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[发明专利]偏光膜RTP前制程与RTP制程的联动方法及系统-CN202211208861.X在审
发明人：陈礼诚;朱兆杰;伊汀;赵日华;任涛涛;王石磊;张鑫;石倩 -专利权人：杭州利珀科技有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B07C5/34 文献下载
摘要：本发明公开偏光膜RTP前制程与RTP制程的联动方法及系统。所述联动方法包括：基于前制程坐标系的偏光膜RTP前制程步骤S1、基于制程坐标系的偏光膜RTP制程步骤S2。所述联动系统包括：基于前制程坐标系的偏光膜RTP前制程子系统、基于制程坐标系的偏光膜RTP制程子系统。所述偏光膜RTP前制程子系统具有原卷检测装置、隐形二维码标记喷印装置、原卷裁切装置。所述偏光膜RTP制程子系统具有裁切卷检测装置、显影扫描装置、裁切卷裁切装置；本发明的有益效果在于：基于关联后的原卷缺陷表及裁切卷缺陷表对偏光膜裁切卷进行裁切，裁切策略更为合理。
偏光 rtp 前制程联动方法系统

[发明专利]制程异常处理方法、装置、制程控制系统及存储介质-CN202310956223.4在审
发明人：王伟;刘奇;王麟皓;柯卫 -专利权人：格创东智（武汉）科技有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本申请提供一种提供制程异常处理方法、装置、制程控制系统及存储介质，提供制程控制系统包括至少两个用于执行不同制程的机台，获取当前制程对应制程机台中目标产品的产品制程参数；根据产品制程参数的变化信息，确定当前制程的状态；若当前制程的处于异常状态，则控制当前制程对应的制程机台停止当前制程，并将当前制程的异常信息以及产品制程参数反馈到用户端；根据用户端的反馈信息控制制程控制系统中的机台运行。通过在检测到当前制程处于异常状态的时候，立即控制当前制程对应的制程机台停止，避免制程机台继续执行当前制程，生成更多有异常的目标产品，进一步根据反馈信息控制机台运行，进而降低当前制程对应的产品报废率。
异常处理方法装置程控系统存储介质

[发明专利]制程信息提示系统、制程错误推定系统-CN201980099384.8在审
发明人：早川功一;高野正干;植田和弘;石川昌义;吉田泰浩 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够推定制程错误的原因并且提示该制程错误的修正候补的系统。本发明的制程信息提示系统或制程错误推定系统使学习器学习制程与起因于该制程的错误之间的对应关系，从所述学习器取得针对在使用了新的所述制程时是否发生错误的推定结果(参照图1)。
信息提示系统错误推定

[实用新型]制程参数监控系统-CN201621422113.1有效
发明人：林文彬;林杞明;李彦志;李旻奇;王德斌 -专利权人：联策科技股份有限公司
申请日： 2016-12-23 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种制程监控参数系统，收集一制程生产线的多个制程参数，所述制程生产线包括多台生产设备，至少一台生产设备包括一视觉观察输出接口，且多个所述制程参数由所述视觉观察输出接口所输出，所述制程参数监控系统包括至少一摄影机，所述摄影机拍摄由所述视觉观察输出接口所输出的至少一制程参数；一参数数据库，记录所述制程生产线的多个制程参数的数据；以及一监控系统，电气连接所述参数数据库，其中所述监控系统从所述摄影机接收多个拍摄影像，并从多个拍摄影像中辨识出多个制程参数的数据，且基于时间序列纪录所述制程生产线的多个制程参数的数据于所述参数数据库。
参数监控系统

[发明专利]共享半导体机台的方法与使用该方法的制造系统-CN200510096508.7无效
发明人：徐健 -专利权人：力晶半导体股份有限公司
申请日： 2005-08-22 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：一种使用共享半导体机台方法的制造系统，包括第一制造厂、第二制造厂与制程整合管理系统。该第一制造厂至少包括第一制造控制系统与第一制程机台。该第二制造厂耦接于该第一制造厂，其至少包括第二制造控制系统与第二制程机台。该制程整合管理系统耦接于该第一制造厂与该第二制造厂，用以根据制程条件判断将晶圆自该第一制程机台运送至该第二制程机台进行加工，藉由该第二制造控制系统将该晶圆运送到该第二制程机台以执行制程操作，以及当该批晶圆完成所欲执行的制程操作时，藉由该第一制造控制系统将该晶圆运送到该第一制造厂。
共享半导体机台方法使用制造系统

