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[发明专利]摄像装置、图像处理方法-CN201380063634.5有效
发明人：仓桥秀和 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-11-11 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： H04N9/07 文献下载
摘要：本发明提供一种检测异常倾斜入射光的入射方向，并减少由异常倾斜入射光引起的混色的影响的摄像装置、图像处理方法及程序。本发明的摄像装置(10)具备异常倾斜入射光检测部(34)及校正部(36)，异常倾斜入射光检测部(34)对第1第1方向相同颜色相邻像素、第2第1方向相同颜色相邻像素、第1第1方向不同颜色相邻像素及第2第1方向不同颜色相邻像素的像素数据进行比较，由此检测来自第1方向的异常倾斜入射光。
摄像装置图像处理方法

[发明专利]一种倾斜入射的离子束抛光修形加工方法-CN201510236617.8有效
发明人：周林;戴一帆;李圣怡;解旭辉;廖文林 -专利权人：中国人民解放军国防科学技术大学
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种倾斜入射的离子束抛光修形加工方法，步骤包括根据待加工光学元件的形状和尺寸建立离子束修形加工路径；设定倾斜加工入射角获取倾斜入射去除函数并计算出离子束修形加工路径上各点Pi处的加工驻留时间τi；计算出各点Pi处的常规机床运动控制坐标，并修正为倾斜入射加工所需的机床运动控制坐标；根据离子束修形加工路径上各点Pi处的倾斜入射加工所需的机床运动控制坐标、加工驻留时间τi对待加工光学元件的表面进行数控修行加工本发明具有加工效率高、加工时间短的优点，而且由于倾斜入射的方式修形加工，能够减小某些材料的表面粗糙度、提高表面质量。
一种倾斜入射离子束抛光加工方法

[发明专利]图像处理装置、图像处理方法、程序及记录介质-CN201380063609.7有效
发明人：林健吉 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-11-11 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： H04N9/07 文献下载
摘要：在本发明所涉及的图像处理装置、图像处理方法、程序及记录介质中，对异常倾斜入射光(重影光)入射到的像素的像素数据，降低同色像素间的像素数据的级差，另外，对异常倾斜入射光未入射到的像素的像素数据，校正由像素特性所引起的混色当马赛克状的图像数据(RGB图像)被输入到混色判定校正部时，由混色校正判定部获取图像数据(像素数据)，由混色校正判定部判定图像数据中有无重影光等异常倾斜入射光。在判定为图像数据中有异常倾斜入射光的入射的情况下，进行混色校正B，消除G像素间的像素数据的级差。另一方面，在判定为图像数据中没有异常倾斜入射光的入射的情况下，进行混色校正A，校正与摄像元件固有的像素特性对应的混色。
图像处理装置方法程序记录介质

[发明专利]相位差补偿元件、液晶装置和投射型显示设备-CN200680025185.5无效
发明人：藤井隆满 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-07-07 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：一种相位差补偿元件包括至少一个双折射层压体，该双折射层压体包含透光基底材料和a个在倾斜入射真空蒸镀方向上有变化并被层压在透光基底材料表面上的无机倾斜入射真空淀积膜，其中a≥2。所述双折射层压体满足由公式(i)和公式(ii)所表示的条件：Re(1)＜Re(a) (i)；Re(b－1)≤Re(b) (ii)；其中b为满足条件2≤b≤a的任意整数其中Re(i)分别表示在形成所述“a”个无机倾斜入射真空淀积膜的诸阶段中在第i个膜形成阶段形成的无机倾斜入射真空淀积膜的延迟值d·Δn，其中1≤i≤a，d表示膜厚，且Δn表示双折射指数。
相位差补偿元件液晶装置投射显示设备

