专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]CT/MR分割处理方法、装置、设备及介质-CN201910240477.X有效
  • 陈浩;黄逸杰 - 深圳视见医疗科技有限公司
  • 2019-03-27 - 2021-06-01 - G06T7/11
  • 本发明公开了一种CT/MR分割处理方法、装置、设备及介质,本发明基于大数据深度学习算法,该方法包括:获取CT/MR,对该CT/MR进行重采样处理,得到预设尺寸的图像块,获取该图像块的最优临界包围盒;通过预存的检测分割一体化的卷积神经网络模型,对该最优临界包围盒进行检测以及分割处理,得到CT/MR中标记所需目标区域的分割标签,其中,所述卷积神经网络模型包括残差块,该残差块中包括批归一化层以及卷积层交替的交替结构本发明解决现有技术中对CT/MR处理精度以及处理速度难以满足市场需求的技术问题。
  • ctmr三维图像分割处理方法装置设备介质
  • [发明专利]的关键点标注方法、装置、电子设备及存储介质-CN202010600185.5在审
  • 彭昊天 - 北京百度网讯科技有限公司
  • 2020-06-28 - 2020-10-13 - G06T15/00
  • 本申请公开了的关键点标注方法、装置、电子设备及存储介质,涉及计算机视觉、深度学习及神经网络领域。具体为:针对待标注中的各个顶点,确定顶点所在角面片的法向量与视线方向的夹角,将夹角大于预设阈值的角面片对应的顶点删除,得到切割后的;视线方向为与所述的底部平面垂直、并且指向所述的方向;将切割后的进行裁剪,将切割后的的下部区域作为裁剪后的;将裁剪后的进行渲染,得到对应的二图像;确定二图像中拐点程度最大的二关键点,将二关键点透视至待标注上,得到待标注关键点。本申请能标注特征明确且独立的关键点。
  • 三维图像关键标注方法装置电子设备存储介质
  • [发明专利]处理装置-CN200510126857.9有效
  • 大石悟 - 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社
  • 2005-11-24 - 2006-06-07 - A61B6/00
  • 本发明的处理装置具备:存储与被检体有关的摄影方向不同的造影前的多个掩模图像的数据和造影后的多个对比度图像的数据的存储部件(23);根据多个掩模图像的数据再构成第一三维的数据,根据多个对比度图像的数据再构成第二三维的数据的再构成部件(32);通过基于第一、第二三维的数据之间的解剖学构造的比较,修正第一三维相对于第二三维的位置偏离,生成第三三维的数据的位置偏离修正部件(33);通过对第二三维的数据和第三三维的数据进行减法运算,生成第四三维的数据的处理部件(34)。
  • 三维图像处理装置
  • [实用新型]空间红外交互装置-CN201220324582.5有效
  • 田丰;凌晨;田晶;蔡文;张文俊 - 上海大学
  • 2012-07-06 - 2013-01-16 - G06F3/01
  • 本实用新型涉及一种空间红外交互装置,它由箱体、CMOS摄像头、红外灯、DSP处理芯片、数据转换器和显示装置组成,利用红外光在被物体遮挡后,其反射光的亮度波形随着物体离光源的距离而变化的原理,在紧靠一个带红外透镜的CMOS摄像头的位置放置一180°的红外灯;再将CMOS摄像头获得的图像数据传入DSP处理芯片;然后DSP处理芯片处理后的坐标数据传至数据转换器,对要显示的进行调整后再渲染;最后数据传送至显示装置显示。
  • 三维空间红外交互装置
  • [发明专利]基于重力场模型的管道状物体拉直的图像处理方法-CN200910055601.1无效
  • 赵俊;李雷 - 上海交通大学
  • 2009-07-30 - 2009-12-30 - G06T15/00
  • 一种图像处理技术领域的基于重力场模型的管道状物体拉直的图像处理方法,包括以下步骤:对管道状物体的内壁数据和外壁数据进行网格划分并生成外壁有限元模型;对外壁有限元模型施加边界条件和重力场载荷;进行非线性有限元拉直变形分析;使用基于特征点的非刚体配准的方法实现内壁数据的拉直;采用中心路径生成算法计算外壁数据的中心路径和拉直变形后的外壁数据的中心路径;进行旋转失真校正处理和长度失真校正处理本发明能够进一步获得优化的管道状物体拉直后的图像,避免了现有技术中基于电场模型和中心路径拉直方法所造成的拉直算法失效问题。
  • 基于重力场模型管道物体拉直图像处理方法
  • [发明专利]图像编辑系统和方法-CN202111622945.3在审
  • 邵泉 - 北京快来文化传播集团有限公司
