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[发明专利]一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺-CN200310112654.5无效
发明人：刘干;邵美姑 -专利权人：无锡市化工研究设计院
申请日： 2003-12-12 - 公布日： 2004-11-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺，涉及以P(MMA－TBMA－MAA－IBMA)作为主体树脂，该抗蚀剂属具有高分辨率性能的正性抗蚀剂，或称正胶。本发明提供了主体树脂的合成，光产酸剂二苯碘三氟甲基磺酸盐的合成，本发明抗蚀剂的配方和制备方法，本发明抗蚀剂应用的光刻工艺。本发明为独立自主开发的一种电子束化学增幅正性抗蚀剂，分辨率0.13μm，灵敏度5～10μC/cm²(50kV)，达到或接近国际同类产品水平。
一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法光刻工艺

[发明专利]一种激光烧蚀靶材及其制备方法-CN201510113779.2有效
发明人：费金华 -专利权人：吴江华诚复合材料科技有限公司
申请日： 2015-03-16 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： B32B27/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光烧蚀靶材及其制备方法，上述激光烧蚀靶材，依次由(氯乙烯-乙酸乙烯酯)共聚物层、复合材料层和聚甲基丙烯酸乙烯酯层制成，各层之间涂有粘合剂。本发明还提供了上述激光烧蚀靶材的制备方法。本发明的操作工艺简单方便，可以通过该方法生产不同组成厚度、不同宽度的激光烧蚀靶材。
一种激光烧蚀靶材及其制备方法

[实用新型]一种低倍试样酸蚀检验装置-CN201721560463.9有效
发明人：刘哲;史可庆;刘永超 -专利权人：山东莱芜金雷风电科技股份有限公司
申请日： 2017-11-21 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种低倍试样酸蚀检验装置，包括低倍检验酸蚀槽、酸蚀实验筐、酸液供给装置和控制器，所述酸蚀实验筐置于低倍检验酸蚀槽内，所述酸蚀实验筐被隔板分割成若干检验腔，在每个检验腔的侧壁上开设有若干孔隙，在低倍检验酸蚀槽内设有与控制器电连接的加热器和温度传感器；在低倍检验酸蚀槽的一侧设有与控制器电连接的酸液供给装置。本实用新型可以达到百分之百的待检面被酸蚀溶液接触并被酸蚀，检验结果不会出现偏差；且更容易取放试样，也解决了因取放试样困难存在的安全隐患；可以处理产生的酸雾，不污染环境；具备自清洗功能。
一种试样检验装置

[实用新型]一种自动酸蚀机-CN200920303709.3有效
发明人：杜军 -专利权人：常州百康特医疗器械有限公司
申请日： 2009-05-27 - 公布日： 2010-05-19 - 主分类号： C23G3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自动酸蚀机，包括酸蚀盆、搁置酸蚀盆的升降机构和放置待酸蚀工件的工件架；还包括往复机构；所述往复机构包括振荡电机、变速器、副轴、偏心轴、联杆和主轴；变速器的输出轴连接副轴下端；副轴上端安装偏心轴本实用新型的自动酸蚀机的往复机构通过偏心轴的作用，将连接变速器的主轴的旋转运动转化成主轴的往复平移运动，从而使放置了待酸蚀工件的工件架在酸蚀盆中往复运动，保证工件在酸溶液中达到均衡酸蚀的目的，因而设计合理、结构简单、操作方便，是一种能够提高工件的酸蚀质量，改善酸蚀工件的外观的自动酸蚀机。
一种自动酸蚀机

[发明专利]一种电路板抗氧化的生产工艺-CN202111393783.0在审
发明人：沈剑祥;陈云峰;董涛;周萌 -专利权人：广德宝达精密电路有限公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种电路板抗氧化的生产工艺，属于电路板加工技术领域，包括以下步骤：步骤一、碱洗；步骤二、酸中和；步骤三、微蚀；步骤四、抗氧化处理：将微蚀PCB板在35‑45℃下浸渍于抗氧化液中1‑2m i n一方面，本发明利用了碱洗、酸中和微蚀等工艺对PCB板进行了预处理，得微蚀PCB板，增加微蚀PCB板的表面粗糙程度，增加了后续处理获得抗氧化膜与PCB板之间的作用力，提高获得的抗氧化膜的致密性；另一方面，
一种电路板氧化生产工艺

[实用新型]用于牙齿正畸矫正的酸蚀支架-CN202221185667.X有效
发明人：李共娥;沈杰;张正朴 -专利权人：浙江日盛医疗科技股份有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： A61C19/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及牙齿矫正领域，公开了用于牙齿正畸矫正的酸蚀支架，其中固定夹和转动架之间通过转轴连接，固定夹包括弯折形成的上夹板、下夹板，上夹板和下夹板之间形成变形区，变形区靠近固定夹的弯折端设置有转动槽，转轴安装在转动槽内；转动架靠近酸蚀架的一端设置有固定杆，酸蚀架可拆卸的安装在固定杆上，酸蚀架可绕固定杆转动。该酸蚀支架可以控制牙面的酸蚀面积以及酸蚀位置，保证酸蚀的准确性，减小对牙面的伤害。
用于牙齿矫正支架

