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[发明专利]镀膜方法及装置-CN201210562933.0有效
发明人：郑文达;吴础任 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开了一种镀膜方法及装置，所述镀膜方法包括步骤：对待镀件的待镀膜区加热；在所述待镀件加热后的待镀膜区镀膜。从而，通过预先对待镀件的待镀膜区加热，以提高该待镀膜区的温度，减小该待镀膜区与镀膜气流之间的温差，避免镀膜气流中的混合物于待镀件的待镀膜区结晶，从而镀膜层与待镀件之间没有结晶物的阻隔，镀膜层直接紧密附着于待镀膜区上，提高了镀膜的成功率和稳定性。
镀膜方法装置

[发明专利]镀膜遮蔽方法-CN202111630313.1在审
发明人：宗坚;孙富恩 -专利权人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜遮蔽方法。所述镀膜遮蔽方法包括：提供待镀件，所述待镀件包括待镀膜部分和非镀膜部分；提供镀膜夹具，所述镀膜夹具包括第一模板和第二模板，所述第一模板与所述第二模板适于围成所述镀膜夹具，所述镀膜夹具包括工件区和工件区外围的固定区；其中所述工件区包括至少一个单元，每个单元包括相邻的镀膜区和遮蔽区；在所述镀膜夹具内每个单元的镀膜区周围设置第一密封圈，以防止镀膜材料进入所述遮蔽区；在所述工件区和所述固定区之间设置第二密封圈，以进行密封；以及将所述待镀件放置于所述镀膜夹具内，使所述待镀件的待镀膜部分位于所述镀膜区，暴露出所述待镀件的待镀膜部分，所述待镀件的非镀膜部分位于所述遮蔽区。
镀膜遮蔽方法

[发明专利]一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具-CN202011528342.2在审
发明人：袁小夫;舒本剑 -专利权人：安徽安合鑫光电科技有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具，通过在镀膜伞叶上开设有一个与镀膜治具外形大小1:1的通孔，通过卡簧使得镀膜治具与镀膜伞叶卡接后进行镀膜，镀膜治具按照镀膜基片外形的大小进行开槽，镀膜基片包括VA区和BM区,在镀膜时将镀膜基片的BM区朝下放入镀膜治具中的遮蔽区域，VA区放置在镀膜治具的槽口区域，从镀膜去看只有VA区，BM区完全被遮蔽掉，将装载好的镀膜基片的镀膜治具装入到镀膜伞叶中，最后将伞具装到镀膜真空室内进行镀膜，这样就只对VA区进行镀膜，该镀膜方法适用于针对于2.5D、3D等曲面玻璃的镀膜，防止将膜层镀在四周的油墨上，防止产品在镀膜过程中出现绕镀到产品的正面。
一种能够防止指定进行镀膜

[实用新型]一种掩膜板-CN201420755671.4有效
发明人：马得贵;吴俊雄;冉应刚;柯贤军;苏君海 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜板，所述掩膜板包括镀膜开口区和非镀膜区，所述非镀膜区分布于镀膜开口区的四周，其特征在于，所述非镀膜区上设置有相对镀膜开口区对称分布的减薄区。本实用新型通过在镀膜开口区的外围制作减薄的区域，用以吸收在张紧掩膜板过程中掩膜板的拉伸变形，保护镀膜开口区的精度。
一种掩膜板

[发明专利]同表面层导电黑和绝缘黑的制备工艺和产品-CN202211179908.4有效
发明人：胡冀;占兵;周家维 -专利权人：深圳市黄金屋真空科技有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及离子镀膜的技术领域，具体公开了一种同表面层导电黑和绝缘黑的制备工艺和产品，制备工艺包括以下步骤：提供镀膜基材，该镀膜基材上具有第一镀膜区和第二镀膜区；遮挡第一镀膜区，以形成第一遮蔽层，使第二镀膜区裸露；在第二镀膜区沉积第一膜层；去除第一遮蔽层，使第一镀膜区裸露；遮挡第二镀膜区，以形成第二遮蔽层；在第一镀膜区沉积第二膜层；去除第二遮蔽层，使第一膜层裸露。在沉积第一膜层和第二膜层时，可以用交替遮蔽第一镀膜区和第二镀膜区的方式来实现导电层和绝缘层在同表面层的沉积，无需根据不同的镀膜区域拆分成不同的零件，因此无需在分别镀膜之后进行组装，生产工艺更简便，降低生产成本
表面导电绝缘制备工艺产品

