“表面成膜”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果6111253个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]冻干表面成膜喷头-CN202021910744.4有效
发明人：郑振华;陈玮;李红菊 -专利权人：杭州华玮生物科技有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： B05B1/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种冻干表面成膜喷头，包括进液管以及沿进液管轴向滑动密封配合的套筒，所述进液管和套筒之间设有弹性囊，所述弹性囊上端与进液管的底部密封连接、弹性囊的下端与套筒的底部密封连接并形成变形腔室，本实用新型旨在提供一种冻干表面成膜喷头，喷头在进入药瓶中后可通过伸缩变形，实现对原料上表面的均匀喷涂，便于形成稳定的凝固层。
表面喷头

[发明专利]一种基板表面成膜装置及成膜方法-CN202111248861.8在审
发明人：吴亚威 -专利权人：南京秉昱科技有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板表面成膜装置及成膜方法，属于自动化技术领域。包括成膜座、第一滑轨和喷射机构，其中成膜座设置在机器人的输出端，第一滑轨连接于成膜座，第一滑轨设有传送机构和定位机构，传送机构设有第一夹持组件和第二夹持组件，传送机构夹取并传送多个基板，定位机构对基板成膜前进行定位，喷射机构对定位后的基板进行局部喷射成膜气体。本发明的基板表面成膜用控制装置，利用传送机构对基板进行批量化夹取、成膜作业时的夹持以及成膜完成后的传送，效率较高，对气体喷头成膜作业过程中的多余气体做进一步的位置处理及收集作业，有效的提升装置的使用效果，利用模具对成膜的形状进行固定，可进一步提高气体喷头的工作效。
一种表面装置方法

[发明专利]一种玻璃表面成膜组合物及成膜方法-CN201410026606.2有效
发明人：陈建梅;周永生;顾浩 -专利权人：常州大学
申请日： 2014-01-21 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： C09D183/06 文献下载
摘要：本发明涉及玻璃产品深加工技术领域，具体的说涉及玻璃表面成膜组合物及成膜方法。本发明根据具有耐高温性能和成膜性的a，w-二羟基聚二甲基硅氧烷和与a，w-二羟基聚二甲基硅氧烷相容性好的高沸点的异辛醇配伍，调节其稳定性。将本组合物涂在玻璃上，经300℃、30min固化成膜；得到无色或白色的膜。该膜不像一般市售成膜组合物在＞280℃热处理后色泽黄变。
一种玻璃表面组合方法

[发明专利]成膜装置、成膜系统以及成膜方法-CN201910733755.5在审
发明人：品田正人;户岛宏至 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以倾斜成膜为基础而进行自由度较高的溅射成膜的成膜装置、成膜系统以及成膜方法。成膜装置具备：处理腔室；第1溅射粒子释放部和第2溅射粒子释放部，其分别具有在处理腔室的处理空间沿着互不相同的倾斜方向释放溅射粒子的靶；溅射粒子遮蔽板，其具有供溅射粒子穿过的穿过孔；基板支承部，其支承基板
装置系统以及方法

[发明专利]成膜方法、成膜系统以及成膜装置-CN201980041837.1在审
发明人：山口克昌;前川浩治;鲛岛崇;中岛滋 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C23C16/06 文献下载
摘要：成膜方法包括以下工序：将形成有绝缘膜的基板配置于处理容器内，在减压气氛下向处理容器内重复供给含Ti气体、含Al气体以及反应气体来形成基底膜；以及通过金属材料在形成有基底膜的基板形成金属层。
方法系统以及装置

[发明专利]成膜装置、成膜单元和成膜方法-CN202080106929.6在审
发明人：饭塚贵嗣 -专利权人：饭塚贵嗣
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开内容的主题是提供被配置成改善涂覆形成在基底中的孔的内周表面的膜的粘附性的成膜装置、成膜单元和成膜方法。成膜装置(1)包括：待容纳基底(2)的室(3)；设置在室(3)中的支撑体(4)，所述支撑体(4)被配置成支撑具有在垂直方向上开放的基底(2)的孔(20)的基底(2)；和设置在室(3)中的蒸发源(5)，所述蒸发源(5)具有待产生金属离子(50)的蒸发表面(520)。蒸发源(5)被安装成使得蒸发表面(520)指向相对于水平方向倾斜的指定方向(D1)，并且基底(2)的孔(20)的内周表面(200)的一部分定位在蒸发表面(520)指向的该指定方向(D1)上。
装置单元方法

[发明专利]成膜装置、成膜头和成膜方法-CN201080044833.8有效
发明人：小野裕司;林辉幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-30 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。
装置成膜头方法

[发明专利]成膜装置、成膜系统和成膜方法-CN200780029265.2无效
发明人：松林信次;茂山和基;户部康弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-08 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供成膜装置、成膜系统和成膜方法。该成膜系统能够避免在有机EL元件等的制造工序中所形成的各层的相互污染、而且所占空间也小、且具有高生产率。成膜装置(13)用于在基板上进行成膜，其中，在处理容器(30)的内部包括用于成膜第1层的第1成膜机构(35)和用于成膜第2层的第2成膜机构(36)。设置用于使处理容器(30)内减压的排气口(31)，并将第1成膜机构(35)配置在相比第2成膜机构(36)更靠近上述排气口(31)的位置上。第1成膜机构(35)例如利用蒸镀在基板上成膜第1层，第2成膜机构(36)例如利用溅射在基板上成膜第2层。
装置系统方法

