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[发明专利]一种遮挡装置及其遮挡方法和蒸镀系统-CN201510707125.2在审
发明人：付文悦;陈立强;冯长海 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-10-27 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种遮挡装置及其遮挡方法和蒸镀系统。该遮挡装置包括动力机构和遮挡机构，动力机构用于带动遮挡机构在蒸镀速率控制阶段和蒸镀阶段变换不同位置，遮挡机构用于在蒸镀速率控制阶段遮挡蒸镀源与待镀基板之间的蒸镀通道，并保持蒸镀源与蒸镀速率感应器之间的蒸镀通道开启；还用于在蒸镀阶段开启蒸镀源与待镀基板之间的蒸镀通道，并继续保持蒸镀源与蒸镀速率感应器之间的蒸镀通道开启。该遮挡装置实现了蒸镀的连续性控制，不仅缩短了蒸镀时间，而且节约了蒸镀材料，从而不仅提高了产能，而且节约了成本，同时还提高了蒸镀的稳定性和良率。
一种遮挡装置及其方法系统

[发明专利]一种耐高温颗粒表面真空蒸镀镁的方法及装置-CN202010338721.9有效
发明人：左孝青;代彪;刘荣佩;起华荣;罗晓旭;陈显宁 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2020-04-26 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开一种耐高温颗粒表面真空蒸镀镁的方法及装置，属于真空蒸镀技术领域。本发明所述方法将表面粗化的耐高温颗粒与42‑52vol.％的石蜡粉均匀混合、振实，再将工业纯镁和振实的混合粉分别加入到电炉①中蒸发罐②的底部和电炉⑩中蒸镀罐一种耐高温颗粒表面真空蒸镀镁方法装置

[实用新型]蒸镀掩模中间体及蒸镀掩模-CN202121607184.X有效
发明人：松隈香;樋口宏和 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及蒸镀掩模中间体及蒸镀掩模。蒸镀掩模中间体由金属制的片材形成，具备：带状部，包括边缘和掩模部，该边缘具有第一及第二长边和第一及第二短边，该掩模部具备多个掩模孔；框状部，包围上述带状部；以及连结部，位于带状部与框状部之间，将带状部中的至少第一短边与框状部连结带状部具备脆弱线、线段及切取区域。脆弱线的两端与第一短边连接，脆弱线形成为具有从上述第一短边朝向上述第二短边的突出状的线状，线段是第一短边之中被脆弱线的两端夹着的部分。切取区域由线段及脆弱线包围，且包含线段和脆弱线，蒸镀掩模中间体具备在切取区域内与包围切取区域的边缘的一部分连接的贯通孔。
蒸镀掩模中间体

[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法-CN201610331712.0有效
发明人：萧智鸿 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2016-05-18 - 公布日： 2017-12-15 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包含支撑件、蒸镀源、第一传感器、计算单元以及动作器。支撑件用以支撑基板。蒸镀源用以蒸镀蒸镀材料，使蒸镀材料沉积于基板上。第一传感器用以于多个检测位置检测蒸镀材料的多个蒸镀速率。计算单元用以依据于检测位置所检测到蒸镀材料的蒸镀速率，估计蒸镀角。动作器用以依据估计的蒸镀角来移动蒸镀源。
装置方法

[发明专利]真空蒸镀机台的蒸镀源装置及其蒸镀方法-CN200610156631.8有效
发明人：李兴铨 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2006-12-29 - 公布日： 2007-07-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种真空蒸镀机台的蒸镀源装置及其蒸镀方法，该真空蒸镀机台包括有复数蒸镀源装置。每一蒸镀源装置包括有主要蒸镀源、至少一备用蒸镀源以及控制电路，控制电路分别与该主要蒸镀源以及备用蒸镀源电性连接，由控制电路使主要蒸镀源以及备用蒸镀源在不同的时域中作动。本发明可以提高蒸镀制造工艺的生产效率。
真空机台蒸镀源装置及其方法

