专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种全抗硫化电位器碳片-CN200810067720.4无效
  • 洪金镳 - 广东升威电子制品有限公司
  • 2008-06-13 - 2009-08-12 - H01C10/30
  • 相互并行布列于基板上;平面展布上,碳均包括主体、引出端及端子铆接部;的主体、的引出端及的端子铆接部皆为,再对的主体的的引出端的进行抗硫化处理;碳的主体为碳;对的端子铆接部的不进行抗硫化处理;碳的引出端及碳的端子铆接部为,对碳的引出端的进行抗硫化处理即布覆抗硫化,对碳的端子铆接部的不进行抗硫化处理即其效果明显:全抗硫化处理,增强了的抗氧化能力,电接触性能好;端子铆接部与端子的残留阻抗极低,特别适合高尖端产品的使用。
  • 一种硫化电位器
  • [实用新型]一种薄膜器件-CN202020391704.7有效
  • 不公告发明人 - 四川猛犸半导体科技有限公司
  • 2020-03-25 - 2021-03-23 - C03C17/36
  • 本实用新型公开了一种薄膜器件,包括依次层叠的基板、组件、顶层电介质膜和保护组件包括沿基板向外依次层叠的电介质膜和牺牲,或电介质膜、牺牲组件还包括AgGd和Zn,AgGd和Zn层层叠在与牺牲之间;或Zn层层叠在与牺牲之间,同时AgGd层层叠在与电介质膜之间;或AgGd和Zn层层叠在与牺牲之间,同时AgGd层层叠在与电介质膜之间。本实用新型可以提高系在高温热处理的稳定性,又可提高该薄膜器件的化学稳定性和改善其机械性能,且具有高的可见光透过率、低的电阻。
  • 一种薄膜器件
  • [发明专利]发光器件及显示面板-CN202210885588.8在审
  • 李真真;李梦真;刘彬;赵伟;刘俊;逄辉;李宝雨 - 云谷(固安)科技有限公司
  • 2022-07-26 - 2022-11-29 - H01L51/52
  • 本申请公开了一种发光器件及显示面板,发光器件包括依次层叠设置的阳极、第一发光单元、n型电荷产生‑电子传输材料配位‑空穴注入材料配位、p型电荷产生、第二发光单元、阴极。通过在的两侧分别设置‑电子传输材料配位‑空穴注入材料配位抑制聚集,使得绝大部分为纳米颗粒,利于降低电子的注入势垒,提升发光器件的性能;同时,避免迁移造成的短路,提升了发光器件的稳定性
  • 发光器件显示面板
  • [发明专利]一种纳米导电以及纳米电容屏-CN202210028420.5在审
  • 郭珺;曾西平;黄康志;蒲燕;赵振 - 深圳市华科创智技术有限公司
  • 2022-01-11 - 2022-05-03 - H01B5/14
  • 本发明涉及一种纳米导电以及纳米电容屏,该纳米导电包括:基层、TX方向的纳米和RX方向的纳米,该TX方向的纳米和RX方向的纳米分别涂布在该基层的上下两面;该TX方向的纳米中包括沿TX方向的纳米导电通道,该RX方向的纳米中包括沿RX方向的纳米导电通道;其中,该沿TX方向的纳米导电通道中包括若干宽度相同的neck区域,每个neck区域中包括拓宽部分和非拓宽部分。能够通过在TX方向的纳米导电通道的neck区域设置拓宽部分,增大沿TX方向的纳米导电通道的宽度,减小TX方向的纳米中的阻抗值,从而增强纳米导电中的阻值均匀性,提高用户的体验效果,延长使用寿命
  • 一种纳米导电以及电容
  • [发明专利]一种薄膜器件-CN202010216112.6在审
  • 不公告发明人 - 四川猛犸半导体科技有限公司
  • 2020-03-25 - 2020-06-16 - C03C17/36
  • 本发明公开了一种薄膜器件,包括依次层叠的基板、组件、顶层电介质膜和保护组件包括沿基板向外依次层叠的电介质膜和牺牲,或电介质膜、牺牲组件还包括AgGd和Zn,AgGd和Zn层层叠在与牺牲之间;或Zn层层叠在与牺牲之间,同时AgGd层层叠在与电介质膜之间;或AgGd和Zn层层叠在与牺牲之间,同时AgGd层层叠在与电介质膜之间,AgGd中Gd的含量≤90at%。本发明可以提高系在高温热处理的稳定性,又可提高该薄膜器件的化学稳定性和改善其机械性能,且具有高的可见光透过率、低的电阻。
  • 一种薄膜器件
  • [发明专利]一种抗氧化的低方阻透明导电薄膜-CN202111112137.2在审
  • 郭铜安 - 深圳市玮柔光电科技有限公司
  • 2021-09-23 - 2021-12-24 - H01B5/14
  • 本发明公开了一种抗氧化的低方阻透明导电薄膜,包括:导电薄膜本体和基材,所述导电薄膜本体包括底和保护,所述设置在所述底上,所述保护设置在所述上。本发明提供了一种抗氧化的低方阻透明导电薄膜,该抗氧化的低方阻透明导电薄膜包括导电薄膜本体和基材,该导电薄膜本体采用复合结构,包括底和保护通过粘胶固定在底上,保护通过粘胶固定在上,通过上述和保护的设计,使得该导电薄膜本体具有低方阻高透明度、不龟裂、抗手印氧化、耐候性能好等优点。
  • 一种氧化低方阻透明导电薄膜
  • [实用新型]一种薄膜器件-CN202020392450.0有效
