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[发明专利]一种层流等离子体的金属表面强化复合加工装置及方法-CN201810232456.9在审
发明人：曹修全;姚进;陈艳;余德平 -专利权人：四川理工学院
申请日： 2018-03-21 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明提供一种层流等离子体的金属表面强化复合加工装置及方法，该装置包括层流等离子体喷涂系统（1）、控制装置（2）和精加工装置（3），所述控制装置（2）分别与层流等离子体喷涂系统（1）和精加工装置（3）电连接，所述层流等离子体喷涂系统（1）的层流等离子体发生器（101）与精加工装置（3）的刀具（301）平行设置，所述刀具（301）同步跟随层流等离子体发生器（101）沿待处理工件轴向运动，该方法包括步骤：工件装夹在工作台上；加工装置复位；层流等离子体发生器喷涂同时精加工装置工作；完成工件表面喷涂及涂层精加工；金属粉末和切削回收；停车，取下工件；本发明具有可控性好、稳定性高、涂层质量好且涂层表面精度高等优点。
层流等离子体精加工装置喷涂系统发生器复合加工装置金属表面强化控制装置刀具工件表面喷涂待处理工件工件装夹加工装置金属粉末平行设置涂层表面轴向运动电连接可控性切削精加工复位喷涂取下停车回收

[发明专利]一种等离子体皮肤处理装置及方法-CN202310466862.2在审
发明人：徐晗;徐涵城;邵明绪;谢楷 -专利权人：西安电子科技大学;西安拾玖岁信息科技有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体皮肤处理装置及方法，包括等离子体发生器，等离子体发生器的治疗面连接喇叭口连接头形成治疗室；负压产生模块的气室与治疗室顶部连通。所述的等离子体发生器的治疗面周向上设置有若干个距离传感器；若干个所述的距离传感器与控制单元的多个第一输入端对应连接，所述的负压产生模块与控制单元的第一输出端连接，所述的喇叭口连接头底部光滑且边缘外翻，材质采用玻璃或镀层金属等离子体发生器为沿面型介质阻挡放电结构，其网状地电极由外圆环、内圆环以及内、外圆环间均匀分布的网格结构构成，外圆环和内圆环之间对应连接直流电源，对网状地电极进行加热。等离子体发生器治疗面与皮肤表面距离、温度可控。
一种等离子体皮肤处理装置方法

[实用新型]一种微波批量等离子晶圆去胶系统-CN202320757361.5有效
发明人：苏宜鹏 -专利权人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微波批量等离子晶圆去胶系统，涉及半导体微加工技术领域，包括微波发生器和基座，所述微波发生器的一侧通过螺丝安装有隔离器，所述隔离器的一侧设置有环形水负载，所述基座的下方设置有工艺气体充入组件以及工艺气体真空发生装置；本实用新型通过等离子体通过微波电源及微波发生器产生微波，而激发工艺气体获得高密度等离子体。通过微波等离子源获得的批量等离子体远高于射频源激励产生的等离子体，且其通过自由基分子的化学作用蚀刻，无溅射效应，物理作用比较微弱，微波批量等离子体具有各向同性特点，呈电中性的自由基分子，自由基分子的等离子体无偏压
一种微波批量等离子晶圆去胶系统

[发明专利]等离子体微带开关-CN200910238501.2无效
发明人：欧阳吉庭;缪劲松;彭祖林;曹菁;蔡崧 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2009-11-27 - 公布日： 2010-05-12 - 主分类号： H01P1/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体微带开关，包括微带传输线和等离子体发生器。在用于阻断电磁波的微带间隙上紧贴微带基板放置等离子体发生器，产生沿基板表面分布的高密度等离子体层，使之完全覆盖微带间隙，等离子体的导体性使低于等离子体频率但被间隙阻断的电磁波能够通过间隙而传输。通过控制电源系统对等离子体发生器的放电电极提供高压或零电位来控制放电等离子体的产生和衰减，从而控制微带电磁波间隙的导通和隔断，实现开关功能。放电等离子体的产生和衰减时间优于在1微秒，满足高速微带开关的要求；本发明具有工作频带宽、隔离度高、插损小、速度快和功率性能好的优点，同时结构简单、工艺易行、无机械部件，可以实现完全电路控制。
等离子体微带开关

[发明专利]等离子体辅助气相传输沉积装置及方法-CN201110118768.5无效
发明人：刘志强;蒋猛;杨培 -专利权人：无锡尚德太阳能电力有限公司;四川尚德太阳能电力有限公司
申请日： 2011-05-09 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体辅助气相传输沉积装置和方法。所述等离子体辅助气相传输沉积装置包括真空腔室和位于真空腔室内用于加热以气化原料的原料加热腔、用于形成等离子体激发区的等离子体发生器和用于把原料加热腔内的气相的原料粒子和携带气体的混合物导出到等离子体发生器形成的等离子体激发区内的气体导出管，等离子体激发区的下方设有用于承载衬底的衬底承载结构。本发明的等离子体辅助气相传输沉积装置和方法，通过气体导出管改善气相原料粒子在携带气体中的均匀分布，通过等离子体发生器处理气相原料粒子，提高了气相原料粒子的能量，并使气相原料粒子进一步均匀分布在携带气体中
等离子体辅助相传沉积装置方法