  • 2021-12-28 - 2022-04-08 - G06T19/20
  • 本申请公开了一种图像编辑系统和方法,拍摄并保存第一图像,对第一图像进行抠图处理形成第二图像,并保存第二图像;对第二图像进行转换处理:识别第二图像上人物特征点,将人物特征点代入标准人脸模型,并根据人物特征点进行人物大小与形状的调节,获取;对进行美化处理,判断美化处理的类型,获取美化处理指令,根据美化处理指令对中的任务特征点进行渲染,获取美化图像。通过对第一图片进行抠图处理转换处理和美化处理,提高图像视觉冲击力,提高图像质感。
  • 图像编辑系统方法
  • [发明专利]数据处理方法及系统-CN202310308070.2在审
  • 丛明明;高琳洁;信子君;宋佳颖;苏亮 - 青岛国实科技集团有限公司
  • 2023-03-27 - 2023-07-14 - G06T15/00
  • 本申请涉及涉及数据处理方法及系统,其中,该方法包括初始配置步骤,获取待处理,并配置MPI进程数量;图像帧并行处理步骤,将逐帧分拆为图像帧,并配置每一图像帧的MPI进程数量,基于MPI进程并行处理图像帧的渲染任务,其中,每一图像帧对应一Leader MPI进程和多个Worker MPI进程;图像块并行处理步骤,将图像帧分拆为有序图像块,并将图像块绑定至对应的Leader MPI进程、Worker MPI进程,并行处理渲染任务并根据渲染结果处理降噪任务;处理结果获取步骤,Leader MPI进程根据图像帧中所有图像块的降噪结果输出经渲染降噪后的图像帧,基于渲染降噪后的图像帧得到处理后的通过本申请,实现提高模型的渲染降噪任务的处理效率。
  • 三维图像数据处理方法系统
  • [发明专利]一种形识别方法、装置、设备及存储介质-CN202010131988.0在审
  • 李鹏;田烨;周迪曦 - 上海牙典软件科技有限公司
  • 2020-02-28 - 2020-07-14 - G06K9/00
  • 本申请公开了一种形识别方法、装置、设备及存储介质,所述方法包括获取目标模型的点云;对目标模型的点云进行预处理,得到目标二数组及目标模型中的点与二像素的映射关系;基于目标二数组及目标模型的点云中各点的特征数据,得到与目标模型对应的目标二图像;基于二图像识别网络对目标二图像进行图像识别;将目标二图像识别结果映射到目标模型,得到目标形识别结果。利用本申请提供的技术方案可以将处理问题变换为二图像处理问题。利用二图像识别更加成熟、效率高、识别准确的特点,得到更加可靠的形识别结果,且需要的训练数据较少,节省了成本和时间。
  • 一种三维图形识别方法装置设备存储介质
  • [发明专利]基于数据处理的荧光成像方法及装置-CN202211043998.4有效
  • 蔡惠明;李长流;王子阳;倪轲娜;卢露 - 南京诺源医疗器械有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-11-08 - G06T15/00
  • 本发明提供一种基于数据处理的荧光成像方法及装置,根据荧光二图像以及白光二图像生成与病变组织对应的荧光融合图像;对荧光融合图像进行划分得到多个子,建立每个子所对应的预设存储空间,将相应区域位置的荧光二图像和白光二图像存储于预设存储空间内;根据第一子的区域位置确定多个第二子,根据每个第二子所对应第二荧光二图像中的荧光像素点的数量确定至少一个第荧光二图像;根据第荧光二图像的数量生成图像显示框,基于图像显示框对荧光融合图像、第一荧光二图像、第一白光二图像、第荧光二图像、及第荧光二图像对应的第白光二图像进行显示。
  • 基于数据处理荧光三维成像方法装置
  • [发明专利]用于半导体晶片检验的成像-CN201780061620.8有效
  • P·科尔钦;R·达南;P·梅斯热 - 科磊股份有限公司
  • 2017-10-05 - 2023-06-20 - H01L21/66
  • 本文中描述用于基于的半导体晶片上的所关注缺陷DOI的改进检测与分类的方法及系统。厚分层结构的体积的成像以高处理量实现在个维度中的精确缺陷检测及缺陷位置的估计。在数个不同晶片深度处获取一系列图像。从所述系列图像产生厚半导体结构的。基于所述厚半导体结构的所述的分析来对缺陷进行识别及分类。在一些实例中,通过等高线图或横截面图来可视化堆叠以识别特性缺陷响应。在一些实例中,以算法方式处理所述以对缺陷进行识别及分类。在另一方面中,基于所述,在个维度中估计缺陷的位置。
  • 用于半导体晶片检验三维成像

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