[发明专利]具有浮动保护剂的光刻抗蚀剂-CN201610081815.6有效
发明人：张庆裕;王建惟;陈学安 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-02-05 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种改进的抗蚀剂材料和一种图案化工件(诸如集成电路工件)的方法，该方法提高了对环境污染物的抵抗力。在一个示例性实施例中，该方法包括接收工件和对该工件施加含有保护剂的抗蚀剂材料，所述保护剂分布在整个抗蚀剂材料中。对工件执行热工艺，以使保护剂在抗蚀剂材料的上部区域集中。将抗蚀剂材料在光刻工艺中曝光并且使曝光的抗蚀剂材料显影以在抗蚀剂材料内限定图案。在这样的一些实施例中，保护剂被选择为减小环境污染的影响而不影响所述抗蚀剂材料的酸/碱比率。
具有浮动保护光刻抗蚀剂

[发明专利]一种无磷缓蚀阻垢剂及制备方法-CN200910020506.8无效
发明人：李洪社;喻果;武中臣;车凯 -专利权人：李洪社
申请日： 2009-04-13 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： C02F5/08 文献下载
摘要：一种无磷缓蚀阻垢剂及其制备方法，涉及水处理，无磷缓蚀阻垢剂包括聚环氧琥珀酸、丙烯酸类共聚物、唑类、钼酸盐、pH值调节剂以及水。各组分的重量百分比为：聚环氧琥珀酸25～40％，丙烯酸类共聚物18～40％，唑类5～15％，钼酸盐1～3％，pH调节剂2～6％，其余为水；其制备方法是将水、pH值调节剂、聚环氧琥珀酸、丙烯酸类共聚物、钼酸盐该无磷缓蚀阻垢剂制备工艺简单，制备时间短，具有优良的缓蚀、阻垢性和良好的环保性。
一种无磷缓蚀阻垢剂制备方法

[发明专利]光增感化学放大型抗蚀剂材料及使用了其的图案形成方法、以及半导体器件、光刻用掩模和纳米压印用模板的制造方法-CN201580009168.1有效
发明人：永原诚司;田川精一;大岛明博 -专利权人：东京毅力科创株式会社;国立大学法人大阪大学
申请日： 2015-02-17 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本发明提供一种光增感化学放大型抗蚀剂材料及使用了该光增感化学放大型抗蚀剂材料的图案形成方法、半导体器件、光刻用掩模、以及纳米压印用模板。本发明的光增感化学放大型抗蚀剂材料用于二段曝光光刻工艺，且包含：(1)能够显影的基础成分；及(2)通过曝光产生光增感剂和酸的成分。上述成分仅含有(a)酸‑光增感剂产生剂、(b)光增感剂前体及(c)光酸产生剂这3种成分中的(a)成分，或者含有其中的任意2种成分，或者含有(a)～(c)成分的全部。
感化大型抗蚀剂材料使用图案形成方法以及半导体器件光刻用掩模纳米压印模板

[发明专利]光增感化学放大型抗蚀剂材料、图案形成方法、半导体器件、光刻用掩模、纳米压印用模板-CN202010075147.2有效
发明人：永原诚司;田川精一;大岛明博 -专利权人：东京毅力科创株式会社;国立大学法人大阪大学
申请日： 2015-02-17 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光增感化学放大型抗蚀剂材料及使用了该光增感化学放大型抗蚀剂材料的图案形成方法、半导体器件、光刻用掩模、以及纳米压印用模板。本发明的光增感化学放大型抗蚀剂材料用于二段曝光光刻工艺，且包含：(1)能够显影的基础成分；及(2)通过曝光产生光增感剂和酸的成分。上述成分仅含有(a)酸‑光增感剂产生剂、(b)光增感剂前体及(c)光酸产生剂这3种成分中的(a)成分，或者含有其中的任意2种成分，或者含有(a)～(c)成分的全部。
感化大型抗蚀剂材料图案形成方法半导体器件光刻用掩模纳米压印模板

[发明专利]用于除去抗蚀剂的洗净液及半导体器件的制造方法-CN03146494.7无效
发明人：菅野至;浅冈保宏;东雅彦;日高义晴;岸尾悦郎;青山哲男;铃木智子;平贺敏隆;永井俊彦 -专利权人：株式会社瑞萨科技;松下电器产业株式会社;EKC科技株式会社
申请日： 2003-07-11 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明的用于除去抗蚀剂的洗净液，含有氢氟酸和不含金属的碱的盐(A成分)、水溶性有机溶剂(B1成分)、由有机酸及无机酸构成群中选择出的1种以上的酸(C成分)及水(D成分)，而且氢离子浓度pH是4～8。由此，在铜布线工艺等的半导体器件的制造方法中，除去腐蚀后或者灰化后的抗蚀剂残余物(6)及其他的腐蚀残余物(8)时，提高了抗蚀剂残余物等的除去性、铜及绝缘膜的耐腐蚀性。
用于除去抗蚀剂洗净半导体器件制造方法

