专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]聚焦结构-CN200410068818.3无效
  • 康永典;吕柏庆;尤安祺 - 鸿友科技股份有限公司
  • 2004-07-05 - 2006-01-11 - G03B13/32
  • 本发明关于一种聚焦结构,可以应用至一影像装置,其中聚焦结构包含一基座、一镜头座以及一电磁动力回圈,其中,电磁动力回圈由一磁铁与至少一轭铁组成一中空封闭的回圈,其中一线圈围绕着轭铁的一处,当线圈中有电流流通时,由于其电流方向与磁力线方向垂直,使线圈产生一动力,带动镜头座可以沿着基座的导杆滑动,使影像装置具有聚焦的功能。据此,使用者使用配有此电磁动力回圈的影像装置,不再会因为聚焦动作所产生的噪音而有不舒服的感受,提高了影像装置的品质,当然,直接控制线圈的电流量来使电磁动力回圈产生动力,也不再需要其它的传动齿轮模组来变换动力输出方向以及调整动力的大小以及转速
  • 聚焦结构
  • [发明专利]基于高折射率材料的超分辨聚焦装置-CN201911104030.6有效
  • 张伟华;王中 - 南京大学
  • 2019-11-13 - 2021-07-30 - G02B27/58
  • 本发明提供了一种基于高折射率材料的超分辨聚焦装置。该装置包括光源、聚焦元件和类透镜聚焦结构,光源发出的光束先经过聚焦元件初步聚焦聚焦光或者平行光后,再入射到类透镜聚焦结构进一步聚焦,在类透镜聚焦结构聚焦面处形成亚波长尺寸的聚焦光斑;类透镜聚焦结构的材料采用折射率大于本发明的装置可以将聚焦光斑缩小至λ/10,利用径向偏振光照明方式可以进一步提高聚焦光斑的焦深,同时聚焦光斑尺寸可以保持λ/8,且焦深可达到λ/5,有望用于纳米尺度超分辨光刻技术、成像以及数据存储等领域。
  • 基于折射率材料分辨聚焦装置
  • [实用新型]立体成像光学薄膜-CN202222805039.3有效
  • 郑伟伟;储飞翔;胡祖元 - 苏州印象技术有限公司
  • 2022-10-25 - 2023-02-24 - G02B30/00
  • 本申请揭示一种立体成像光学薄膜,其特征在于,包括:透明基材,所述透明基材包括第一表面以及相对设置的第二表面;聚焦结构,所述聚焦结构设于所述透明基材第一表面,所述聚焦结构包括若干聚焦单元;图文结构,所述图文结构包括若干图文单元,所述图文单元为凹槽结构,所述图文单元设于所述聚焦单元表面,且所述聚焦单元与所述图文单元为一体结构。本申请提供的一种立体成像光学薄膜,所述聚焦结构与所述图文结构为一体结构,将图文结构设于所述聚焦结构上,这样的结构由于聚焦结构与图文结构为一体,所以不需要在进行对准,更加容易制备,工艺也比现有技术中结构的工艺简单
  • 立体成像光学薄膜
  • [发明专利]一种由聚焦堆栈估计深度的方法和装置-CN202310866985.5在审
  • 邓小娟;邱钧;刘畅;罗天琦 - 北京信息科技大学
  • 2023-07-14 - 2023-09-26 - G06T7/529
  • 本发明公开了一种由聚焦堆栈重建深度的方法和装置,其包括:步骤101,通过改变物距或相距的方式,采集一组聚焦深度不同的图像序列,获得聚焦堆栈;步骤102,使用测度算子计算初始的聚焦测度体数据u;其中,聚焦测度体数据包括聚焦堆栈中每个像素的聚焦测度;步骤103,根据聚焦堆栈与聚焦测度体数据u的数据结构之间的相似程度,计算聚焦堆栈与聚焦测度体数据的结构一致性S;步骤104,结合结构一致性S,利用三维自适应加权全变分模型优化聚焦测度体数据u,得到优化后的聚焦堆栈体数据u;步骤105,根据优化后的聚焦测度体数据,获得深度图。本发明能够有效解决聚焦堆栈估计深度中弱纹理区域和遮挡区域深度线索丢失问题,进而提升重建深度的精度。
  • 一种聚焦堆栈估计深度方法装置
  • [发明专利]工艺腔室及半导体工艺设备-CN202111389458.7在审
  • 林源为;董子晗 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2021-11-22 - 2022-04-08 - H01J37/32
  • 本发明公开了一种工艺腔室及半导体工艺设备,该工艺腔室包括腔室本体以及设置于腔室本体内部的基座和设置于基座上的聚焦环,还包括:多个聚焦环补充结构,多个聚焦环补充结构沿周向环绕设置于聚焦环上方,聚焦环补充结构的材质与被刻蚀的晶圆的材质相同;水平驱动机构,水平驱动机构设置于腔室本体的侧壁且与聚焦环补充结构连接,水平驱动机构用于驱动多个聚焦环补充结构沿各自径向方向同步运动,以调节各聚焦环补充结构相对于聚焦环在竖直方向上的重叠面积。
  • 工艺半导体工艺设备
  • [实用新型]一种接收聚焦透镜的近距离补偿结构-CN202123094276.5有效
  • 彭勇 - 深圳市汉成光学有限公司