[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680083276.8有效
发明人：西田光志;岸本克彥 -专利权人：鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种在蒸镀材料蒸镀后，可以统一且以确实短的时间执行蒸镀掩膜的分离的蒸镀方法、蒸镀掩膜及蒸镀装置。包括：形成蒸镀掩膜(1)的步骤(S1)，所述蒸镀掩膜(1)具有至少一部分由强磁性体构成的金属层(金属支承层)；磁化金属层的步骤(S2)，通过对蒸镀掩膜(1)的金属层施加电磁场来磁化金属层；吸附步骤(S3)，被蒸镀基板(2)与蒸镀掩膜(1)的位置对准后，使电磁石(3)中间夹住被蒸镀基板(2)吸附蒸镀掩膜(1)；堆积步骤(S4)，在蒸镀掩膜(1)的对置侧配置蒸镀源(5)，从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料，在被蒸镀基板(2)上堆积蒸镀材料；以及分离步骤(S5)，通过使电磁石(3)产生排斥蒸镀掩膜(1)的磁场，从蒸镀掩膜(1)分离电磁石(3)及被蒸镀基板(2)。
蒸镀掩膜装置方法有机 el 显示装置制造

[发明专利]一种蒸镀源供料装置及蒸镀源供料方法-CN202011459627.5有效
发明人：廖良生;黄稳;武启飞;赵平;赵鹏鹏;胡淳;冯敏强 -专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀技术领域，公开一种蒸镀源供料装置及蒸镀源供料方法。其中蒸镀源供料装置包括蒸镀组件、驱动组件、预蒸探头、蒸镀探头和控制模块，蒸镀组件包括用于蒸镀的工作位和用于预蒸的等候位，工作位和等候位上均设置有加热组件，坩埚置于加热组件内，位于等候位的加热组件能对其上的坩埚内的材料预蒸至预设蒸镀速率；驱动组件用于驱动工作位和等候位上的加热组件调换位置；预蒸探头用于检测等候位上材料的蒸镀速率；蒸镀探头用于检测工作位上材料的蒸镀速率；控制模块用于根据预设指令或操作指令控制蒸镀组件、驱动组件、预蒸探头或蒸镀探头执行预设动作本发明的蒸镀组件能连续蒸镀，提高了蒸镀效率。
一种蒸镀源供料装置方法

[发明专利]蒸镀方法及蒸镀设备-CN201810060024.4在审
发明人：肖冯俊树;李椿光;蔡晓义;柯贤军;苏君海;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2018-01-22 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀设备及蒸镀方法。所述蒸镀设备包括多个相互串联的蒸镀装置，每一所述蒸镀装置包括传送机构与蒸镀机构，所述传送机构采用所述蒸镀方法用于将所述玻璃基板投送于所述蒸镀机构中进行蒸镀。其中，所述蒸镀方法，用于蒸镀玻璃基板，包括如下步骤：根据所述玻璃基板的结构预设蒸镀路径信息；交替投送具有不同结构的所述玻璃基板；依次识别交替投送的所述玻璃基板；按照所述蒸镀路径信息分别对各所述玻璃基板进行蒸镀所述蒸镀设备通过所述蒸镀方法实现同时蒸镀两种不同产品类型的玻璃基板。
蒸镀玻璃基板蒸镀设备投送传送机构路径信息蒸镀装置产品类型预设串联

[发明专利]一种蒸镀设备-CN202110152215.5有效
发明人：何瑞亭;李晓康 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2021-02-03 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种蒸镀设备，由于该蒸镀设备是在一蒸镀源外侧周缘围设第一蒸镀挡板，第一蒸镀挡板与蒸镀源之间的间隙很小，因此能够减小蒸镀设备中第一蒸镀挡板的面积和重量，也极大地减少了第一蒸镀挡板的部件和安装空间，这样设计能够在蒸镀设备运行时，避免部件间的碰撞或干涉，提高蒸镀设备作业的流畅性，也可以避免在运载待蒸镀基板时，大件蒸镀挡板影响机器运作，使待蒸镀基板上产生蒸镀印记不良。该蒸镀设备还对应蒸镀源设置了遮挡部，这种小巧轻便的挡板设计能够改善蒸镀设备挡板的固定点易于损坏的问题，进而避免蒸镀印记不良。
一种设备

[发明专利]蒸镀图案的形成方法、压板一体型压入部件、蒸镀装置及有机半导体元件的制造方法-CN201680021088.2有效
发明人：武田利彦;广部吉纪;宫寺仁子;小幡胜也;山田尚人 -专利权人：大日本印刷株式会社;佳能特机株式会社
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种蒸镀图案的形成方法，其使用设置有与蒸镀制作的图案对应的多个开口部的蒸镀掩模，在蒸镀对象物形成蒸镀图案，该形成方法包括：密合工序，其在蒸镀对象物的一面侧配置蒸镀掩模，在蒸镀对象物的另一面侧将压入部件、及磁性板按该顺序重合配置，并利用磁性板的磁性使蒸镀对象物和蒸镀掩模密合；以及，蒸镀图案形成工序，其在密合工序后，使从蒸镀源放出的蒸镀材料通过开口部附着于蒸镀对象物上，在蒸镀对象物形成蒸镀图案。
图案形成方法压板体型部件装置有机半导体元件制造

