专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于低折射率高介电常数的薄膜锂电光调制器-CN202111011105.3在审
  • 夏金松;潘安;曾成 - 华中科技大学
  • 2021-08-31 - 2021-11-23 - G02F1/03
  • 本发明公开了一种基于低折射率高介电常数的薄膜锂电光调制器,属于光通信器件技术领域。器件从下往上依次包括:衬底层、埋氧层、器件层、波导包覆层,所述器件层依次包括光波导、包层介质、电极组,所述包层介质的介电常数高于波导包覆层的介电常数,且所述包层介质的折射率低于光波导的折射率本发明的调制器,通过在器件层和包覆层之间引入包层介质,因其具有较高的射频介电常数,且在通讯波段具有很高的光学透明度,使得在不引入额外光学损耗的前提下,增加了波导中的射频信号的电场分压,从而提高了电光调制效率
  • 一种基于折射率介电常数薄膜铌酸锂电光调制器
  • [发明专利]一种陶瓷溅射靶材及其制备方法、应用-CN202211413978.1有效
  • 侯俊峰;张明哲;田少华;蒋亮;董福元 - 北方民族大学
  • 2022-11-11 - 2023-05-09 - C04B35/495
  • 本申请涉及一种陶瓷溅射靶材及其制备方法、应用,包括以下步骤:球磨化学计量比原粉;取还原金属粉和粉体A混合均匀,放入真空气氛炉中处理,然后依次经过液酸洗、清洗液清洗,抽滤干燥后得到粉体B;将粉体B放入放电等离子烧结炉中烧结,得到相对密度为93.4%至98.1%的陶瓷溅射靶材。采用化学计量比粉体预处理加放电等离子烧结技术制备陶瓷溅射靶材,通过对粉体A缺陷化处理,提高粉体B中的氧空位浓度,能够制备得到致密度高以及纯度高的陶瓷溅射靶材,相对密度高,避免在制备陶瓷溅射靶材的过程中加入聚乙烯醇
  • 一种铌酸锂陶瓷溅射及其制备方法应用
  • [其他]器件熔盐电解法制膜及产品-CN85101505无效
  • 刘寓中 - 华北光电技术研究所
  • 1985-04-01 - 1988-03-30 - C25D11/26
  • 本发明涉及在钽器件上熔盐电解制膜的工艺方法及产品。用熔融盐电化学反应在钽或或钽合金器件表面生成一层含有钽或的含氧化合物的薄膜(如钽酸盐等),可改进器件的许多性能,膜的击穿电压达1500伏以上,表面硬度最高可达Hv700左右。可以改善钽或或钽合金器件的使用效果,扩大钽和的应用范围。用于钽喷丝板,减少堵孔提高纤维质量。还可应用于石油化工上的钽制器件,薄膜热探测器的衬底及制作抗磨弹性元件等。
  • 器件电解法制产品
  • [其他]器件熔盐电解法制膜及产品-CN101985000001505在审
  • 刘寓中 - 华北光电技术研究所
  • 1985-04-01 - 1988-03-30 -
  • 本发明涉及在钽器件上熔盐电解制膜的工艺方法及产品。用熔融盐电化学反应在钽或或钽合金器件表面生成一层含有钽或的含氧化合物的薄膜(如钽酸盐等),可改进器件的许多性能,膜的击穿电压达1500伏以上,表面硬度最高可达Hv700左右。可以改善钽或或钽合金器件的使用效果,扩大钽和的应用范围。用于钽喷丝板,减少堵孔提高纤维质量。还可应用于石油化工上的钽制器件,薄膜热探测器的衬底及制作抗磨弹性元件等。
  • 器件电解法制产品

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