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[发明专利]化学机械抛光垫复合抛光层配制品-CN201610461665.1有效
发明人： B·钱;J·考兹休克;T·布鲁加罗拉斯布鲁福;D·卢戈;G·C·雅各布;J·B·米勒;T·Q·陈;M·R·斯塔克;J·J·亨德伦 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司
申请日： 2016-06-23 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：提供一种化学机械抛光垫，其含有：具有抛光表面的抛光层；其中所述抛光层包含第一连续非短效聚合物相和第二非短效聚合物相；其中所述第一连续非短效聚合物相具有多个周期性凹座；其中所述多个周期性凹座由所述第二非短效聚合物相所占据；其中所述第一连续非短效聚合物相的开孔孔隙率≤6体积％；其中所述第二非短效聚合物相的开孔孔隙率≥10体积％；以及其中所述抛光表面适于抛光衬底。
化学机械抛光复合抛光配制

[发明专利]一种非接触抛光中间隙调控与抛光力测量装置及方法-CN202211733264.9在审
发明人：侯溪;马伟皓;李佳慧;陈强;张云 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24B49/00 文献下载
摘要：本发明提供一种非接触抛光中间隙调控与抛光力测量装置及方法，用于先进光学制造领域的非接触抛光中的抛光间隙调控与抛光力测量。该装置包括：主轴、抛光工具、光学元件、夹具、连接板、力传感器、载物台。该方法在未抛光状态时，依靠力传感器判断抛光工具与光学元件之间的接触状态并定位到初始间隙；在抛光状态时，根据力传感器测量的抛光力调控抛光工具与光学元件之间的间隙稳定。本发明为先进光学制造非接触抛光领域提供一种抛光间隙精确测量与调控的方法，有助于在抛光过程中维持抛光效果稳定，获得超光滑的光学表面。
一种接触抛光间隙调控测量装置方法

[发明专利]一种非导磁平面抛光装置及抛光方法-CN201810125489.3在审
发明人：刘顺;许召宽;韩冰;刘冬冬 -专利权人：辽宁科技大学
申请日： 2018-02-08 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及非导磁面抛光技术领域，尤其涉及一种非导磁平面抛光装置。包括上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计；上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置，测力计固定在铣床工作台上，支撑装置固定在测力计上，下抛光体安装在支撑装置上，上抛光体固定在铣床的转轴上；上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转本发明适用于非导磁平面，可对利用磁研磨法无法进行抛光的非导磁平面进行有效地处理；成本低、效率高；通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光，保证了工件的表面质量与平面度。
抛光体测力计非导磁支撑装置抛光平面抛光装置铣床抛光技术领域磁极距离调整工件翻滚作用同步旋转依次设置磁力刷磁研磨法向力平面度有效地磁耦刮擦转轴测量合同保证

[发明专利]一种用于非晶合金的抛光蜡及其制备方法、以及一种非晶合金的抛光方法-CN201010216450.6有效
发明人：范正锋;曹建岭 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2010-06-28 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： C09G1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种用于非晶合金的抛光蜡及其制备方法，所述抛光蜡包括：磨料、脂肪酸、蜡类以及添加剂，其中，所述磨料由主磨料和辅助磨料组成，主磨料选自氧化锆、氧化铬中的至少一种，辅助磨料选自碳化硅、碳化硼以及氮化硼中的至少一种，以抛光蜡的总重量计，所述主磨料的含量为15wt％-35wt％，所述辅助磨料的含量为4wt％-10wt％，另外，本发明还涉及一种非晶合金的抛光方法，采用如上所述的抛光蜡对非晶合金进行机械抛光。本发明所提供的用于非晶合金的抛光蜡采用复配磨料，可以显著增强抛光蜡的研磨切削能力，提高抛光效率，采用其进行抛光后的非晶合金样品的表面粗糙度Ra小于0.3μm。
一种用于合金抛光及其制备方法以及

[发明专利]一种可控间断非连续剪切增稠抛光方法及装置-CN202011049368.9有效
发明人：李敏;谢建成;刘明辉;宋方增 -专利权人：湖南科技大学
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：一种可控间断非连续剪切增稠抛光方法，包括如下步骤：1)将工件固定在实施设备的抛光加工盘机构上；2)配制具有可控间断非连续剪切增稠新型抛光液，并将其置于抛光液循环系统中；3)启动可控间断非连续剪切增稠抛光液循环系统，使得抛光液经循环系统供给至工件表面；4)启动主轴驱动装置；5)通过可控间断非连续剪切增稠的一体化控制装置使抛光液黏度由临界增稠点直接向黏度高位点的稳态间断跃迁，并能在剪切作用下维持高位点黏度的持续稳定状态以及提供一种可控间断非连续剪切增稠抛光装置。本发明提高加工效率、保证抛光过程的稳定；可用于多种面形、薄形零件以及不同材料的抛光。
一种可控间断连续剪切抛光方法装置