[发明专利]牙齿修复体专用酸蚀冲洗装置-CN201810862212.9在审
发明人：徐海;徐秀清;骆宁宁;张光东 -专利权人：南京医科大学附属口腔医院
申请日： 2018-08-01 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： A61C19/00 文献下载
摘要：本发明提供一种牙齿修复体专用酸蚀冲洗装置，包括水气隔离组件、酸蚀冲洗组件和集液框，水气隔离组件和酸蚀冲洗组件均采用透明材料制成，顶板与左侧板、前侧板、右侧板、后侧板共同形成操作室，左侧板设有操作用左孔，右侧板设有操作用右孔，操作用左孔与操作用右孔分别连通操作室，操作室内设有酸蚀冲洗组件和集液框，且酸蚀冲洗组件设于集液框的上方，酸蚀冲洗组件包括左支撑板、右支撑板和定位板；本发明能够保证酸蚀彻底，修复体粘结面酸蚀充分，能够保护医护人员的面部，避免在酸蚀过程中被氢氟酸气雾损伤。该种牙齿修复体专用酸蚀冲洗装置，结构设计合理，操作安全便捷，利于使用。
酸蚀冲洗组件牙齿修复体冲洗装置集液水气隔离操作室右侧板左侧板右孔左孔操作安全透明材料右支撑板左支撑板定位板后侧板前侧板氢氟酸修复体与操作粘结面气雾连通损伤室内医护保证

[实用新型]牙齿修复体专用酸蚀冲洗装置-CN201821227630.2有效
发明人：徐海;徐秀清;骆宁宁;张光东 -专利权人：南京医科大学附属口腔医院
申请日： 2018-08-01 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： A61C19/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种牙齿修复体专用酸蚀冲洗装置，包括水气隔离组件、酸蚀冲洗组件和集液框，水气隔离组件和酸蚀冲洗组件均采用透明材料制成，顶板与左侧板、前侧板、右侧板、后侧板共同形成操作室，左侧板设有操作用左孔，右侧板设有操作用右孔，操作用左孔与操作用右孔分别连通操作室，操作室内设有酸蚀冲洗组件和集液框，且酸蚀冲洗组件设于集液框的上方，酸蚀冲洗组件包括左支撑板、右支撑板和定位板；本实用新型能够保证酸蚀彻底，修复体粘结面酸蚀充分，能够保护医护人员的面部，避免在酸蚀过程中被氢氟酸气雾损伤。该种牙齿修复体专用酸蚀冲洗装置，结构设计合理，操作安全便捷，利于使用。
酸蚀冲洗组件牙齿修复体冲洗装置集液本实用新型水气隔离操作室右侧板左侧板右孔左孔操作安全透明材料右支撑板左支撑板定位板后侧板前侧板氢氟酸修复体与操作粘结面气雾连通损伤室内医护保证

[实用新型]一种低倍试样酸蚀梯形筐检验装置-CN201721560590.9有效
发明人：刘永超;史可庆;刘哲 -专利权人：山东莱芜金雷风电科技股份有限公司
申请日： 2017-11-21 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种低倍试样酸蚀梯形筐检验装置，包括低倍检验酸蚀槽(9)、酸蚀梯形筐(12)、酸液供给装置和控制器(1)，在低倍检验酸蚀槽(9)内放置若干个酸蚀梯形筐(12)，在每个酸蚀梯形筐(12)的侧壁上开设有若干孔隙(10)，在低倍检验酸蚀槽(9)内设有与控制器(1)电连接的加热器(15)和温度传感器(16)；在低倍检验酸蚀槽(9)的一侧设有与控制器(1)电连接的酸液供给装置。本实用新型可以达到百分之百的待检面被酸蚀溶液接触并被酸蚀，检验结果不会出现偏差；且更容易取放试样，也解决了因取放试样困难存在的安全隐患；可以处理产生的酸雾，不污染环境；具备自清洗功能。
一种试样梯形检验装置

[发明专利]一种基于铝型材加工过程中的污泥处理方法-CN202210006778.8在审
发明人：廖健 -专利权人：成都阳光铝制品有限公司
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C25D11/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于铝型材加工过程中的污泥处理方法，包括以下步骤：步骤一、除油，去除铝型材压铸过程中工件表面粘附的污物；步骤二、碱蚀，腐蚀掉压铸铝型材件表面的硬化层、氧化膜，使压铸铝型材件表面形成均匀活化表面；步骤三、除灰，将碱蚀后的压铸铝型材件放入具有超声波及降温设备除灰槽中浸泡，除灰槽内装有含氟酸性溶液，去除掉碱蚀时产生的硅膜；步骤四、氧化，将铝型材放入阳极氧化槽中进行阳极氧化，电解液中添加无机酸及有机酸，使用脉冲整流进行电解使压铸铝型材件快速成膜；所述碱蚀过程中采用添加剂工艺和碱回收工艺；本发明具有降低危废处置的成本，并能得到其他的工业原料的优点。
一种基于铝型材加工过程中的污泥处理方法