[发明专利]一种蒸镀设备及蒸镀方法-CN201910599323.X有效
发明人：饶勇;岳小非 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-07-04 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀设备及蒸镀方法。所述蒸镀设备包括：传送机构、第一蒸镀腔室和第二蒸镀腔室；其中，所述传送机构，被配置为将待蒸镀基板在所述第一蒸镀腔室和所述第二蒸镀腔室间传送；所述第一蒸镀腔室，被配置为在待蒸镀基板上形成第一蒸镀膜层；以及所述第二蒸镀腔室，被配置为在所述第一蒸镀膜层上形成第二蒸镀膜层。所述蒸镀设备及蒸镀方法能够降低蒸镀腔室温度，降低白点不良的概率。
一种设备方法

[发明专利]一种蒸镀装置、蒸镀调整方法以及计算机可读介质-CN201811494611.0在审
发明人：杨春梅;金政泽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-12-07 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀装置、蒸镀调整方法以及计算机可读介质，以改善现有技术的蒸镀过程存在由于膜层检测器件长时间使用导致检测精度下降，进而导致蒸镀的膜厚异常的问题。所述蒸镀装置，包括：至少一个蒸镀源、第一速率检测部件、第二速率检测部件、以及控制部件，其中，所述控制部件，用于控制所述第一速率检测部件实时检测对应的所述蒸镀源的所述第一蒸镀速率，并确定对应的实际蒸镀功率，针对确定出的所述实际蒸镀功率与经验蒸镀功率不匹配的蒸镀源，控制所述第二速率检测部件检测该蒸镀源的第二蒸镀速率，在确定该蒸镀源的所述第一蒸镀速率与所述第二蒸镀速率的差值超出预设范围时，根据所述第二蒸镀速率调整该蒸镀源的蒸镀速率
蒸镀蒸镀源速率检测蒸镀装置计算机可读介质控制部件部件检测膜层检测实时检测速率调整膜厚预设匹配检测

[发明专利]显示器件的蒸镀装置和蒸镀方法-CN202110296943.3在审
发明人：王虎;许瑾;赵伟;曹方义;夏曾强;王宏宇;周小康;蔡明瀚;魏现鹤;艾经伟;张小庆 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种显示器件的蒸镀装置和蒸镀方法。本申请实施例的蒸镀装置包括蒸镀基台和蒸镀单元。蒸镀基台用于固定待蒸镀器件。蒸镀单元与蒸镀基台相对设置且能够沿第一方向移动，蒸镀单元包括用于在待蒸镀器件上蒸镀不同材料的第一蒸镀源和第二蒸镀源，第一蒸镀源和第二蒸镀源沿第一方向设置；在同一时刻，第一蒸镀源在待蒸镀器件上的第一蒸镀区域包括沿第一方向设置的第一部分和第二部分，第二蒸镀源在待蒸镀器件上的第二蒸镀区域与第二部分重叠；第二蒸镀区域和第二部分用于在待蒸镀器件上形成第一膜层，第一部分用于在第一膜层上形成第二膜层。
显示器件装置方法

[发明专利]蒸镀装置及利用该蒸镀装置的蒸镀速度计算方法-CN201410487690.8有效
发明人：崔熙德 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-09-22 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀装置及利用该蒸镀装置的蒸镀速度计算方法。根据本发明的蒸镀装置包括：真空腔室，在内部气化蒸镀物以将该蒸镀物蒸镀到基板上；泵浦光源，向被气化的蒸镀物照射第一偏光，以使被气化的蒸镀物极化，且使被极化的蒸镀物沿预定方向形成电场；以及蒸镀速度计算单元，测量电场的强度以算出蒸镀物的蒸镀速度。
装置利用速度计算方法

[发明专利]一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪-CN201911405229.2在审
发明人：冯亚青;朱文俊;张敬娣;梁舰;敬文华;冯敏强;廖良生 -专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明涉及机械技术领域，公开了一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括底盘和挡板组件，底盘上设有多个用于放置基片的承载部；挡板组件设置于底盘下方，挡板组件能相对底盘运动，且挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。本发明提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率
一种基片蒸镀承载真空蒸镀仪