[发明专利]多孔聚氨基甲酸乙酯抛光片-CN200410058661.6无效
发明人：克莱德·A·福西特;T·托德·克尔克维纳斯;肯尼思·A·普莱贡;伯纳德·福斯特 -专利权人： CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司
申请日： 2004-07-27 - 公布日： 2005-02-23 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：抛光半导体基片的一种多孔抛光片。所述抛光片有用凝结的聚氨基甲酸乙酯制造的多孔基体和非纤维抛光层。所述非纤维抛光层有孔数为每平方毫米至少500孔的抛光面，所述孔数随所述抛光层的磨薄而减少，所述抛光面的粗糙度Ra在0.01和3微米之间。
多孔氨基甲酸抛光

[发明专利]磁流变非晶合金抛光装置、抛光液及抛光方法-CN201610225851.5在审
发明人：宋佳 -专利权人：宋佳
申请日： 2016-04-13 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁流变非晶合金抛光装置，包括抛光槽、固定夹紧装置、电机和磁场发生装置，其中抛光槽内装载磁流变抛光液，固定夹紧装置将待抛工件固定于抛光液中，使工件抛光面与抛光槽底部之间产生间隙；磁场发生装置设于抛光槽外部，其产生的外加磁场使磁流变抛光液中的磁性颗粒发生流变效应，从而使工件抛光面与抛光槽底部之间形成磁流变团聚体；电机与抛光槽相连，可带动抛光槽旋转或者作往复运动。本发明将磁流变抛光工艺引入非晶合金的抛光过程中，提供了适于使用的抛光装置，不仅可以对非晶合金产品进行有效抛光从而得到镜面光泽的表面，同时抛光工艺简单易行，适合大规模化生产。
流变合金抛光装置方法

[发明专利]一种非晶材料的加工机械设备-CN202110560071.7在审
发明人：李卫荣;李艳芳;李春华;杨潘;胡丽君;胡行;李文娟 -专利权人：东莞宜安科技股份有限公司
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种非晶材料的加工机械设备，包括工作台，所述工作台的顶部设有传送带，所述工作台的表面设有抛光室和打磨室，且抛光室和打磨室相互靠近的一侧固定连接，所述抛光室内设有下压板，所述抛光室内设有抛光辊，所述抛光室内设有电动伸缩杆。本发明非晶材料的加工机械设备，设置传送轮，可以减少传送带的摩擦力，能减少损耗，设置橡胶层，在非晶材料金属通过传送带进入抛光室和打磨室内进行加工时，能增加非晶材料金属的摩擦力，使其在抛光和打磨时不会出现移动
一种材料加工机械设备

[发明专利]一种超精密复合抛光方法-CN201210181335.9有效
发明人：陶岳雨;陶近翁 -专利权人：上海卡贝尼精密陶瓷有限公司
申请日： 2012-06-04 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： B24B35/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种超精密复合抛光方法，包括：（1）化学机械抛光：采用超细软磨粒，高性能石蜡和合成树脂制得的软材质研具以及高效活性加工液进行化学机械抛光；水合抛光：采用过热水蒸气、抛光研具和加热器进行水合抛光；非接触浮动抛光：采用SiO2胶粒、CeO2磨粒、研具和抛光液进行非接触浮动抛光；（2）对工件加工时，同时实施或交替实施上述化学机械抛光、水合抛光和非接触浮动抛光，即得经过复合抛光的工件。本发明在加工表面产生交互抛光作用，明显提高了加工质量和加工工效；主要用于功能陶瓷元器件最终超精密抛光加工，不仅抛光速度快，比传统单一抛光方法提高3-5倍。
一种精密复合抛光方法

[发明专利]一种非晶合金的抛光方法-CN202010273340.7在审
发明人：梁广平;杨兴;董大伟;高宽 -专利权人：东莞市逸昊金属材料科技有限公司
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种非晶合金的抛光方法，包括如下步骤：步骤1：采用开粗抛光液，在开粗研磨盘上对非晶合金进行开粗；步骤2：采用第一中抛抛光液，在第一中抛研磨盘上对非金合金进行一次中抛；步骤3：采用第二中抛抛光液，在第二中抛研磨盘上对非晶合金进行二次中抛；步骤4：采用精抛抛光液，在精抛研磨盘上对非晶合金进行精抛。本发明提供了一种非晶合金的抛光方法，通过增设二次中抛步骤以修复在先步骤在非晶产品上留下的加工痕迹，缩短了精抛步骤的所需时长，因此避免了因精抛时间过长造成的产品性能受损。
一种合金抛光方法

