专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有有效的无损害原位灰化的等离子蚀刻器设计-CN201210194993.1有效
  • 萧颖;林进祥 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2012-06-13 - 2013-07-03 - H01J37/32
  • 在一些实施例中,本发明涉及一种等离子蚀刻系统,该等离子蚀刻系统具有与处理室连通的直流和局部化等离子源。直流等离子源用于将直流等离子提供给处理室以蚀刻半导体工件。直流等离子具有通过将大的偏压施加给工件形成的高电势。在完成蚀刻以后,关断偏压和直流等离子源。然后,局部化等离子源用于将低电势局部化等离子提供在处理室内的适当位置使得局部化等离子与工件空间分离。空间分离导致形成与工件接触的具有零电势/低电势的扩散等离子。零电势/低电势的扩散等离子使得实施反应灰化,而降低了由于正等离子电势所引起的离子轰击造成的工件损伤。本发明还公开了具有有效的无损害原位灰化的等离子蚀刻器设计。
  • 具有有效损害原位灰化等离子体蚀刻设计
  • [实用新型]等离子源增强沉积设备-CN03211548.2无效
  • 李国卿;关秉羽;李剑锋;牟宗信 - 大连理工大学
  • 2003-02-20 - 2004-08-11 - C23C14/32
  • 等离子源增强沉积设备属于等离子表面物理气相沉积技术领域。等离子源增强沉积设备由真空系统、加热系统、偏压电源、供气系统、工件传动系统以及等离子源与真空弧、磁控溅射组成,由等离子源提供气体离化的等离子,在偏压作用下,载能离子清洗、活化和强化材料表面,并与真空弧、磁控溅射产生的金属离子合成薄膜,实现等离子源强化-镀膜一化技术。本实用新型设备设计适合工业应用的等离子源,利于产业化技术。应用于机械,信息,建筑装璜等领域。尤其适用于深层强化和表面处理的工模具。
  • 等离子体增强沉积设备
  • [发明专利]纤维丝束表面处理系统-CN201710224804.3在审
  • 赵海波;格伦·L·史密斯;安·玛丽·斯特拉西亚 - 福特全球技术公司
  • 2017-04-07 - 2017-10-20 - D06M10/02
  • 公开了一种纤维丝束表面处理系统。还公开了对纤维丝束(如碳纤维丝束)进行等离子处理的系统和方法。系统可以是纤维丝束处理系统,包括空气等离子源,被构造为发射等离子流;支撑表面,与空气等离子源隔开并被构造为在发射等离子流时接触等离子流。第一导向装置和第二导向装置可位于支撑表面的相背端部上并被构造为使运动的纤维丝束在支撑表面和空气等离子源之间对齐。方法可包括将纤维丝束连续输送通过第一导向装置、越过支撑表面并通过第二导向装置;当纤维丝束越过支撑表面时对其进行空气等离子处理,使得由等离子处理引起的纤维丝束挠度受支撑表面限制。公开的系统/方法在等离子处理期间可减小对纤维丝束的损伤。
  • 纤维丝束表面处理系统

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