专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光阳极及其制备方法与应用-CN202011002543.9有效
  • 张晓阳;王敏瑞;王泽岩;黄柏标;程合锋;郑昭科;王朋;刘媛媛;张倩倩 - 山东大学
  • 2020-09-22 - 2022-01-25 - C25B11/031
  • 本发明公开了一种光阳极及其制备方法与应用,制备方法为:在透明导电基底表面制备依次制备层、碳球层,再重复制备层和碳球层,使得透明导电基底表面形成活性层,活性层由n层层及n‑1层碳球层交错叠放形成,所述活性层的两侧最外层均为层,n为大于1的自然数;将前驱溶液旋涂成前驱膜,再烘干、煅烧形成层;所述前驱溶液中含有盐和盐;将碳球分散液旋涂成碳球膜,再烘干形成碳球膜本发明提供的光阳极具有较高的电子空穴分离效率和快速的水氧化动力学,使其能在较低的偏压下达到较高的光电流密度,表现出了较高的太阳能利用率。
  • 一种钒酸铋光阳极及其制备方法应用
  • [发明专利]高(010)晶面暴露比的制备方法-CN202110141863.0有效
  • 陆源;曾海波;张侃 - 南京理工大学
  • 2021-02-02 - 2023-03-31 - B01J23/32
  • 本发明公开了一种高(010)晶面暴露比的制备方法。所述方法先将五水硝酸、偏铵和柠檬溶解于硝酸溶液中,加入乙醇和聚乙烯醇,形成的混合溶液旋涂在FTO表面,在450℃下煅烧得到种子层;将五水硝酸和偏铵溶解于浓硝酸中,加入氯化钛溶液,并用氨水调节pH至0.9,得到前驱溶液;然后将种子层浸没在前驱溶液中,在180℃下水热反应;最后将水热反应的产物升温至450℃退火,得到高(010)晶面暴露比。本发明通过在前驱溶液中添加形貌调节剂氯化钛,并调控其pH,合成了具有高(010)晶面暴露比的多孔,提高其在光电催化产双氧水的选择性,选择性可达66.5%。
  • 010暴露钒酸铋制备方法

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