[发明专利]激光辐照结合蜡封抛光制备高质量非晶合金微凹坑的方法-CN202210498165.0有效
发明人：黄虎;钱永峰;洪婧;汪井涛;郭爽;安鸿 -专利权人：吉林大学
申请日： 2022-05-09 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： B23K26/356 文献下载
摘要：本发明涉及激光辐照结合蜡封抛光制备高质量非晶合金微凹坑的方法，属于材料表面微纳结构制造领域。包括以下步骤：对非晶合金表面进行机械研磨与抛光；对研磨抛光后的非晶合金表面进行纳秒激光辐照，获得微凹坑阵列结构；在微凹坑阵列结构表面涂上一层薄薄的石蜡，随后利用抛光液对其进行机械抛光，在这个过程中，抛光液中的抛光颗粒会渗入到石蜡与微凹坑内壁的间隙中，使得微凹坑结构的表面质量得到改善；利用丙酮对机械抛光后的非晶合金表面进行清洗，获得具有高表面质量的非晶合金微凹坑阵列结构。通过改变相邻辐照点的间距和抛光过程参数，可高效地制备具有不同特征尺寸的微凹坑阵列，在摩擦学、微纳光学、微模具等领域具有良好的应用前景。
激光辐照结合抛光制备质量合金微凹坑方法

[发明专利]一种非晶合金抛光方法-CN200910189446.2有效
发明人：赵军 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2009-12-25 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明提供一种非晶合金抛光方法，该方法包括：1)将非晶合金进行机械抛光，得到粗糙度Ra为0.05-0.2μm的非晶合金；2)对步骤(1)所制得的非晶合金除蜡，得到经过除蜡的非晶合金；3)将经过除蜡的非晶合金，在保护气氛或者真空条件下，用激光将非晶合金表面熔融，然后冷却至室温，获得经过激光处理的非晶合金；4)对步骤(3)中制备的经过激光处理的非晶合金进行机械抛光，获得粗糙度Ra为0.01-0.025μm的非晶合金，经过本发明所提供的非晶合金抛光方法所获得的非晶合金不仅具有较低的表面粗糙度，还具有较高的表面硬度。
一种合金抛光方法

[发明专利]一种超声控制的剪切增稠抛光方法及其装置-CN201410400983.8有效
发明人：吕冰海;董晨晨;戴伟涛;翁海舟;袁巨龙 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2014-08-13 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： B24B1/04 文献下载
摘要：一种超声控制的剪切增稠抛光方法，包括以下步骤：1)向抛光池中加入混有磨粒的具有剪切增稠效应的非牛顿流体抛光液，并将工件固定在夹具上，夹具位于抛光池的上方；2)启动抛光液循环系统，使非牛顿流体抛光液循环地从抛光池底部抽出并从抛光池上部输入；3)启动超声波发生装置，同时设定振动频率和振幅，使抛光池内的非牛顿流体抛光液迅速发生振动，使抛光液发生强烈的剪切增稠的现象；4)调节夹具，使工件相对运动，具有抛光作用的磨粒对工件产生微切削作用或化学机械作用实现对工件表面材料的去除，从而实现对工件表面的抛光。以及一种超声控制的剪切增稠抛光装置。本发明抛光效率较高、成本较低。
一种超声控制剪切抛光方法及其装置

[发明专利]一种高效高质量低损伤液膜剪切抛光新方法-CN202210398451.X在审
发明人：陈泓谕;王林;吕冰海;袁巨龙;杭伟 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2022-04-16 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B24B35/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种高效高质量低损伤液膜剪切抛光新方法，包括如下步骤：1)以非牛顿流体作为基液配制抛光液，将磨粒分散在非牛顿流体中，并加入活性剂；2)将工件安装于夹具上，工件位置与抛光盘上设计好的位置相对应；3)在抛光盘平行区域与工件表面之间设置1～5mm的加工间隙，并将工件表面完全浸没在抛光液中；4)采用非牛顿流体抛光液对工件进行抛光；本发明利用抛光盘的旋转运动在其与工件之间产生具有高速剪切作用的非牛顿流体液膜，形成液膜剪切效应；同时在表面结构化抛光盘的界面约束作用下，强化流体的液膜剪切效应，磨粒近似水平冲击工件表面粗糙峰。
一种高效质量损伤剪切抛光新方法

[发明专利]非抛光玻璃晶片、使用非抛光玻璃晶片减薄半导体晶片的减薄系统和方法-CN201280025841.7有效
发明人： S·R·马卡姆;W·P·托马斯三世 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2012-05-23 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本文描述非抛光玻璃晶片、使用非抛光玻璃晶片减薄半导体晶片的减薄系统和方法。在一个实施例中，玻璃晶片具有主体（例如圆形主体），包括基本上彼此平行的非抛光的第一表面和非抛光的第二表面。
抛光玻璃晶片使用半导体系统方法