专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电涌保护器件-CN201080047531.6有效
  • 斯蒂芬·霍兰德 - NXP股份有限公司
  • 2010-10-22 - 2012-07-11 - H01L29/87
  • 公开了一种电涌保护器件(200),包括:第一传导类型的半导体基板(210),所述半导体基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述基板还包括第一表面处的第一器件和第二表面处的第二器件,所述第一器件具有取向平行于第一表面的,所述第二器件具有取向平行于第二表面的,所述第一器件和第二器件彼此面对,其中第一和第二通过半导体基板的体块分离开。
  • 保护器件
  • [发明专利]超级器件的制造方法-CN202010326495.2在审
  • 李昊 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-04-23 - 2020-07-24 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种超级器件的制造方法,超级器件器件正面单元结构形成于超级结上;器件正面单元结构包括栅极结构;超级的形成工艺中超级沟槽未被第二导电类型的第二外延层填满且顶部形成的V型开口被第一介质层完全填充或封口;结合栅极结构的形成工艺设置超级的形成工艺在超级器件的工艺流程中的顺序,超级器件的工艺流程的设置包括:将超级的形成工艺放置在栅极结构的形成工艺的后面。本发明能大幅度缩短超级的形成工艺中填充超级沟槽的外延生长时间及降低成本,同时能减少超级的面内掺杂失配,提高超级器件的击穿电压的面内均匀性,还能提高超级器件的性能的稳定性。
  • 超级器件制造方法
  • [发明专利]集成TMBS结构的超MOS器件及其制造方法-CN202111032029.4在审
  • 王加坤;肖红秀 - 杭州芯迈半导体技术有限公司
  • 2021-09-03 - 2021-12-10 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种集成TMBS结构的超MOS器件及其制造方法,其中超MOS器件包括超MOS器件本体,超MOS器件本体中部分元胞之间并联集成有TMBS结构。本发明实施例提供的集成TMBS结构的超MOS器件制造方法,通过在超MOS器件本体中部分元胞之间并联集成TMBS结构,来极大的改善超MOS器件的反向恢复特性,解决由于较高的反向恢复峰值电流等导致的超MOS器件容易损坏,进而降低使用安全性的问题,提高了超MOS器件在使用过程中的安全性。其在不增加工艺步骤的基础上,在超MOS器件本体中的两个或多个元胞之间集成TMBS结构,工艺简单且降低成本。
  • 集成tmbs结构mos器件及其制造方法
  • [发明专利]一种磁传感器及其制作方法-CN202111386714.7在审
  • 刘恩隆;何世坤 - 浙江驰拓科技有限公司
  • 2021-11-22 - 2023-05-23 - H10N50/10
  • 本申请公开了一种磁传感器,包括设有底电极的芯片和设于芯片上的器件组,器件组包括与底电极电连接的第一磁隧道器件;设于第一磁隧道器件上方的导线层;设于导线层上表面、依次层叠的第二磁隧道器件和第二掩膜层,第一磁隧道器件和第二磁隧道器件中参考层的磁矩方向平行且相反;设于第二掩膜层上表面的顶电极;与导线层连接的信号引出部。第一磁隧道器件和第二磁隧道器件在垂直方向上分布,可以减小磁传感器的面积,且两个磁隧道器件中参考层的磁矩方向平行且相反,使得两个器件的电阻在相同磁场作用下的变化相反,即通过在同一芯片上形成第一磁隧道器件和第二磁隧道器件
  • 一种传感器及其制作方法
  • [发明专利]一种新型P+侧墙无场效应晶体管-CN201610335286.8有效
  • 王颖;孙玲玲;唐琰;曹菲 - 杭州电子科技大学
  • 2016-05-19 - 2019-02-19 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种P+侧墙无器件,由双栅极、源区、漏区、沟道区、栅介质层、P+侧墙以及隔离层组成。对于传统无器件来说,当栅极长度降低到10纳米时,泄露电流会变得很大,因此抑制泄露电流的大小就成为了小尺寸器件的重要任务。对于传统无器件来说,仅仅依靠栅极的控制能力已经无法有效的控制器件在关闭状态下的关闭电流,本发明可以形成PN耗尽,帮助器件耗尽,同时当器件开启时,栅极会控制P+区,使PN耗尽减弱新型P+侧墙三栅纳米线无器件相比于传统无器件具有很大的优势,这种优势在栅极长度很小时尤为明显。新型器件主要可以提高传统无器件的亚阈值斜率,开关电流比等特性。
  • 一种新型sup侧墙无结场效应晶体管
  • [发明专利]SOI MOS器件的建模方法-CN201210248270.5有效
  • 卜建辉;毕津顺;罗家俊;韩郑生 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-07-17 - 2012-11-21 - G06F17/50
  • 本发明提供了一种SOI MOS器件的建模方法,其中该SOI MOS器件为源漏注入不到底的SOI MOS器件,该方法包括:a)建立包含模拟源漏注入到底的SOI MOS器件的初级MOS器件模型以及模拟源体PN底面电容的源体PN底面电容模型和模拟漏体PN底面电容的漏体PN底面电容模型的总体模型;b)对总体模型中的初级MOS器件模型和源体PN底面电容模型和漏体PN底面电容模型分别进行参数提取。本发明提供的建模方法考虑源漏注入不到底的SOI MOS器件中源体底面电容以及漏体底面电容对于器件性能的影响,提高了模型的精确度,能够有效的运用于对器件的仿真设计。
  • soimos器件建模方法
  • [发明专利]SOI H型栅MOS器件的建模方法-CN201210536882.4有效
  • 卜建辉;毕津顺;罗家俊;韩郑生 - 中国科学院微电子研究所
  • 2013-01-06 - 2013-03-20 - G06F17/50
  • 本发明提供了一种SOI MOS器件的建模方法,其中该SOI MOS器件为H型栅的SOI MOS器件,该方法包括:a)建立包含模拟条形栅的SOI MOS器件的初级MOS器件模型以及模拟延伸源体PN侧面电容的源体PN侧面电容模型和模拟延伸漏体PN侧面电容的延伸漏体PN侧面电容模型的总体模型;b)对总体模型中的初级MOS器件模型和延伸源体PN侧面电容模型和延伸漏体PN侧面电容模型分别进行参数提取。本发明提供的建模方法考虑了H型栅SOI MOS器件中延伸源体侧面电容以及延伸漏体侧面电容对于器件性能的影响,提高了模型的精确度,能够有效的运用于对器件的仿真设计。
  • soi型栅mos器件建模方法
  • [实用新型]一种超半导体器件-CN202122479887.5有效
  • 张志;周伟伟 - 无锡维矽半导体科技有限公司
  • 2021-10-15 - 2022-05-10 - H01L23/32
  • 本实用新型公开了一种超半导体器件,包括超半导体器件本体和半导体安装板,所述半导体安装板的上方设有压紧盖,压紧盖压在超半导体器件本体上,超半导体器件本体的两侧均安装有多个半导体引脚,所述半导体安装板的顶侧开设有两个安装槽,压紧盖的两侧均固定安装有L型压杆,该超半导体器件,将压紧盖盖在超半导体器件本体上,超半导体器件本体位于压紧盖上的适配槽内,能够对超半导体器件本体起到一个防护作用,安装时,只需向下按压即可,较为方便,需要维修时,移动拨动杆,能够带动阻挡块移动至阻挡槽内,即可将压紧盖取出,从而便于将超半导体器件本体取出,进行维修。
  • 一种半导体器件

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