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[发明专利]一种干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法-CN200710040653.2无效
发明人：楼丰瑞;徐旻;张建;石锗元 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-05-15 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： C23F4/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法，该等离子刻蚀设备具有一用于产生射频输出的射频发生器。现有技术需拆开等离子刻蚀设备反应腔并通过人工方式清洗该反应腔，存在着清洗不彻底、浪费时间及人力成本的问题。本发明的干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法先驱动等离子刻蚀设备至一稳定状态；然后启动射频发生器输出一预设功率的射频，并在反应腔中通入预设流量的氧气，进行一预设时间的干法清洗。采用本发明的方法无需打开反应腔即可彻底清洗反应腔，简化了清洗过程，提高了清洗质量，另可大大节约人力成本。
一种清洗等离子刻蚀设备反应方法

[发明专利]一种常压等离子体自由基清洗系统-CN201210097143.X无效
发明人：王守国;贾少霞;赵玲利;杨景华 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2012-04-05 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明是一种常压等离子体自由基清洗系统，包括一台中频等离子体发生器、一台射频等离子体发生器、吸片装置、电源系统、移动机械臂、进气系统以及抽气泵。系统运行时，两台等离子体发生器同时工作，工作气体在流量计的控制下进入到两台等离子体发生器中，吸片装置固定在一维移动机械臂上，电源接通过后，等离子体发生器产生的自由基在气流的携带下喷射出来，吸盘装置吸附着硅片，在机械臂的带动下，先从中频高压等离子体发生器喷口上方扫过，进行预清洗，然后再从射频等离子体发生器上方扫过，进行细清洗，本发明可用于硅片光刻胶和有机污染物清洗或其他衬底表面的有机污染物的清洗。
一种常压等离子体自由基清洗系统

[发明专利]一种晶圆清洗设备-CN202010267527.6在审
发明人：庞浩;尹影;徐俊成;江伟 -专利权人：北京烁科精微电子装备有限公司
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆清洗设备，属于半导体制造设备技术领域，包括：干燥室、等离子清洗腔室和传输组件，所述传输组件设置在所述等离子清洗腔室的一侧；所述传输组件具有适于将晶圆从干燥室移动至等离子清洗腔室的真空吸盘；所述等离子清洗腔室上连接有真空系统，所述真空系统分别适于对所述等离子清洗腔室和所述真空吸盘进行抽真空操作；本发明提供的晶圆清洗设备，传输组件适于将晶圆从干燥室移动至等离子清洗腔室，传输组件中用于抓取晶圆的部位为真空吸盘
一种清洗设备

[实用新型]一种等离子清洗机-CN202021481794.5有效
发明人：张通;朱金猛 -专利权人：苏州铭美自动化科技有限公司
申请日： 2020-07-24 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子清洗机，涉及一种清洗机领域，包括机架，机架上设置有补料仓机构，机架上位于补料仓机构的一侧设置有储料仓机构，机架上位于储料仓机构的下方设置有分料机构，机架上位于储料仓机构的一侧设置有等离子清洗室，机架上位于等离子清洗室内设置有传输机构，机架上位于分料机构和传输机构之间设置有抓取机构，机架上位于等离子清洗室远离分料机构的一侧设置有下料机构，还包括控制机构，补料仓机构给储料仓机构补料，减少了操作人员的加料次数，分料机构将产品进行分料，抓取机构抓取产品并带动产品移动到传输机构上，等离子清洗室对产品进行等离子清洗，使得产品清洗均匀和彻底。
一种等离子清洗

[发明专利]一种PCB板的压合前处理制作方法-CN202210898888.X在审
发明人：邓健;牛顺义;蔺跃明;戴银海 -专利权人：四创电子股份有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H05K3/46 文献下载
摘要：本发明公开一种PCB板的压合前处理制作方法，对含PTFE材料的内层板进行蚀刻处理，得到PCB板的内层板，对蚀刻处理后的内层板进行清洗烘干，去除内层板表面的液体，使得内层板表面保持干燥状态，对烘干后的内层板进行等离子处理，离子处理包括等离子咬蚀、等离子清洗和等离子活化，内层板在进行等离子处理时，依次进行离子咬蚀、等离子清洗和等离子活化，将等离子处理后的板材转至层压工序，进行后续压成处理，代替传统的钠萘溶处理方式，能有效提升
一种 pcb 压合前处理制作方法