[发明专利]一种基于固体等离子体的宽带变频天线-CN201710782930.0有效
发明人：董胜波;刘涓;杨岱旭 -专利权人：北京遥感设备研究所
申请日： 2017-09-03 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于固体等离子体的宽带变频天线，包括：固体等离子体发生器阵列(1)、衬底基片(2)、偏置电极(3)、支柱(4)、金属底座(5)、宽带巴伦(6)和射频接头(7)，其中衬底基片(2)盖在支柱(4)的上端口；固体等离子体发生器阵列(1)安装在衬底基片(2)上表面，固体等离子体发生器阵列(1)下方连接有多个偏置电极(3)，宽带巴伦(6)位于支柱(4)腔体内部，宽带巴伦(6)上端穿过衬底基片(2)焊接在固体等离子体发生器阵列(1)上，下端与固定在金属底座(5)下方的射频接头(7)焊接。
一种基于固体等离子体宽带变频天线

[发明专利]灭菌装置、灭菌方法、活性氧供给装置和利用活性氧的处理装置-CN202180046672.4在审
发明人：古川匠;山内一浩;小泽雅基;高岛健二;菊池裕一;金子翔太;本乡将嗣 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： A61L2/20 文献下载
摘要：灭菌装置等配备有等离子体发生器和紫外光源。等离子体发生器是等离子体激励器，该等离子体激励器以夹持有电介质的方式设置有第一电极和第二电极，并且在该等离子体激励器中，通过在这两个电极之间施加电压来生成包括臭氧的诱导流。紫外光源被布置成能够照射灭菌对象的表面，并且等离子体激励器被布置成使得诱导流被供给到所述表面。
灭菌装置方法活性氧供给利用处理

[发明专利]一种等离子体增强清洗装置及清洗方法-CN202111681333.1在审
发明人：曹时义;王俊锋;袁明 -专利权人：广东鼎泰高科技术股份有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体增强清洗装置，用于清洗待处理产品，包括真空腔室、等离子体发生器、安装部、脉冲偏压电源，真空腔室具有进气口和出气口，离子体发生器包括呈空腔的本体部，本体部具有上部和下部，上部和下部相对设置且均设有若干镂空部；安装部伸入所述真空腔室内以供等离子体发生器进行安装；脉冲偏压电源的正极与真空腔室电连接形成阳极，脉冲偏压电源的负极与等离子体发生器电连接。该等离子体增强清洗装置能形成伞状辉光等离子体，增强上下轰击，提高对异型治具、大钻、PCB特刀、深刀槽刀具等产品的清洁能力，可进行横向和纵向的深度辉光清洗，整体提升产品各个面的清洗和活化效果。
一种等离子体增强清洗装置方法

[实用新型]一种等离子发生器-CN201620483658.7有效
发明人：汪伟;万先凯;陈雪明 -专利权人：杭州西堡环境科技有限公司
申请日： 2016-05-24 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子发生器，包括供气体通过的壳体，产生等离子体的等离子发生模块和向壳体内喷射等离子体的等离子喷射模块，壳体内设置有对气体的流动方向进行扰动的扰流装置，本实用新型通过在等离子发生器中设置扰流板以延长废气与等离子体的结合时间，使废气中的NO_X或SO_X气体分子与等离子体结合的充分，便于后续的脱硫脱硝操作，使得脱硫脱硝更加彻底，提高脱硫脱硝的效率。
一种等离子发生器

[发明专利]中子屏蔽复合材料坯料热压烧结用等离子放电热压烧结炉-CN202210126639.9在审
发明人：梅龙伟 -专利权人：禾材高科（苏州）有限公司
申请日： 2022-02-10 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： F27B17/00 文献下载
摘要：本发明提供了中子屏蔽复合材料坯料热压烧结用等离子放电热压烧结炉，包括烧结炉本体、设置于烧结炉本体内部的加热装置；加热装置包括至少三个等离子体发生器，每个等离子体发生器包括低电压电路模块和升压电路模块；升压电路模块呈梯队升压，对升压电路模块所在等离子体发生器构建时间次序约束；低电压电路模块与升压电路模块连接，低电压电路模块配合升压电路模块按照预设升压方式升至正高压或负高压，升压电路模块实时匹配至少一个等离子体发生器的带电粒子密度本发明选择梯队升压方式升压，并对等离子体发生器设计时间次序约束，确保烧结炉本体的坯料成型腔温度满足中子屏蔽复合材料坯料所需的温度曲线。
中子屏蔽复合材料坯料热压烧结等离子放电烧结炉

