通过建立的生命科学图形库进行收集和整理，可以引用内部的计算数据，从而为后期使用提供便利，通过索引值匹配模块可以快速与生命科学图形库中的数据进行匹配，提高计算的效率，从而可以加快生命科学图形的生成效率，减少工作人的作业量；通过图形处理模块和图形分析模块对对应的图形进行清晰化处理以及实时化数据分析，提高数据的准确率。
生命科学图形库图形处理模块图形分析模块匹配模块索引名称输入模块图形处理技术图形导出模块清晰化处理图形化系统导出模块分析数据计算数据数据分析作业量准确率二维匹配三维引用便利分析

[发明专利]在侧向外延薄膜上自对准形成图形及制备外延材料的方法-CN201910192567.6有效
发明人：张韵;倪茹雪 -专利权人：中国科学院半导体研究所
申请日： 2019-03-13 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本公开提供一种在侧向外延薄膜上自对准形成图形及制备外延材料的方法，包括：S1：制备图形化衬底；S2：在图形化衬底上通过侧向外延合并生长的方式，制备表面合并的侧向外延薄膜；S3：通过在步骤S1所制备的图形化衬底背面进行曝光处理使得在步骤S2所制备的侧向外延薄膜上自对准形成图形并制备自对准图形化光刻胶；进一步的可继续后续步骤制备外延材料，S4：以步骤S3所制备的自对准图形化光刻胶为掩膜对侧向外延薄膜进行加工；以及S5：清除自对准图形化光刻胶掩膜
侧向外延薄膜对准形成图形制备材料方法

[发明专利]金属材料图形化方法-CN201710492345.7有效
发明人：李阳;陶国胜;张成明;刘晓佳 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2017-06-26 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L21/3205 文献下载
摘要：本申请公开了一种金属材料图形化方法。该方法包括：在所提供的基板上依次生成金属纳米材料层和保护层，其中所述保护层的热膨胀系数与所述基板的热膨胀系数之差大于预设阈值；对所述保护层进行图形化处理，用于在所述保护层形成沟道；对保护层、金属纳米材料层以及基板进行热处理由于保护层的热膨胀系数与基板的热膨胀系数之差大于预设阈值，在如处理过程中，能够通过保护层和基板的热膨胀程度的不同，剥离沟道中的金属纳米材料，从而解决现有技术中的问题。
金属材料图形方法

[发明专利]抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法-CN200410100312.6有效
发明人：森尾公隆 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-12-09 - 公布日： 2005-06-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种抗蚀图形的形成方法，其特征在于，具有下述工序：(A)在基体(10)上形成光致抗蚀剂被膜的工序、(B)经过含有选择性曝光的光刻工序而使上述光致抗蚀剂被膜图形化为具有厚壁部(r1)和薄壁部(r2)的图形形状的工序、以及(C)在进行上述图形形成之后进行UV固化处理而形成具有厚壁部(r1)和薄壁部(r2)的台阶形抗蚀图形(R)的工序。
图形形成方法使用微细

[发明专利]背照式CMOS图像传感器的背面处理方法-CN201210191284.8有效
发明人：刘玮荪 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-06-11 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明公开了一种背照式CMOS图像传感器的背面处理方法，包括，提供一衬底；在衬底的正面上形成图形化的研磨停止层；在衬底和图形化的研磨停止层上形成外延层，并进行化学机械研磨平坦化外延层；在外延层内形成光电二极管；在外延层上形成器件层；对衬底的背面进行背面抛光；对衬底的背面进行化学机械研磨直到暴露出图形化的研磨停止层；刻蚀去除图形化的研磨停止层，暴露出所外延层；进行化学机械研磨平坦化外延层。本发明采用了图形化的研磨停止层，保证了背照式CMOS图形传感器的背面处理后的TTV比较小。
背照式 cmos 图像传感器背面处理方法

[发明专利]一种基于PSD-BPA数据及图形化交互技术的故障分析方法-CN202011123443.1有效
发明人：林成;肖辅盛;罗艳;王庭刚;何立新;卞苏波;孟悦恒;林大智 -专利权人：贵州电网有限责任公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G06F16/958 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于PSD‑BPA数据及图形化交互技术的故障分析方法，包括，上传数据文件；对所述数据文件自动生成注释；对所述生成注释后的数据文件进行数据智能校核处理；对所述校核后的数据文件进行BPA可视化处理并对可视化后的本发明从BPA可视化出发，涉及BPA网架文件的智能校核以及图形化操作等内容，通过操作平台的方式，有效保证电网数据的准确性以及可靠性，实现了操作人员工作效率的大幅度提高。
一种基于 psd bpa 数据图形交互技术故障分析方法

[发明专利]参数图形化处理的装置及方法-CN201910367269.6有效
发明人：沈宇恒;胡凯乐;张宏根 -专利权人：中国工商银行股份有限公司
申请日： 2019-05-05 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G06F16/242 文献下载
摘要：本发明提供了一种参数图形化处理的装置及方法，其中，该装置包括：图形处理单元，用于在监听到新建或编辑参数文件请求时，接收用户新建或编辑代表联机交易的各个过程步骤及它们之间逻辑关系流程图的操作；或根据数据模型上述技术方案可准确表达联机交易各个过程步骤之间的逻辑关系，提高了联机交易业务流程参数的可读性和维护效率，以及提高了参数处理的准确性和稳定性。
参数图形处理装置方法