[发明专利]成膜装置、成膜系统及成膜方法-CN200780029415.X无效
发明人：茂山和基;野泽俊久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-08 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能避免在有机EL元件等的制造工序中形成的各层的相互污染、且占地面积较小、生产率较高的成膜系统。一种在基板(G)上成膜的成膜装置(13)，在处理容器(30)的内部具有用于形成第1层的第1成膜机构(35)和用于形成第2层的第2成膜机构(36)，第1成膜机构(35)包括：配置于处理容器(30)的内部的、用于向基板供给成膜材料的蒸气的喷嘴(34)；配置在处理容器的外部的、用于产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部(45)；将在蒸气产生部(45)产生的成膜材料的蒸气输送到喷嘴(34)的配管(46)。
装置系统方法

[实用新型]成筒胶片外表面覆膜装置-CN201922455253.9有效
发明人：王超 -专利权人：方鼎科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： B29C63/02 文献下载
摘要：成筒胶片外表面覆膜装置，涉及夹胶玻璃生产装置，特别是一种针对夹胶玻璃生产所用胶片，卷成筒后在其外表面进行缠膜的装置。其特征在于：包括支撑架、工作台和限位装置；支撑架的上端与工作台固定联结，工作台的一端设有倾斜面，另一端与保护膜辊转动联结；工作台的两侧分别设有限位装置，限位装置包括导向杆、导向套筒和支撑板，工作台的两侧分别与导向杆联结限位装置能够使胶片辊在转动滑落的过程中，两侧位置始终保持一致，从而使保护膜能够均匀的缠裹在胶片辊的外表面上而无需使用电力。
胶片外表面覆膜装置

[发明专利]成膜装置、成膜方法-CN200910172124.7有效
发明人：加藤寿;小原一辉;本间学 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置、成膜方法。该成膜装置包括：能旋转地设置在容器内的基座；设置在基座的一个面上的基板载置区域；包括能够独立控制的多个加热部、加热基座的加热单元；对一个面供给第一反应气体的第一反应气体供给部；与第一反应气体供给部分开、
装置方法

[发明专利]成膜方法、成膜装置-CN201210082649.3无效
发明人：两角友一朗;菅原卓也;秋山浩二;菱屋晋吾;广田俊幸;清村贵利 -专利权人：尔必达存储器株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明涉及成膜含有氧化锆膜的电介质膜的方法，该方法具有：供给由在结构中含有环戊二烯基环的锆化合物构成的锆原料和氧化剂，在被处理基板上成膜氧化锆膜的工序；供给由在结构中含有环戊二烯基环的钛化合物构成的钛原料和氧化剂，在上述氧化锆膜上成膜氧化钛膜的工序。
方法装置

[发明专利]成膜装置、成膜方法-CN200610005914.2无效
发明人：四谷真一;金丸真二 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-01-19 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种能够可靠地得到多个膜图案的成膜装置及成膜方法。本发明的成膜装置，其特征在于，具有：掩模部件，其由硅构成并具有所定图案的第1开口部(31)；磁性部件(4)，其由磁性材料构成并具备第(2)开口部(41)，以在该第(2)开口部(31)的俯视内侧配设上述第1开口部的方式与上述掩模部件(3)对位而成；基板夹持用部件(1)，其在与上述磁性部件(4)之间从该磁性部件(4)侧依次夹持上述掩模部件(3)和被成膜基板(2)，同时通过在该磁性部件(4)之间所产生的磁力将上述掩模部件(3)和上述被成膜基板(2)密接。
装置方法

[发明专利]表面处理设备-CN201980021776.2在审
发明人：马田拓实;新垣之启 -专利权人：杰富意钢铁株式会社
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制被成膜材料的抖动的表面处理设备，该表面处理设备通过PVD法在沿纵向输送的被成膜材料的两表面上连续地进行成膜。上述表面处理设备具有腔室，通过PVD法在沿纵向在上述腔室内输送的被成膜材料的两表面上连续地进行成膜，其中，该表面处理设备还具备输送上述被成膜材料的输送机构以及在上述腔室内的上述被成膜材料的两表面侧沿纵向吹送成膜气体的送风机构，将上述成膜气体的风速以米/分钟的单位设为X、将上述被成膜材料的输送速度以米/分钟的单位设为Y时，以X/Y表示的比在0.4～3.0的范围内。
表面处理设备

[发明专利]成膜基板、成膜基板的制造方法及成膜装置-CN201110055790.X无效
发明人：岩田宽 -专利权人：住友重机械工业株式会社
申请日： 2011-03-08 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： H01L31/04 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜基板、成膜基板的制造方法及成膜装置，其谋求降低膜厚的同时不需要蚀刻工序且谋求低成本化，并且具有凹凸结构的薄膜层成膜于被成膜基板表面。成膜基板(1)为具有凹凸结构的薄膜层(3)成膜于被成膜基板(2)表面的平坦部的基板，其凹凸结构通过成膜含氧化铟的薄膜层(3)而形成。另外，成膜基板(1)的制造方法为制造具有凹凸结构的薄膜层(3)成膜于被成膜基板(2)表面的平坦部的基板(1)的方法，该制造方法具有薄膜工序，所述薄膜工序为如下工序：在被成膜基板(2)表面成膜含氧化铟的薄膜层(3)，并通过进行该成膜形成凹凸结构。由此，不需要用于形成凹凸结构的蚀刻工序，且谋求低成本化，并通过设成含氧化铟的透明导电膜(3)来降低膜厚。
成膜基板制造方法装置

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条