[发明专利]一种基于倾斜静磁场的斜入射式电磁声传感器-CN201811232524.8有效
发明人：刘增华;赵欣;李佳奇;何存富;吴斌 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2018-10-22 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： G01N29/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于倾斜静磁场的斜入射式电磁声传感器，该传感器由矩形钕铁硼磁铁和回折线圈组成。当传感器工作时，矩形钕铁硼磁铁提供倾斜于铝板的静磁场，载有高频电流的回折线圈在铝板集肤深度层内，感生出方向相反且周期分布的感应涡流。超声波斜入射有利于提高电磁声传感器的模态控制能力。通过实验验证了所研制的斜入射式电磁声传感器可降低不需要模态的幅值，增强了电磁声传感器的模态控制能力。通过扫频和声场指向性测试实验，验证了所研制的斜入射式电磁声传感器具有较好的频率响应特性和声场指向性。本发明将矩形钕铁硼磁铁倾斜极化，增加调整入射声波角度的方法，增强了传统电磁声传感器的模态控制能力，具有极大的应用价值。
一种基于倾斜磁场入射电磁传感器

[发明专利]一种模拟弹丸倾斜入射结构件喷丸强化的模拟方法-CN202210403097.5在审
发明人：张炜;惠丁丁;贺韡;王永军;胡彦华;别吉松 -专利权人：中航西安飞机工业集团股份有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： G06F30/23 文献下载
摘要：本发明提出了一种模拟弹丸倾斜入射结构件喷丸强化的模拟方法。根据单弹丸撞击有限元模拟得到的弹坑直径及饱和喷丸覆盖率计算得到饱和喷丸时的弹丸数量；建立了不同弹丸入射角及弹丸入射速度下残余应力的计算方法，根据弹丸垂直入射时弹丸撞击区域沿深度方向的残余应力计算弹丸倾斜入射时弹丸撞击区域沿深度方向的残余应力；建立了弹丸多次打击区域的残余应力的计算方法，根据不同弹丸入射速度及弹丸入射角下弹丸撞击区域沿深度方向的残余应力计算弹丸多次打击时弹丸撞击区域沿深度方向的残余应力；将不同喷丸条件下的残余应力以初始应力的方式引入结构件模型，以此进行弹丸倾斜入射结构件的喷丸强化变形有限元模拟。
一种模拟弹丸倾斜入射结构件强化方法

[发明专利]激光照射方法和激光照射器件以及制造半导体器件的方法-CN02143428.X有效
发明人：田中幸一郎;宫入秀和;志贺爱子;下村明久;矶部敦生 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2002-09-25 - 公布日： 2003-04-09 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本发明的特征在于通过倾斜入射到凸透镜的激光束，出现诸如像散等的像差，并且激光束的形状在照射表面或其周围区域内形成线状。由于本发明具有非常简单的结构，光线调节较容易，并且器件尺寸变小。此外，由于光束相对于被照体倾斜入射，可防止返回光束。
激光照射方法器件以及制造半导体器件

[发明专利]激光照射方法和激光照射器件以及制造半导体器件的方法-CN200610126206.4有效
发明人：田中幸一郎;宫入秀和;志贺爱子;下村明久;矶部敦生 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2002-09-25 - 公布日： 2007-02-21 - 主分类号： B23K26/06 文献下载
摘要：本发明的特征在于通过倾斜入射到凸透镜的激光束，出现诸如像散等的像差，并且激光束的形状在照射表面或其周围区域内形成线状。由于本发明具有非常简单的结构，光线调节较容易，并且器件尺寸变小。此外，由于光束相对于被照体倾斜入射，可防止返回光束。
激光照射方法器件以及制造半导体器件

[发明专利]激光照射方法和激光照射器件以及制造半导体器件的方法-CN200610006425.9有效
发明人：田中幸一郎;宫入秀和;志贺爱子;下村明久;矶部敦生 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2002-09-25 - 公布日： 2006-09-06 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明的特征在于通过倾斜入射到凸透镜的激光束，出现诸如像散等的像差，并且激光束的形状在照射表面或其周围区域内形成线状。由于本发明具有非常简单的结构，光线调节较容易，并且器件尺寸变小。此外，由于光束相对于被照体倾斜入射，可防止返回光束。
激光照射方法器件以及制造半导体器件

[发明专利]以倾斜入射角于样本表面上的检验光束成形-CN201980011635.2有效
发明人：许志伟;黄春圣;李晴 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-02-11 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G02B26/06 文献下载
摘要：本发明揭示一种用于光学检验工具的光束成形器，其包含：聚焦透镜，其用以使光束以一倾斜入射角聚焦到目标上；及相位调制器，其用以在所述光束以所述倾斜入射角聚焦到所述目标上时使所述光束的顶部在所述目标的平面中基本上变平
倾斜入射角样本表面上检验光束成形