[发明专利]六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法-CN201510354323.5有效
发明人：申健;张丹;庞春玲;张飞虎;甘阳 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2015-06-24 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法，它涉及一种蓝宝石的制备方法。本发明是为了解决干法刻蚀在蓝宝石表面难以制作六边角锥体的问题。本方法如下：将预处理后的圆锥形图形化蓝宝石片置于石英花篮中，将石英烧杯中混合溶液A高温湿法刻蚀，然后用去离子水冲洗圆锥形图形化蓝宝石片，再氮气吹干，即得六边角锥体图形化蓝宝石。本发明的六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法能有效地将圆锥形图形化蓝宝石转化为六边角锥体图形化蓝宝石，且生成的六边角锥体图形化蓝宝石规则有序，重复性好。
图形化蓝宝石边角锥体制备蓝宝石预处理蓝宝石表面氮气吹干干法刻蚀高温湿法过程安全混合溶液去离子水石英烧杯有效地刻蚀石英冲洗花篮制作转化

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201911259681.2在审
发明人：王楠 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，形成方法包括：提供基底，基底上形成有待图形化材料层以及覆盖待图形化材料层的掩膜材料层，待图形化材料层用于形成目标图形；在掩膜材料层上形成核心层；在核心层的侧壁形成掩膜侧墙；对部分掩膜侧墙进行刻蚀处理，以去除核心层的任一侧壁的部分掩膜侧墙，露出核心层的部分侧壁；对部分所述掩膜侧墙进行刻蚀处理后，以剩余的核心层和掩膜侧墙为掩膜图形化掩膜材料层，形成掩膜层；以掩膜层为掩膜，图形化待图形化材料层，形成目标图形本发明通过刻蚀的方式去除核心层的任一侧壁的部分掩膜侧墙，因此，掩膜侧墙和核心层的拐角处的形貌质量较好，这有利于提高目标图形的质量，从而提高半导体结构的性能。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]一种阶梯槽底部图形化线路板的加工方法-CN200910207867.3有效
发明人：李俊;王彩霞;陈于春 -专利权人：深南电路有限公司
申请日： 2009-10-28 - 公布日： 2010-04-21 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种阶梯槽底部图形化线路板的加工方法，获得经内层图形转移所得的子板集合，所述子板集合中包括经选择性塞孔预留有插件孔的第一子板，压合所述子板集合得到母板，所述第一子板置于所述母板外侧，对所述母板外层图形转移前进行处理，在所述外层图形转移前的处理中对所述插件孔进行保护，对所述外层图形转移前处理后的母板进行外层图形转移、外层蚀刻及控深铣槽，以得到成品阶梯槽底部图形化线路板。本发明实施例还提供了一种阶梯槽底部图形化线路板。采用本发明实施例，其加工所得的阶梯槽底部图形化线路板的槽底位置可以安装插件器件，扩展了板件的使用范围。
一种阶梯底部图形线路板加工方法

[发明专利]一种流式处理方法及装置-CN202010676621.7在审
发明人：郝凯 -专利权人：浙江大华技术股份有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： G06F11/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种流式处理方法及装置，其中，该方法包括：根据在图形化界面中接收到的配置流处理任务的配置指令配置初始有向无环图DAG图；通过匹配高阶算子的方式对所述初始DAG图进行优化处理，得到目标DAG图，其中，所述目标DAG图与所述初始DAG图的连接关系相同；通过所述目标DAG图对所述流处理任务的进度进行监控，可以解决相关技术中将流式计算中的SQL计算部分抽象成DAG，SQL的变化导致的DAG变化，用户无法感知，给调试和问题定位带来不便的问题，采用图形化的流处理配置，用户不需要编码和学习成本即可上手完成流处理任务的配置，在运维上可监控流处理过程中DAG图上各节点的状态及进度。
一种处理方法装置

[发明专利]一种文献主题内容分析的图形化显示方法-CN201410357044.X在审
发明人：贾新志 -专利权人：贾新志
申请日： 2014-07-24 - 公布日： 2016-02-10 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种文献主题内容分析的图形化显示方法，包括确定用于进行文献主题内容分析的统计项目，还包括：对各统计项目进行规范化处理；根据规范化后的各统计项目从文献中提取出统计结果；从各统计项目中提取出标识项目建立坐标系通过本发明实现的文献主题内容分析的图形化显示，用户可以更加直观的看到一组文献中各个统计项目在各个时间出现次数的分布，避免了目前的分析结果只显示总次数的不足；用户可以选择对一组文献中各个统计项目进行规范化处理并分类
一种文献主题内容分析图形显示方法

[发明专利]一种半导体器件的制备方法-CN202110993761.1在审
发明人：万彩萍;田丽欣;桑玲;罗松威;许恒宇;叶甜春 -专利权人：中国科学院微电子研究所;全球能源互联网研究院有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： H01L21/04 文献下载
摘要：一种半导体器件的制备方法，包括：提供具有掺杂的SiC外延片；在SiC外延片上形成第一掩膜层；对第一掩膜层进行图形化处理，曝露出第一离子注入区域；向第一离子注入区域进行离子注入，注入类型与SiC外延片的掺杂类型相同；去除第一掩膜层；去除第一掩膜层之后在SiC外延片上形成第二掩膜层；对第二掩膜层进行图形化处理，曝露出第二离子注入区域；向第二离子注入区域进行离子注入，注入类型根据半导体器件中离子注入结构的类型确定；去除第二掩膜层
一种半导体器件制备方法