专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体结构及其制造方法-CN201980090925.0在审
  • 程凯;刘凯 - 苏州晶湛半导体有限公司
  • 2019-02-01 - 2021-09-24 - H01L29/778
  • 本发明提出了一种半导体结构及其制备方法,在衬底层之上设置缓冲层,所述缓冲层包括第一缓冲层和第二缓冲层,在第一缓冲层掺杂过渡金属可以形成深能级陷阱,捕获背景电子,还可避免自由电子向衬底方向的扩散;第二缓冲层中降低过渡金属浓度避免拖尾效应,防止电流崩塌;在缓冲层中周期性的掺杂杂质,使得杂质作为受主杂质,补偿背景电子,减小背景浓度,采用周期性掺杂的方法,可以有效减少缓冲层中因为掺杂而引起的位错。
  • 一种半导体结构及其制造方法
  • [实用新型]一种灯检设备-CN202123269924.6有效
  • 陈榕生;孙宏涛;孙蓬;车海波 - 科睿驰(深圳)医疗科技发展有限公司
  • 2021-12-23 - 2022-05-27 - G01N21/01
  • 本实用新型提供的灯检设备,包括:机架、放大装置、背景板、照明装置和切换装置;放大装置、背景板和照明装置均设置于机架上,且照明装置位于放大装置和背景板之间;背景板设置有多个,且每个背景板的颜色均不相同,切换装置用于切换背景板当灯检时,打开照明装置照明,将产品放在放大装置与照明装置之间,在一种颜色的背景板下,使用放大装置配合照明装置将产品放大灯检,通过背景可更清晰凸显产品内的杂质或异物,在第一种背景灯检完成后,可通过切换装置切换另一种颜色的背景板进行灯检,如此可快速将产品中的不同颜色的杂质和异物剔除,提高灯检效率和产品质量。
  • 一种设备
  • [发明专利]一种低背景浓度氮化镓外延结构的制备方法及其外延结构-CN202210758795.7有效
  • 王国斌;周溯沅 - 江苏第三代半导体研究院有限公司
  • 2022-06-30 - 2023-09-26 - C30B25/18
  • 本发明公开了一种低背景浓度氮化镓外延结构的制备方法及其外延结构,包括:在衬底层上沉积氮化铝缓冲层,阻挡衬底层上吸附的O杂质;反应腔室在第一V/III比的条件下,持续通入镓源和氮源,以便在所述氮化铝缓冲层上生成氮化镓粗化层,减少氮化镓中穿透位错等线缺陷的形成,阻断后序外延层材料杂质并入根源;所述反应腔室在第二V/III比的条件下,持续通入所述镓源和所述氮源,以便在所述氮化镓粗化层上生长氮化镓恢复层,减少氮空位的产生,为后续生长低背景浓度;所述反应腔室在第三V/III比的条件下,持续通入所述镓源和所述氮源,以便在所述氮化镓恢复层上生长低背景浓度氮化镓层;减少氮空位的产生,以及C、Si杂质的并入,降低氮化镓的背景浓度。
  • 一种背景浓度氮化外延结构制备方法及其
  • [发明专利]色选机背景辊筒清洗装置-CN201510566515.2有效
  • 伍锦龙 - 合肥安晶龙电子股份有限公司
  • 2015-09-08 - 2019-01-15 - B07C5/342
  • 本发明涉及色选机清洁技术领域,特别涉及一种色选机背景辊筒清洗装置,包括转动式设置在机架上的背景辊筒,背景辊筒的旁侧设置有喷水单元,所述喷水单元实施对背景辊筒的外表面的喷洗操作,背景辊筒的下方设置有接水槽,接水槽的槽底或槽壁上设置有排水口,洗下来的灰尘等杂质掉落在接水槽内,并从接水槽上设置的排水口及时的排出,避免清洗下来的污水中的颗粒对背景辊筒造成的伤害,该种喷洗的方式实施对背景辊筒的清洗操作,能够确保对背景辊筒的清洗效果,另外背景辊筒的两端水密封的问题可以得到回避。
  • 色选机背景清洗装置
  • [实用新型]色选机背景辊筒清洗装置-CN201520691476.4有效
  • 伍锦龙 - 合肥安晶龙电子股份有限公司
  • 2015-09-08 - 2016-02-24 - B07C5/342
  • 本实用新型涉及色选机清洁技术领域,特别涉及一种色选机背景辊筒清洗装置,包括转动式设置在机架上的背景辊筒,背景辊筒的旁侧设置有喷水单元,所述喷水单元实施对背景辊筒的外表面的喷洗操作,背景辊筒的下方设置有接水槽,接水槽的槽底或槽壁上设置有排水口,洗下来的灰尘等杂质掉落在接水槽内,并从接水槽上设置的排水口及时的排出,避免清洗下来的污水中的颗粒对背景辊筒造成的伤害,该种喷洗的方式实施对背景辊筒的清洗操作,能够确保对背景辊筒的清洗效果,另外背景辊筒的两端水密封的问题可以得到回避。
  • 色选机背景清洗装置
  • [发明专利]一种半导体结构及其制造方法-CN201980090928.4在审
  • 程凯;刘凯 - 苏州晶湛半导体有限公司
  • 2019-02-01 - 2021-09-21 - H01L29/778
  • 本发明所提供的半导体结构及其制备方法,在衬底层之上设置缓冲层,所述缓冲层包括第一缓冲层和第二缓冲层,在第一缓冲层掺杂过渡金属可以形成深能级陷阱,捕获背景电子,此外还可以有效避免自由电子向衬底方向的扩散;第二缓冲层中降低过渡金属浓度或者不故意掺杂过渡金属,避免金属的拖尾效应,防止电流崩塌;在缓冲层中掺杂C,使得C作为受主杂质,补偿背景电子,减小背景浓度;同时选择n型杂质与过渡金属和C共掺杂主要是补偿/中和由于位错等缺陷引入的深能级
  • 一种半导体结构及其制造方法

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