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- [实用新型]具缓冲区的非线性式镀膜设备-CN201620452267.9有效
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杨智仁;林忠炫;余端仁
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友威科技股份有限公司
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2016-05-17
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2016-09-28
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C23C14/34
- 本实用新型公开一种具缓冲区的非线性式镀膜设备,包含有一入料室、一紧邻该入料室的镀膜缓冲转向装置与多个溅镀室,其中该入料室供置入一载具,该镀膜缓冲转向装置承接来自该入料室的该载具,该入料室与该镀膜缓冲转向装置为串联排列于一第一方向,且该第一方向与一第二方向垂直,并该镀膜缓冲转向装置具有至少一缓冲区与一设置于该缓冲区且供选择于该第一方向、该第二方向进行传送该载具的传送机构,该溅镀室于该第二方向紧邻设置于该镀膜缓冲转向装置,并设置于该镀膜缓冲转向装置的该至少一缓冲区的两侧;本实用新型可以缩减该第一方向的长度,同时可以因应工艺需要,自由选择需要的溅镀室进行镀膜,而增加溅镀室的利用效率,以增加产能。
- 缓冲区非线性镀膜设备
- [发明专利]一种RPD镀膜设备-CN202211720856.7在审
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茹钰婷;邢珍帅;熊福民;郑军
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湖州爱康光电科技有限公司
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2022-12-30
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2023-04-11
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C23C14/32
- 本发明提供了一种RPD镀膜设备,属于RPD镀膜生产领域,包括外壳;真空腔,对于镀膜环境进行真空预处理的所述真空腔设置在外壳的内部;均匀单元,对于硅片进行移动牵引镀膜的所述均匀单元设置在所述真空腔的一侧;辅助成型单元,用于辅助硅片进行翻转全面镀膜的所述辅助成型单元设置在所述均匀单元的一侧。通过横向臂爪下降插入到硅片的二次夹持端收缩加持,再令夹持臂爪松动,从而使横向臂爪带动硅片的未镀膜面下降,进而伸出定型腔,使镀膜材料对于硅片的未覆膜区进行二次覆膜,而横向臂爪替换夹持臂爪可以有效对硅片的夹持区进行镀膜,从而实现对硅片的全面镀膜,结合移动块的往复运动,使镀膜物质均匀覆盖在硅片表面。
- 一种rpd镀膜设备
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