专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种CMOS器件的制备方法-CN202210868866.9在审
  • 王海涛;张继伟 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2022-07-21 - 2022-09-13 - H01L21/8238
  • 本发明提供一种CMOS器件的制备方法,提供包括NMOS区与PMOS区的半导体衬底,采用第一掩膜层覆盖PMOS区,于NMOS区显露源漏区掺杂窗口,改变NMOS掺杂漏区离子注入工艺参数使NMOS掺杂漏区离子注入与NMOS源漏区离子注入能够共用同一掩膜层,减省了一张掩膜及对应掩膜层的制备;同样,PMOS区再减省一张掩膜及对应掩膜层的制备,从而大幅降低生产成本,简化生产工艺,提高生产效率;同时掺杂漏区离子倾斜注入
  • 一种cmos器件制备方法
  • [发明专利]免酒精润液及其制备方法与应用-CN201710698166.9在审
  • 杨青松 - 北京宏阳恒宇印刷器材有限公司
  • 2017-08-15 - 2017-12-26 - B41N3/08
  • 本发明涉及一种免酒精润液及其制备方法与应用,免酒精润液的原料组分按重量份计,包括羟甲基纤维素钠1~5重份、柠檬酸1~5重份、硝酸镁1~5重份、无水醋酸钠1~5重份、聚乙烯吡咯烷酮1~5重份、羟基乙酸1~5重份、乙二醇丁醚10~20重份、消泡剂1~2重份、防腐剂1~2重份和表面活性剂1~3重份等。本发明提供了一种毒性小、安全环保且成本低的免酒精润液;从而减少印刷车间的VOC排放量,降低印刷车间里的混合刺激气味,减少储存酒精给印刷企业带来的易燃易爆风险,降低印刷企业的耗材成本,实现绿色印刷。
  • 酒精润版液及其制备方法应用
  • [发明专利]服装智能推板方法和装置-CN202211425215.9有效
  • 苏明华 - 钰深(北京)科技有限公司
  • 2022-11-15 - 2023-07-07 - G06T17/00
  • 本发明公开了一种服装智能推板方法,包括:对标准服装裁片平面进行剖分形成多个三角形单元,取所有三角形单元的顶点坐标得到标准服装裁片的二维点云数据;求取标准服装的三维点云数据,求取与用户体型匹配的放码服装的三维点云数据;将裁片在三维空间的三角形单元边长的变化加和到二维空间的三角形单元边长,再采用迭代加权最小二乘法求解最接近满足该变化的放码后三角形单元中顶点的坐标参量值。本发明无需师推、做白坯、试白坯、修的反复、复杂、高成本的过程,只需用户的体数据和选择服装款式数据,在没有人参与的情况下,即可在秒级的时间内得到与用户体型匹配的服装样板的二维裁片,且裁片数据准确,
  • 服装智能方法装置
  • [发明专利]一种掩膜、制作方法及制作夹具-CN202210105205.0在审
  • 刘鑫;郑庆靓;李博;吴义超;赵阳;周俊吉 - 成都拓维高科光电科技有限公司
  • 2022-01-28 - 2022-04-29 - C23C14/04
  • 本发明公开了一种掩膜、制作方法及制作夹具,涉及显示设备技术领域;技术方案:掩膜版本体工作面上拱,能够提高掩膜版本体的结构强度,减小掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂,或避免掩膜版本体下垂,以通过掩膜版本体支撑金属精细掩膜,减小金属精细掩膜的下垂或避免金属精细掩膜,从而降低显示屏混色比例和混色风险,提高显示屏的成品率。掩膜制作方法,在掩膜版本体的工作面涂覆张应力涂层或在掩膜版本体结构面涂覆压应力涂层,均可获得前述的掩膜版本体。掩膜制作夹具,包括掩膜版边框装载框和支撑板,支撑板位于装载框上端且各侧与装载框对应的侧壁连接,可通过支撑板可对掩膜提供支撑。
  • 一种掩膜版制作方法制作夹具
  • [实用新型]卫生巾包膜相邻双色拼接多组叠套印刷-CN201320421575.1有效
  • 姜祁云 - 上海申欧企业发展有限公司
  • 2013-07-16 - 2014-04-02 - B41F11/00
  • 卫生巾包膜相邻双色拼接多组叠套印刷,根据在印刷上预留宽容后续裁切位置变化波动的衔接区(2),在印刷膜(3)上有小于等于4个的印制单元(1),在相邻二个印制单元(1)之间有衔接区(2),衔接区(2)的长度不大于印制单元(1)的20%,同时,在印刷膜(3)循环印刷方向上,在印刷膜(3)首端的印制单元(1)不完整,在印刷膜(3)尾端有修正区(4),印刷膜(3)两端区域的不完整印制单元(1)和修正区有效降低单一品种印制的最低起印,保障卫生巾生产品种和数量控制批次灵活准确,大大降低了原料的购备,同时降低了库存;经济高效。
  • 卫生巾包膜相邻拼接多组叠套印刷
  • [发明专利]上衣推方法-CN201911278700.6在审
  • 黄益品;陈金金;杨寿敏;池也 - 浙江乔治白校服有限公司
  • 2019-12-12 - 2020-04-28 - G06F16/2457
  • 本申请公开了一种上衣推方法。本申请的上衣推方法包括提供标准和标准号型系列;获取目标客户群体的体型测量数据;根据标准号型系列和体型测量数据确定推号型系列;根据体型测量数据和推号型系列建立上衣规格参数表;根据上衣规格参数表确定推号型系列的档差;根据标准、推号型系列、以及档差进行放缩码,得到推号型系列的全套号型。本申请通过对体型测量数据进行分析整理,得到其体型变化重点部位以及对应各个所述体型变化重点部位的变化,确定推号型系列,并制成相应的上衣规格参数表,再确定档差,使得档差符合推号型系列的体型变化,从而使得其推所得的全套号型能具有较好的成衣着装效果
  • 上衣方法
  • [发明专利]一种确定掩膜的位置偏移的方法、装置及设备-CN202110608447.7有效
  • 刘景涛;王亚;卓林海;任家仪 - 云谷(固安)科技有限公司
  • 2021-06-01 - 2022-10-14 - H01L21/66
  • 本申请实施例提供了一种确定掩膜的位置偏移的方法、装置及设备,方法包括:获取目标参数和所述掩膜相对于参考位置的位置偏移的取值范围,所述目标参数为表征基板上蒸镀的有机发光材料层的位置偏差的程度的参数;根据预先建立的所述位置偏移与所述目标参数之间的关系以及所述位置偏移的取值范围,确定所述目标参数达到最值时对应的目标位置偏移。相比于现有技术,本申请实施例不会出现人为失误导致计算的掩膜的位置偏移不准确的问题,耗时短,而且能够保证求解出的目标位置偏移是目标参数达到最值时的最优解,最大限度地保证蒸镀的有机发光材料层的位置偏差达到预期
  • 一种确定掩膜版位置偏移方法装置设备

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