[发明专利]溅射装置-CN202211560533.6在审
发明人：松本行生;内田敏治;菅原洋纪;佐野爱弓 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：所述溅射装置具备：移动机构，其移动基板；靶材，其使溅射粒子朝向所述基板飞散；磁铁，其以使来自所述靶材的溅射粒子的主飞散方向成为从所述基板的法线方向倾斜的斜入射方向的方式配置，在所述靶材的表面形成磁场；切换机构，其根据所述移动机构进行的所述基板的移动的方向的变更，以将所述主飞散方向从第一斜入射方向变更为与所述第一斜入射方向不同的第二斜入射方向的方式切换所述磁铁的朝向。
溅射装置

[发明专利]OCT装置用光检测模块及OCT装置-CN201580054288.3有效
发明人：牧野健二;稻垣正人;田畑桂 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2015-10-08 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：一种OCT装置用光检测模块(1)，在OCT装置(100)中检测从光纤(F)的射出端面(FS)射出的干涉光(LC)，其中，具备：球透镜(7A)，其具有入射从射出端面(FS)射出的干涉光(LC)的入射面(71)和射出入射到入射面(71)的干涉光(LC)的射出面(72)；光电二极管(8)，其具有入射从射出面(72)射出的干涉光(LC)的检测面(81)，入射面(71)相对于干涉光(LC)的入射位置(74)上的垂线(75)倾斜入射干涉光(LC)，射出面(72)相对于干涉光(LC)的射出位置(76)上的垂线(77)倾斜射出干涉光(LC)，检测面(81)相对于干涉光(LC)的入射位置(82)上的垂线(83)倾斜入射干涉光
oct 装置用光检测模块

[实用新型]一种基于连续波的双层瓜果组织光学特性无损检测装置-CN201520226582.5有效
发明人：谢丽娟;王爱臣;王陈;应义斌 -专利权人：浙江大学
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2015-10-14 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：一种基于连续波的双层瓜果组织光学特性无损检测装置，包括高光谱成像系统、光源系统及样本输送装置；其中，高光谱成像系统包括依次连接的CCD相机、成像光谱仪及镜头，镜头竖直朝下布置；光源系统包括两个光源，分别与两个光源耦合的垂直入射光纤、倾斜入射光纤及光纤固定支架，垂直入射光纤、倾斜入射光纤分别通过固定螺母垂直固定在光纤固定支架上，且垂直入射光纤位于倾斜入射光纤的前侧，光纤固定支架沿样本运动方向布置，并与镜头的轴线呈一定夹角。
一种基于连续双层瓜果组织光学特性无损检测装置

[发明专利]摄像装置、异常倾斜入射光检测方法、程序及记录介质-CN201380063221.7有效
发明人：泽田石有人 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-11-11 - 公布日： 2015-09-09 - 主分类号： H04N9/07 文献下载
摘要：本发明提供与拍摄时使用的透镜等无关地精度良好地检测由眩光等引起的异常倾斜入射光的摄像装置、异常倾斜入射光检测方法、程序及记录介质。对第一RB像素对(52)的蓝色像素B的像素数据与第二RB像素对(54)的蓝色像素的像素数据进行比较，而检测有无眩光(异常倾斜入射光)向彩色摄像元件(27)入射。
摄像装置异常倾斜入射检测方法程序记录介质

[发明专利]一种利用柱面镜进行激光倾斜入射的能量补偿方法-CN201110389830.4无效
发明人：邹世坤;曹子文;车志刚 -专利权人：中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所
申请日： 2011-11-25 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明是一种利用柱面镜进行激光倾斜入射的能量补偿方法，本发明技术方案是在不改变激光光斑形状的要求下，提出一种利用单个柱面镜或者柱面镜组合的方式，通过对激光作用延伸方向进行预压缩的方式，实现倾斜入射作用区域等同于垂直入射的一种能量补偿方案
一种利用柱面进行激光倾斜入射能量补偿方法

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