[发明专利]一种极片激光分切清洗装置及清洗工艺-CN202211365879.0在审
发明人：姚明川;郑明清;吴翔;禹磊;李聪;郑开元;苏海棒;刘永 -专利权人：惠州锂威新能源科技有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本发明公开了一种极片激光分切清洗装置及清洗工艺，属于锂离子电池的技术领域，其中的极片激光分切清洗装置的主要技术方案是，包括：激光分切系统，所述激光分切系统包括激光发生器；等离子体清洗装置，所述等离子体清洗装置包括等离子体发生器、等离子体枪头、高压连接线和压缩空气管路；承载平台，所述激光发生器和所述等离子体枪头与所述承载平台相对应。通过将上述的极片激光分切清洗装置应用到对极片的清洗工艺上，本发明解决了锂离子电池生产过程中激光分切工艺容易使极片产生金属绒球等杂物的痛点，并且能够提高激光分切的精准度。
一种激光清洗装置工艺

[实用新型]一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机-CN201721044882.7有效
发明人：王福贞 -专利权人：王福贞
申请日： 2017-08-21 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机。本实用新型在平面磁控溅射镀膜机、在安装旋靶管型柱状磁控溅射靶磁控溅射镀膜机和在阴极电弧离子镀膜机的镀膜室中设置固体弧光等离子体清洗源。固体弧光等离子体清洗源的阴极和阳极分设在工件的两侧。在清洗过程中，两极间产生的弧光放电等离子体中的电子流在向阳极运动的过程中把氩气电离，用得到的高密度的氩离子流轰击清洗工件，增强工件的轰击清洗效果，提高膜基结合力；在镀膜过程中，固体弧光等离子体清洗源的阴极参与镀纳米多层膜
弧光等离子体清洗镀膜机磁控溅射镀膜机阴极本实用新型轰击等离子体阴极电弧离子磁控溅射靶溅射镀膜机膜基结合力纳米多层膜阳极镀膜过程辅助沉积弧光放电平面磁控清洗工件清洗过程清洗效果氩离子流氩气电离镀膜室管型柱旋靶两极

[发明专利]等离子自动清洗机-CN202010030901.0有效
发明人：章春元 -专利权人：章春元
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子自动清洗机，包括AGV物料车、旋转提升动力机构、动力对接组件、龙门XYZ运动机构和等离子清洗机，所述旋转提升动力机构设置在所述AGV物料车上，所述旋转提升动力机构包括旋转提升传动机构和链条旋转提升机构，所述动力对接组件与所述AGV物料车相对接，所述旋转提升传动机构与所述链条旋转提升机构连接，所述等离子清洗机安装在所述龙门XYZ运动机构的Z轴。本发明的有益效果是：通过AGV物料车与动力对接组件对接，通过旋转提升动力机构将电池支架进行旋转提升，通过龙门XYZ运动机构驱动等离子清洗机在XYZ方向上进行平移，最终通过等离子清洗机对电池支架进行自动等离子表面清洗
等离子自动清洗

[实用新型]等离子清洗用自动控制装置-CN202223545631.0有效
发明人：朱成 -专利权人：南京嘉阳工程技术有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了等离子清洗用自动控制装置，其涉及等离子清洗用控制技术领域，旨在解决现有的等离子清洗用自动控制装置在实时适应待处理物料高度，并根据该物料高度对等离子清洗机构的高度进行自动调节方面存在短板，达到了能根据待处理物料的高度自动调节等离子清洗机构的高度，达到最佳的等离子清洗效果的效果。
等离子清洗自动控制装置