  • 2021-12-10 - 2022-04-19 - G02B6/42
  • 本实用新型涉及一种接收聚焦透镜的近距离补偿结构,特别涉及聚焦透镜的技术领域,包括光源、聚焦透镜、近距离补偿结构以及接收器,所述光源、聚焦透镜、近距离补偿结构以及接收器依次排列,所述聚焦透镜一侧为凸面,另一侧为平面,所述近距离补偿结构位于平面一侧,所述近距离补偿结构聚焦透镜平面一侧相贴合,所述近距离补偿结构为三角形透镜,所述近距离补偿结构尖端远离聚焦透镜的中心,本实用新型具有使得聚焦透镜带近距离补偿功能的技术效果
  • 一种接收聚焦透镜近距离补偿结构
  • [发明专利]FXT聚焦相机整体结构-CN202210106819.0在审
  • 王娟;陈勇;杨雄涛;鲁兵 - 中国科学院高能物理研究所
  • 2022-01-28 - 2022-05-06 - G03B17/56
  • FXT聚焦相机整体结构,属于空间天文观测技术领域,包括FXT聚焦相机整体集成工装,安装在FXT聚焦相机整体集成工装内的FXT聚焦相机支架,安装在FXT聚焦相机支架内的FXT聚焦相机;FXT聚焦相机包括光学聚焦系统和探测器系统;光学聚焦系统并排设置两套;每套光学聚焦系统包括防污染筒,防污染筒的上端口与聚焦相机支架的上端口连接,下端口与聚焦相机支架的下端口连接;聚焦相机支架的上端口安装有上端组件,下端口安装有下端组件;下端组件的下方安装有探测器机箱本发明解决现有FXT聚焦相机的集成装配结构稳定性和安装精度差,不能为FXT聚焦相机提供可靠支撑,导致FXT聚焦相机的观测精度差的问题。
  • fxt聚焦相机整体结构
  • [实用新型]一种2.5mm焦点的螺旋阴极聚焦系统-CN201621001157.7有效
  • 刘斌;张晓梅;曾春辉;陈帅;冯家豪 - 成都凯赛尔电子有限公司
  • 2016-08-31 - 2017-02-15 - H01J35/14
  • 一种2.5mm焦点的螺旋阴极聚焦系统,包括聚焦罩和聚焦极,聚焦罩底部有卡合台,聚焦罩中间凹陷为方形的强聚焦槽,强聚焦槽的底面有腰圆形的弱聚焦槽,强聚焦槽的高度H为13mm,弱聚焦槽的长度F为10mm、宽度D为3mm,强聚焦槽的底面还设有两个螺钉孔,聚焦极顶部设有卡合槽,聚焦极中间设有两个与螺钉孔匹配的紧固孔,聚焦极中间还设有两个贯穿的阴极安装孔,聚焦罩装配在聚焦极上,阴极灯丝安装后,其最高点相对于强聚焦槽底面的高度通过聚焦结构设计,优化强聚焦和弱聚焦的尺寸,并改善与聚焦极的装配结构,实现焦点大小为2.5mm,且装配方便稳定性强,非常适合应用于工业探伤领域。
  • 一种2.5mm焦点螺旋阴极聚焦系统
  • [实用新型]试管内进行样本处理用非接触式超声波聚焦装置-CN201620538983.9有效
  • 朱阿春 - 苏州工业园区海纳科技有限公司
  • 2016-06-03 - 2016-10-26 - G01N1/28
  • 本实用新型提供一种试管内进行样本处理用非接触式超声波聚焦装置,至少包括:壳体、超声聚焦结构,所述超声聚焦结构收纳在所述壳体内,所述超声聚焦结构中穿设有接线柱,所述接线柱连接有电缆;所述超声聚焦结构具有凹陷区将本试管内进行样本处理用非接触式超声波聚焦装置放置在水槽中,以及使得试管中样本位于所述超声聚焦结构聚焦处;所述超声聚焦结构能够将超声机械振动能量聚焦到一微小区域,该微小区域的能量密度能够处理需要在高强度或高能量密度场合进行处理的样本,且样本处理效率高;另外,该试管内进行样本处理用非接触式超声波聚焦装置适用于各种材料制成的试管。
  • 试管进行样本处理接触超声波聚焦装置
  • [发明专利]一种辊筒表面微结构制作设备、系统及方法-CN201911370306.5有效
  • 张志宇;王若秋;薛栋林;张学军 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2019-12-26 - 2021-04-02 - B23K26/046
  • 本申请公开了一种辊筒表面微结构制作设备,包括激光器,用于发出激光光束;激光直写装置,用于调整激光光束,获得直边、平顶分布的调整光束;聚焦透镜,用于聚焦调整光束,得到用于刻制微结构聚焦光束;控制器,用于调整聚焦透镜与待刻微结构的辊筒的表面的距离为聚焦透镜的焦距值本申请的设备在对辊筒表面刻制时,使用聚焦光束刻制微结构,即用聚焦后的激光光束代替金刚石刀具,光束可以常时间工作,降低微结构的制造成本,并且聚焦光束不会出现磨损的缺陷,可以保证微结构形状的一致性,同时,聚焦光束的光斑尺寸可以小于1微米,因此可以刻制出更加精细的微结构。本申请还提供一种具有上述优点的辊筒表面微结构制作系统和方法。
  • 一种表面微结构制作设备系统方法

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