[发明专利]磁体镀膜装置及方法-CN201710985242.4有效
发明人：吴树杰;董义;袁易;张帅;林晓勤;苗聚昌;刁树林;伊海波;陈雅;袁文杰 -专利权人：包头天和磁材科技股份有限公司;包头市天之和磁材设备制造有限公司
申请日： 2017-10-20 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： H01F41/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁体镀膜装置及方法。该镀膜装置包括：基片架，其用于承载和输送待镀膜磁体；进料区，其用于接纳待镀膜磁体，并保持真空状态；镀膜区，其用于接纳来自进料区的待镀膜磁体，并在该待镀膜磁体的表面真空溅射上至少一层重稀土金属，从而形成镀膜磁体；出料区，其用于接纳来自镀膜区的镀膜磁体，并保持真空状态；其中，镀膜区包括多个工艺镀膜室，且至少一部分的工艺镀膜室以能够旋转地方式安装有孪生的旋转阴极靶。采用本发明的磁体镀膜装置及方法，镀膜一致性好，靶材本身的使用率较高。
磁体镀膜装置方法

[发明专利]真空镀膜设备及其镀膜方法-CN202111661729.X有效
发明人：朱昆;颜学庆;曹健辉;刘玮;陈惠君 -专利权人：广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技（广州）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请涉及一种真空镀膜设备及其镀膜方法，所述真空镀膜设备，包括：真空腔室，该真空腔室内的镀膜区与后处理区之间设置有阻隔装置，阻隔装置用于阻隔后处理区的气体分子扩散至镀膜区，并反射至真空泵的抽气口位置；至少一个镀膜材料腔室结构，连接于真空腔室内的镀膜区，用于放置镀膜材料；至少一个离子源，连接于真空腔室内的后处理区，用于对镀膜形成的膜层进行后处理；至少一个真空泵，连接于真空腔室，用于对真空腔室进行抽真空以及将反射至抽气口位置的气体分子抽离所述真空腔室；该技术方案，实现边镀膜边进行后处理的镀膜功能，提高了镀膜效率；同时避免了后处理区的气体分子对镀膜区造成污染，提升了镀膜质量。
真空镀膜设备及其镀膜方法

[发明专利]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201810019624.6在审
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本发明提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
一种汽车窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置

[实用新型]一种磁控溅射设备-CN202020347358.2有效
发明人：籍龙占;张晓岚;吴历清;谢丑相;王国昌 -专利权人：杭州朗旭新材料科技有限公司
申请日： 2020-03-18 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射设备，包括镀膜室，镀膜室内划分有第一镀膜区和第二镀膜区；第一镀膜区设置有多个第一阴极，第一阴极呈点阵状分布，任一第一阴极的中心对应待镀膜装置表面的一镀膜点，相邻第一阴极之间具有辉光交叠区，辉光交叠区不覆盖镀膜点；第二镀膜区设置有多个第二阴极，第二阴极呈点阵状分布，任一第二阴极的中心对应任一相邻第一阴极的辉光交叠区。在磁控溅射过程中，通过第一镀膜区以及第二镀膜区的设置，可以实现在磁控溅射过程中点对点的精确镀膜，从而实现二维精确可控的非均匀薄膜生产，并避免遮挡板或掩膜板的使用，从而可以减少表面薄膜材料的浪费。
一种磁控溅射设备

[实用新型]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201820032576.X有效
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本实用新型提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
镀膜区磁控溅射镀膜装置汽车风窗玻璃卸载区装载区磁控溅射阴极本实用新型溅射阴极真空激光测距仪曲率玻璃表面镀膜磁控溅射功率真空镀膜设备膜厚均匀性镀膜表面对称设置溅射功率均匀性真空腔镀膜溅射离子保证反馈

[发明专利]一种磁控溅射设备及磁控溅射方法-CN202010193994.9在审
发明人：籍龙占;张晓岚;吴历清;谢丑相;王国昌 -专利权人：杭州朗旭新材料科技有限公司
申请日： 2020-03-18 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射设备，包括镀膜室，镀膜室内划分有第一镀膜区和第二镀膜区；第一镀膜区设置有多个第一阴极，第一阴极呈点阵状分布，任一第一阴极的中心对应待镀膜装置表面的一镀膜点，相邻第一阴极之间具有辉光交叠区，辉光交叠区不覆盖镀膜点；第二镀膜区设置有多个第二阴极，第二阴极呈点阵状分布，任一第二阴极的中心对应任一相邻第一阴极的辉光交叠区。在磁控溅射过程中，通过第一镀膜区以及第二镀膜区的设置，可以实现在磁控溅射过程中点对点的精确镀膜，从而实现二维精确可控的非均匀薄膜生产，并避免遮挡板或掩膜板的使用，减少表面薄膜材料的浪费。
一种磁控溅射设备方法

