专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高精度丝网的制作方法-CN202210608756.9有效
  • 黄卫钢 - 广东微容电子科技有限公司
  • 2022-05-31 - 2022-12-27 - B41C1/14
  • 本发明的高精度丝网的制作方法包括以下步骤:S1:制作参考丝网,在参考丝网上制作多个尺寸一致的参考图形区;S2:使用步骤S1制作的参考丝网印制电极图案;S3:在步骤S2印制形成的电极图案中选取多个作为参考电极图案,并分别测量其尺寸;S4:制作高精度丝网,根据步骤S3测量的各参考电极图案的尺寸,调整高精度丝网上各高精度图形区的尺寸。与现有技术相比,本发明根据参考丝网印制的电极图案尺寸相对于电极图案的设计尺寸的偏差来制作高精度丝网,使用本发明的方法制作的高精度丝网印制得到的电极图案,不仅每个电极图案尺寸与电极图案的设计尺寸偏差更小,各电极图案之间的尺寸偏差也更小,由此减小片式多层陶瓷电容器的电容值偏差,提升片式多层陶瓷电容器的良品率。
  • 一种高精度丝网制作方法
  • [实用新型]一种高精度反射片-CN202021481513.6有效
  • 何伟亮 - 奥普镀膜技术(广州)有限公司
  • 2020-07-24 - 2021-02-09 - G02B5/08
  • 本实用新型提出一种高精度反射片,包括硅基板,硅基板上表面设置有高反膜,高反膜上表面镀有带限位图案的矩阵阵列。其中,由硅基板和高反膜组成反射片的主体,并在反射片的反射面上,即高反膜的上表面通过镀膜的方式镀有一层有特殊限位图案高精度矩阵作为高精度厚度层,得到高精度的1/4λ反射片,满足反射片对厚度高精度及高额反射率的要求
  • 一种高精度反射
  • [实用新型]一种高精度图案测量装置-CN202220078548.8有效
  • 陈宏渊 - 艾斯尔光电(南通)有限公司
  • 2022-01-13 - 2022-06-03 - G01B5/02
  • 本实用新型涉及测量技术领域,且公开了一种高精度图案测量装置,解决了目前在物品对外表面图案测量时,通常通过人员手动扶持,随后通过量尺进行测量,测量效果不准确的问题,其包括支撑板,所述支撑板上端中部连接有测量板电机带动螺纹杆转动,滑块滑动,带动两个支撑杆进行移动,两个卡板对测量物本体下端进行固定,提高测量物的稳定性,能够提高测量的精准度;滑板移动使得移动板移动,移动板对测量物本体表面团进行过测量,通过刻度板能够精准测量处图案的长度,鉴于对图案进行测量,提高测量的效率。
  • 一种高精度图案测量装置
  • [发明专利]描绘装置和描绘方法-CN03813193.5无效
  • 泽野充;冈崎洋二;永野和彦;石川弘美;藤井武 - 富士胶片株式会社
  • 2003-06-06 - 2005-08-24 - H05K3/10
  • 取得用简单的步骤能进行包含2维到3维的描绘,并且能形成高精度图案的描绘装置以及使用该描绘装置的描绘方法。在描绘装置中,在同一扫描台上配置有曝光头以及导电体喷头、绝缘体喷头,在扫描台上的印刷电路板上,能在同一扫描台上形成图案,并且能缩短图案化间的时间,能实现图案形成的高速化。另外,不产生曝光头以及喷头对印刷电路板的位置偏移,所以图案高精度化是容易的,能形成高精度图案
  • 描绘装置方法
  • [发明专利]一种高精度反射片及其制备方法-CN202010720703.7在审
  • 何伟亮 - 奥普镀膜技术(广州)有限公司
  • 2020-07-24 - 2020-09-22 - G02B5/08