[发明专利]利用大气压放电冷等离子体提高酶的活性的方法-CN200910237616.X有效
发明人：李和平;王立言;李果;邢新会;乐沛思;包成玉;冯权 -专利权人：清华大学;北京思清源生物科技有限公司
申请日： 2009-11-13 - 公布日： 2010-05-05 - 主分类号： C12N9/20 文献下载
摘要：利用大气压放电的冷等离子体发生器提高酶的活性的方法，属于冷等离子体技术应用领域，其特征在于，依次含有以下步骤：制备酶溶液、选择大气压放电的冷等离子体发生器的种类并设定工作参数，用大气压放电的冷等离子体处理所述酶溶液
利用大气压放电等离子体提高活性方法

[发明专利]用于产生等离子体的包括等离子体点火单元的装置-CN202280013258.8在审
发明人：路易斯·拉特拉斯;法迪·祖比安;尼古拉斯·雷诺 -专利权人：塞勒姆电子与微波工业应用研究公司
申请日： 2022-02-03 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：一种用于产生等离子体的装置，其被配置为从反应气体产生等离子体，其中，用于产生等离子体的装置包括微波发生器(10)，所述微波发生器在微波频率范围内的给定源频率下操作，和波导管(12)，所述波导管联接到微波发生器该装置还包括沿着延伸轴线(60)纵向延伸的介电管(14)，该介电管(14)被配置为接收等离子体，使得介电管(14)从波导管(12)的一侧穿过到另一侧；以及反应气体注入单元，其用于将反应气体供给到介电管(最后，用于产生等离子体的装置进一步包括等离子体点火单元。
用于产生等离子体包括点火单元装置

[实用新型]一种用于果汁的膜状连续化低温等离子体冷杀菌装置-CN201721903408.5有效
发明人：高振鹏;岳田利;吴霞;孟掉琴 -专利权人：西北农林科技大学
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： A23L2/50 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于果汁的膜状连续化低温等离子体冷杀菌装置，包括相互连通的等离子体发生器(1)和罐体(3)，罐体(3)内设置膜化组件(34)，等离子体发生器(1)为罐体(3)的杀菌提供等离子体，罐体(3)内的膜化组件(34)将待杀菌液体成膜后进行等离子体杀菌。通过上述技术方案，果汁在处理过程中处于连续膜状流动状态，保证连续膜状流动的果汁充分的与低温等离子体发生器产生的活性自由基接触，因此可以充分地杀灭连续膜状流动果汁中的微生物。
果汁连续膜罐体等离子体发生器低温等离子体冷杀菌装置连续化膜化膜状流动低温等离子体发生器等离子体等离子体杀菌活性自由基流动状态杀菌液体营养物质成膜杀菌微生物连通保证

[实用新型]一种连续式生鲜农产品等离子体保鲜设备-CN202020445983.0有效
发明人：徐良;王红卫;刘鑫培 -专利权人：苏州丰源宝农业科技有限公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： A23L3/26 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种连续式生鲜农产品等离子体保鲜设备，包括机架、传送组件、等离子体发生器、机罩；所述等离子体发生器为管状DBD放电结构，所述等离子体发生器呈矩阵式分布在所述传送组件上方；所述机罩两端分别设置有进料口和出料口，所述机罩、传送组件均设置在所述机架上方；本实用新型解决了现有技术中等离子体处理多为集中处理的方式，处理效率低，人工成本高等缺陷，本实用新型采用管状DBD放电结构，对生鲜农产品进行连续式等离子体处理，提高处理效率
一种连续生鲜农产品等离子体保鲜设备

[发明专利]在感应耦合等离子体处理室内以低偏压产生近衬底补充等离子体密度-CN201780088506.4在审
发明人：谭忠魁;张依婷;符谦;徐晴;吴垠;萨拉瓦纳普里亚·西里拉曼;亚历克斯·帕特森 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-10-20 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：衬底定位于电感耦合等离子体处理室的等离子体处理容积空间内的衬底支撑结构上。从第一射频信号发生器向设置在等离子体处理容积空间外部的线圈提供第一射频信号，以产生暴露于衬底的等离子体。从第二射频信号发生器向衬底支撑结构内的电极提供第二射频信号。第一和第二射频信号发生器被彼此独立地控制。第二射频信号的频率大于或等于约27兆赫兹。第二射频信号在等离子体处理容积空间内的衬底的水平处产生补充等离子体密度，同时在衬底的水平处产生小于约200伏的偏压。
射频信号射频信号发生器等离子体处理容积空间衬底等离子体衬底支撑水平处电感耦合等离子体彼此独立衬底定位电极暴露外部补充