[发明专利]一种镀膜方法及掩模夹具-CN201510409240.1有效
发明人：王慧;杜秀蓉;宋学富;孙元成;张晓强;王佳佳 -专利权人：中国建筑材料科学研究总院
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种镀膜方法及掩模夹具，涉及镀膜领域，可对目标物体的外轮廓面和具有结构件阻挡的内表面进行一次镀膜，本发明镀膜方法采用磁控溅射对目标物体镀膜，目标物体包括第一表面和第二表面及连通第一表面和第二表面的镂空部，位于目标物体两表面的镀膜部位为表面镀膜区，位于镂空部侧壁面的镀膜部位为侧面镀膜区，所述镀膜方法包括以下步骤将所述目标物体装入掩模夹具，掩模夹具具有与目标物体镀膜部位对应的镂空区，与侧面镀膜区对应的掩模夹具的镂空区的尺寸大于侧面镀膜区的设计尺寸；将固定有目标物体的掩模夹具固定于样品架上，镀膜过程中样品架沿其旋转轴翻转，样品架的旋转轴与侧面镀膜区所在平面或所有切面的夹角均小于90°。
一种镀膜方法夹具

[发明专利]局部镀膜的方法、摄像模组及移动终端-CN202111070865.1在审
发明人：李蒙;尹志东 -专利权人：北京小米移动软件有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开涉及一种局部镀膜的方法、摄像模组及移动终端，该方法包括：在非镀膜区涂覆保护涂层，所述保护涂层配置为能够溶于预定溶剂；在镀膜区镀制膜层；以及通过预定溶剂清洗所述非镀膜区，使得所述保护涂层脱离于所述非镀膜区利用保护涂层来遮盖非镀膜区，可以避免镀膜时膜层颗粒四处喷散而导致的将膜层镀制到非镀膜区的表面上。并且，保护涂层为可以溶于预定溶剂的材质，这样，当镀制完成后，可以通过预定溶剂清洗非镀膜区，从而将保护涂层以及喷散到保护涂层上的膜层清洗掉。采用本公开实施例提供的镀膜方法，可以保证局部镀膜的完全性，又省去了遮盖治具，并且可以适应于各种场景下的局部镀膜，也可以提高镀膜的效率。
局部镀膜方法摄像模组移动终端

[发明专利]滤光片的镀膜治具-CN200410002805.6无效
发明人：高柏菘;黄玟豪;刘彦泓;田允盛 -专利权人：亚洲光学股份有限公司
申请日： 2004-01-18 - 公布日： 2005-07-20 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：一种滤光片的镀膜治具，是与一基板搭配使用，该基板具有一中心孔、一外周缘、一待镀面，及一抵压面，该镀膜治具包含至少一镀膜罩盘、至少一镀膜挡盘，及一锁固定位装置，该镀膜罩盘具有至少一第一镂空区；该镀膜挡盘具有至少一对应于该第一镂空区的一第二镂空区；该锁固定位装置，是定位该基板、该镀膜罩盘与该镀膜挡盘，使该第二镂空区与该第一镂空区叠接连通，并使该镀膜挡盘抵接该镀膜罩盘，使该镀膜罩盘与该基板的待镀面紧密贴合，镀膜色料可依序通过叠接连通的该第二、第一镂空区，并附着于该待镀面对应该第一镂空区的范围上形成一色区。本发明可使整片式滤光片基板在其不同位置精准地形成镀膜色区。
滤光镀膜

[实用新型]真空腔室结构及真空镀膜设备-CN202123418185.2有效
发明人：朱昆;颜学庆;曹健辉;刘玮;陈惠君 -专利权人：广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技（广州）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本申请涉及一种真空腔室结构及真空镀膜设备，所示真空腔室结构包括：包括一个设有镀膜区和后处理区的真空腔室，所述真空腔室的室壁上设有抽气口，所述真空腔室的镀膜区与后处理区之间设置有阻隔装置；所述阻隔装置对从所述后处理区扩散至所述镀膜区的气体分子进行物理阻隔和反射至所述抽气口抽离真空腔室；上述技术方案，在单一腔体的真空腔室结构形成两个独立工作区域，实现边镀膜边进行后处理的镀膜功能，提高了镀膜效率；同时避免了后处理区的气体分子对镀膜区造成污染，提升了镀膜质量。
空腔结构真空镀膜设备

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