  • 本发明提出一种高精度反射片,包括硅基板,硅基板上表面设置有高反膜,高反膜上表面镀有带限位图案的矩阵阵列。其中,由硅基板和高反膜组成反射片的主体,并在反射片的反射面上,即高反膜的上表面通过镀膜的方式镀有一层有特殊限位图案高精度矩阵,用于高精度的定位,能够满足反射片在使用中对厚度高精度的要求,得到高精度的1本发明还提出了一种高精度反射片的制备方法,其具体包括以下步骤:对硅基板进行面型修正,使反射面的面型小于1/4λ;在硅基板上表面镀设高反膜;在高反膜上表面镀制纳米材料的矩阵阵列。
  • 一种高精度反射及其制备方法
  • [发明专利]一种高精度图案化可拉伸电极及其制备方法-CN201910091971.4有效
  • 赵晓丽;汤庆鑫;童艳红;杨硕;孙子晶 - 东北师范大学
  • 2019-01-30 - 2020-09-11 - H01B5/14
  • 本发明公开了一种高精度图案化可拉伸电极及其制备方法。所述高精度图案化可拉伸电极,为贴附于弹性基底上的图案化电极;图案化电极为连接碳纳米管的金属电极;金属电极为金电极;金属电极通过巯基乙胺与所述碳纳米管连接。所述高精度图案化可拉伸电极按照包括如下步骤的方法制备:在设有电极图案的衬底上蒸镀金属得到金属电极;在金属电极的表面喷涂碳纳米管;在碳纳米管的表面上制备弹性基底,从衬底上剥离后即得。本发明提供的图案化可拉伸电极,结合传统金电极电导率高和碳纳米管高纵横比,比表面积大的优点,充分实现了优势互补,制备出高拉伸性能兼具良好导电性的高精度图案化可拉伸电极。
  • 一种高精度图案拉伸电极及其制备方法
  • [发明专利]刻蚀图案套印高精度对位方法及装置-CN201610095279.5有效
  • 丁志强;肖新民;祁宏山 - 常州天合光能有限公司
  • 2016-02-22 - 2017-07-28 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种刻蚀图案套印高精度对位方法,包括下述步骤S1提供硅片和浆料载体;S2视觉识别系统拍摄硅片的图片;S3在图片上选取固定位置的ROI区域,通过垂直投影方法,获得一组ROI区域内的数据,通过离散数据曲线平滑算法对数据进行预处理,计算得出波峰的位置和线宽;S4比对ROI区域内掩膜线的线宽与波峰的宽度,计算得出掩膜线图案的角度;S5通过运动装置旋转硅片相应的角度和位置,使掩膜线的图案和浆料载体图案重合;S6激光作用到浆料载体上,浆料最终作用到掩膜线的图案位置。同时,本发明还公开了一种刻蚀图案套印高精度对位装置。本发明提高了刻蚀图案与电极图案对位的精准度,提高了电池片的效率,节省了掩膜成本。
  • 刻蚀图案套印高精度对位方法装置
  • [实用新型]一种双台面的车载玻璃的曝光结构-CN202020032799.3有效
  • 潘钰;王群 - 江苏格微晶智能科技有限公司
  • 2020-01-08 - 2020-12-11 - B41J2/475
  • 本实用新型公开了一种双台面的车载玻璃的曝光结构,包括运动平台,所述运动平台包括高精度基座和高精度运动系统,所述高精度基座上端固定连接有对S型车载玻璃进行夹紧的S型车载玻璃工装夹具,所述高精度基座安装有对车载玻璃进行曝光的曝光头系统,所述高精度基座安装有对高精度运动系统运动进行控制的高精度控制系统。本实用新型通过设置曝光头系统,使得曝光头系统的高分辨率激光系统和多功能投射方式使的图像解析度高,图案更精细、色彩均匀还原度更佳,并且位移传感器精准测量激光镜头和工件之间的距离,并由镜头运动系统始终保持镜头和工件处于最佳工作距离
  • 一种台面车载玻璃曝光结构

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