  • 不公告发明人 - 四川猛犸半导体科技有限公司
  • 2020-03-25 - 2021-03-23 - C03C17/36
  • 本实用新型公开了一种薄膜器件,包括依次层叠的基板、组件、顶层电介质膜和保护组件包括沿基板向外依次层叠的电介质膜和牺牲,或组件包括沿基板向外依次层叠的电介质膜、牺牲组件还包括Nb和GaNb,Nb和GaNb层层叠在与牺牲之间或与电介质膜之间;或Nb和GaNb层层叠在与牺牲之间,同时Nb和/或GaNb层层叠在与电介质膜之间本实用新型可以提高系在高温热处理的稳定性,又可提高该薄膜器件的化学稳定性和改善其机械性能,且具有高的可见光透过率、低的电阻。
  • 一种薄膜器件
  • [实用新型]一种薄膜器件-CN202020393131.1有效
  • 不公告发明人 - 四川猛犸半导体科技有限公司
  • 2020-03-25 - 2021-05-18 - C03C17/36
  • 本实用新型公开了一种薄膜器件,包括依次层叠的基板、组件、顶层电介质膜和保护组件包括沿基板向外依次层叠的电介质膜和牺牲,或组件包括沿基板向外依次层叠的电介质膜、牺牲组件还包括BiMg和AgZr,BiMg和AgZr层层叠在与牺牲之间或与电介质膜之间;或BiMg和AgZr层层叠在与牺牲之间,同时BiMg和/或AgZr层层叠在与电介质膜之间。本实用新型可以提高系在高温热处理的稳定性,又可提高该薄膜器件的化学稳定性和改善其机械性能,且具有高的可见光透过率、低的电阻。
  • 一种薄膜器件
  • [发明专利]一种图形化厚浆导电的制造方法-CN201410237615.6有效
  • 张永爱;郭太良;周雄图;叶芸;胡利勤;辛琦;林婷;林木飞 - 福州大学
  • 2014-05-31 - 2017-05-10 - H05K3/06
  • 本发明涉及一种图形化厚浆导电的制造方法,包含以下步骤1、选取一平板基底,并对平板基底进行清洗;2、在平板基底表面沉积一过渡;3、在过渡表面涂覆一浆浆料,并高温焙烧形成厚浆导电;4、在厚浆导电表面沉积一保护;5、光刻胶涂覆、曝光、显影和固,在保护表面形成图形化光刻胶;6、刻蚀无光刻胶覆盖的保护;7、刻蚀无保护覆盖的厚浆导电,得到图形化厚浆导电;8、去除光刻胶,然后刻蚀图形化厚浆导电表面的保护;9、对图形化厚浆导电进行表面处理,形成最终的图形化厚浆导电。该方法不仅可以提高图形化厚浆导电的精细度,还能避免因高温加热而导致图形化导电收缩。
  • 一种图形化厚膜银浆导电制造方法
  • [实用新型]玫瑰金色铜低辐射镀膜玻璃-CN201520616669.3有效
  • 董清世;周枫;蔡法清 - 信义节能玻璃(芜湖)有限公司
  • 2015-08-14 - 2016-01-13 - B32B17/06
  • 本实用新型涉及玻璃技术领域,具体公开了一种玫瑰金色铜低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和功能;所述功能包括从所述玻璃基板的一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜、铜、第一保护、第二电介质膜、第二保护和第三电介质膜。通过采用一铜一替代双,降低了氧化的几率,提高产品的抗氧化性能和耐磨性,且两保护的结构,也可以有效防止在生产和使用过程中发生氧化;同时,铜替代,也可以降低生产成本。
  • 玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃
  • [实用新型]纳米线导电薄膜和触控器件-CN201921600023.0有效
  • 孟祥浩;李奇琳;甘堃;陈超云 - 深圳市善柔科技有限公司
  • 2019-09-24 - 2020-06-09 - H01B5/14
  • 本实用新型属于导电材料技术领域,具体涉及一种纳米线导电薄膜和触控器件。所述纳米线导电薄膜包括:层叠设置在基板上的纳米线和光阻干;其中,所述纳米线与所述基板相邻,且所述纳米线与所述基板之间设置有边缘走线。该纳米线导电薄膜直接将刻蚀显影用的光阻干充当该纳米线表面的保护作用,这样无需再另设该纳米线的保护,从而降低成本,而该光阻干曝光显影即可图案化,无需酸刻蚀和脱模,可减少环境污染;而基板上的纳米线耐弯折性能
  • 纳米导电薄膜器件
  • [实用新型]一种镭射标签-CN201020666096.2有效
  • 周宗正 - 上海正伟印刷有限公司
  • 2010-12-17 - 2011-09-14 - G09F3/02
  • 本实用新型公开了一种镭射标签,包括基材,彩色图文和UV光油层,在所述基材上烫印有所述,所述为普通,在所述上印刷有一彩色图文,在所述彩色图文上涂布有一UV光油层。本实用新型通过使用总成本只有有色镭射1/4-1/3的普通加可以重复利用的透明镭射压纹代替有色镭射,获得了一种与使用有色镭射同样技术效果的镭射标签,并大大降低了有色镭射标签的成本。
  • 一种镭射标签

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