[实用新型]一种FPC用等离子清洁装置-CN202022409255.7有效
发明人：宗志勇 -专利权人：盐城维信电子有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型属于离子清洁装置技术领域，具体涉及一种FPC用等离子清洁装置。本FPC用等离子清洁装置包括：清洗腔、设置在清洗腔内的等离子清洁机构和转盘；所述转盘的边沿周向分布若干工件；所述等离子清洁机构适于依次清洁各工件的表面。本实用新型的FPC用等离子清洁装置，通过设置转盘，并在转盘上放置若干工件，等离子清洁机构依次清洁各工件的表面，确保一次可清洁多个工件，有效的提高了工作效率。
一种 fpc 等离子清洁装置

[发明专利]等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备-CN202111043978.2在审
发明人：张曹 -专利权人：常州井芯半导体设备有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备，涉及半导体加工技术领域。等离子喷头包括外壳、管状电极和绝缘体。等离子喷头可以应用于半导体用大气等离子清洗设备，并且可以允许气流从管状电极内部通过，提高等离子体的均匀性，达到媲美于真空等离子清洗的效果，甚至较之更为出色，有效解决了真空等离子清洗的效率不高的问题。
等离子喷头半导体大气清洗设备

[发明专利]等离子体反应腔清洗装置及其等离子体反应腔清洗方法-CN201210371965.2有效
发明人：吴紫阳;苏兴才;文秉述 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2012-09-29 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体反应腔清洗装置，包含多个输气管，间隔的贯通等离子体反应腔壁，其延伸部分与腔壁的侧壁形成夹角；输气管上还可以设置快速调节阀，控制输入反应腔内的气体流量。一种用于上述装置的等离子体反应腔清洗方法，先通过气体喷头向反应腔内输入具有清洁能力的气体，然后通过本发明装置向反应腔内输入气体，气体电离为等离子体，继续通过本发明装置向反应腔内输入气体搅动等离子体形成涡流，等离子体涡流剧烈运动与反应腔内沉积的聚合物发生反应，清洗结束后将气体排出。本发明能够使等离子形成涡流剧烈运动，提高了等离子体与难清洁部位沉积的聚合物的反应几率，从而提高对难清洁部位沉积的聚合物的清洗能力。
等离子体反应清洗装置及其方法

[实用新型]等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备-CN202122151525.3有效
发明人：张曹 -专利权人：常州井芯半导体设备有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备，涉及半导体加工技术领域。等离子喷头包括外壳、管状电极和绝缘体。等离子喷头可以应用于半导体用大气等离子清洗设备，并且可以允许气流从管状电极内部通过，提高等离子体的均匀性，达到媲美于真空等离子清洗的效果，甚至较之更为出色，有效解决了真空等离子清洗的效率不高的问题。
等离子喷头半导体大气清洗设备

[实用新型]一种用于设备改造的等离子清洗机构-CN202022510281.9有效
发明人：王金科;龙泷;陈明飞;刘永成;谭宏 -专利权人：长沙壹纳光电材料有限公司
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于设备改造的等离子清洗机构，包括：腔体，所述腔体的内壁上设有第一通孔；等离子发生板,所述等离子发生板设置在所述腔体内，且与所述腔体的腔壁间隔设置，所述离子发生板通过固定机构与所述腔体的腔壁固定连接，所述固定机构为绝缘结构；绝缘密封电极连接件，所述绝缘密封电极连接件固定穿设于所述第一通孔内，外部电源线通过所述绝缘密封电极连接件与所述等离子发生板相连。能够对现有的没有清洗机构的设备进行改造，使其具有等离子清洗机构，且改造部件少，成本低，本实用新型应用等离子清洗装置领域。
一种用于设备改造等离子清洗机构

[发明专利]适用于可扰曲材料的等离子清洗装置-CN201510684849.X在审
发明人：冯斌;金浩;王德苗;李东滨 -专利权人：苏州求是真空电子有限公司
申请日： 2015-10-22 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,包括：真空腔体，置于真空腔体内并安装可绕曲材料的卷轮，等离子气体管道，传送可绕曲材料使得可绕曲材料得到均匀清洗的传送组件。本发明提供一种根据等离子体源结构设计的清洗装置，可以方便且高效的获得高密度等离子体，实现对可扰曲材料的高效且全面的清洗。
适用于可扰曲材料等离子清洗装置

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