[发明专利]批次制程的虚拟量测方法与系统-CN201010262348.X无效
发明人：潘天红;陈山;李正明 -专利权人：江苏大学
申请日： 2010-08-25 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明批次制程的虚拟量测方法与系统，包括对一批待加工晶圆执行一制程后输出加工后的晶圆的制程机台，制程机台输出分别与制程控制系统和错误侦测与分类系统相接，靠近制程控制系统的输出部分设有量测机台，制程控制系统、错误侦测与分类系统、量测机台输出分别连接数据接收引擎模块输入，数据接收引擎模块输出连接计算机。本发明采用先进的制程控制、以工业统计方法对晶圆及时分析和处理，找到影响制程变化的关键变量，以滚动时间窗口及时捕获系统发生的工况变化，平移与漂移对建模的不利影响，提高模型的鲁棒性，减少晶圆处理的周期时间，改善制程工具的运作，减少量测工具的负担以及晶圆的成本，所建立的推理模型适用于制程的故障诊断。
批次虚拟方法系统

[发明专利]统计制程管制系统及其处理方法-CN200610136645.3无效
发明人：何煜文;郑炜缙 -专利权人：力晶半导体股份有限公司
申请日： 2006-10-27 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G05B19/02 文献下载
摘要：一种统计制程管制系统。当第一晶圆批量在第一晶圆厂中执行制程时，第一制造执行系统取得与该第一晶圆批量以及与该第一晶圆厂中的第一机台相关的第一制程信息。当第二晶圆批量在第二晶圆厂中执行制程时，该第二制造执行系统取得与该第二晶圆批量以及与该第二晶圆厂中的第二机台相关的第二制程信息。统计制程管制服务器同时管理与监控该第一制造执行系统与该第二制造执行系统，且自该第一制造执行系统与该第二制造执行系统取得该第一制程信息与该第二制程信息。
统计管制系统及其处理方法

[发明专利]使用批式制程腔室的基材处理装置-CN200580039849.9有效
发明人：兰多赫·撒库尔;史缔文·G·查那耶;约瑟夫·尤多夫斯基;阿朗·韦伯;阿达姆·A·布莱劳弗;尼尔·曼瑞;斐内·K·沙阿;安德列斯·G·贺格妲斯 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2005-11-22 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明的态样包含一种利用适于在一或多个批式及/或单一基材制程腔室中处理基材以增加该系统产能的多腔室制程系统(例如集结式机台)处理基材的方法及设备。在一实施例中，一系统是经配置以执行一基材制程程序，其仅含有批式制程腔室，或批式及单一基材制程腔室，以最佳化产能并最小化制程缺陷。在一实施例中，使用批式制程腔室来增加系统产能，通过在其中执行与该基材制程程序中其他制程配方步骤相比特别冗长的制程配方步骤。本发明的态样也包含一种传送前驱物至制程腔室的设备及方法，因此可重复执行ALD(原子层沉积)或CVD(化学气相沉积)沉积制程。
使用批式制程腔室基材处理装置

[发明专利]制程数据的检测方法、计算机可读介质及电子设备-CN202010910567.8在审
发明人：陈丹丹;谢明宏;苏笙华 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：本公开提供了一种制程数据的检测方法、计算机可读介质及电子设备，该检测方法包括：确定新增制程的制程数据；根据新增制程的制程数据，通过第一生产系统检测新增制程的晶圆载体种类和对应制程站点可接受的等级是否匹配，以及新增制程与对应制程站点的标签是否匹配；若不匹配，则检测不通过，输出第一检测信息；若两者均匹配，则通过第二生产系统检测新增制程的晶圆载体种类和对应制程站点可接受的等级是否匹配，以及新增制程与对应制程站点的标签是否匹配；若第二生产系统检测检测后不匹配，则检测不通过，输出第二检测信息。本公开提供的检测方法，能够提前避免出现因制程数据设定错误而导致生产线停线。
数据检测方法计算机可读介质电子设备

[发明专利]电迁移检查方法-CN201911032462.0在审
发明人：盂曾贤;杨尊宇 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-28 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本案提供一种电迁移检查方法，包括以下步骤：对原理图进行电迁移(electromigration；EM)检查制程，进行缓解制程以缓解在EM检查制程期间识别到的一或多个电迁移违规，及在设计制程的至少一次迭代后生成原理图设计的布局设计，此设计制程包括EM检查制程及缓解制程。EM检查制程包括在原理图中选择至少一些电路系统作为电迁移检查的选定电路系统，及检查所选定电路系统中的电迁移合规性。缓解制程包括以下一者：更改所选定电路系统的一些电路布局，更改原理图，或更改原理图与所选定电路系统的一些电路布局两者。
迁移检查方法

[发明专利]半导体制程检测系统及半导体制程检测方法-CN202010785550.4在审
发明人：黎焕诚;陈咏裕 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-08-06 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种半导体制程检测系统及半导体制程检测方法，其中，半导体制程检测系统包括：第一获取模块，用于获取预设制程配方，其中，预设制程配方中包括预设制程配方参数；第一获取模块还用于，向匹配模块发起匹配请求，并将预设制程配方发送至匹配模块；匹配模块，用于基于匹配请求，获取生产制程配方，其中，生产制程配方包括：生产制程配方流程和生产制程配方参数；匹配模块还用于，判断生产制程配方流程是否正确，并判断生产制程配方参数是否满足预设制程配方参数同时对生产制程配方中的制程过程和制程参数进行检验，通过更全面的检验方式保证制造出的晶圆具有较高的良率。
半导体检测系统方法

[发明专利]基板处理装置的控制装置和基板处理显示方法-CN201810205462.5有效
发明人：山本智子 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-03-13 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：目的在于在按照系统制程执行基板的处理之前容易地掌握处理室内的处理的时序。基于系统制程来执行基板的处理的基板处理装置具有：创建部，其当接收到基板处理制程和多个调节处理制程的输入时，创建表示所接收到的所述基板处理制程和多个调节处理制程的执行过程的系统制程；以及显示部，在按照所创建的所述系统制程执行基板的处理之前
处理装置控制显示方法

[发明专利]制程系统与制程方法-CN201710512379.8有效
发明人：周友华;庄国胜 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：一种制程系统与制程方法。制程系统包含机台、储存装置、第一数据库与处理器。机台用以在第一晶圆上实施半导体制程。储存装置用以储存多个计算机程序码。第一数据库用以从机台收集程序数据。根据过滤程序数据产生预测参数以供配方管理系统调整机台对第二晶圆实施半导体制程的至少一配方参数。
系统方法

[发明专利]制程方法及制程系统-CN201910908646.2有效
发明人：陈三城;李昇聪 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请涉及一种制程方法及制程系统，制程方法包括建立第一制程配方及第二制程配方，第一制程配方包括处理制程及量测制程，第二制程配方包括处理制程；创建晶圆识别码与第一制程配方的第一对应关系或晶圆识别码与第二制程配方的第二对应关系；将符合第一对应关系或者第二对应关系的晶圆指派给机台；机台对第一对应关系对应的晶圆执行第一制程配方，对第二对应关系对应的晶圆执行第二制程配方。上述的制程方法能够实现同一个机台同时对晶圆进行处理操作和量测操作，并且可以根据需要选择晶圆进行量测，而不需对每个晶圆都进行量测，提高了机台的使用率，缩短了机台的制程时间。
方法系统

[发明专利]半导体组件制造系统及其热力补偿次系统-CN200410104161.1无效
发明人：吴学昌;张知天;陆志诚;陈炳宏;周梅生 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2004-12-30 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种半导体组件制造系统，包括一制程腔室、一温度控制次系统以及一热力补偿次系统，其中温度控制次系统具有一制程次系统加热组件藉以产生一制程温度曲线。上述热力补偿次系统包括一温度传感器、一补偿热力控制单元以及一补偿加热组件，其中温度传感器用以侦测制程腔室温度曲线，而补偿热力控制单元用以计算制程温度曲线与一目标温度曲线间的差值，补偿加热组件则根据上述补偿热力控制单元所得的温度差值，而改变制程温度曲线。
半导体组件制造系统及其热力补偿

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