专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发光单元和光照射型美容装置-CN202180071595.8在审
  • 金子翔太 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2021-09-30 - 2023-06-30 - A61N5/06
  • 发光单元(30)具备:第一光源部(32),其具有规定的波长谱;第二光源部(33),其具有与第一光源部(32)的波长谱不同的波长谱;以及出射口(31),在使第一光源部(32)和第二光源部(33)分别辐射出电磁波的情况下,从第一光源部(32)辐射的电磁波的至少一部分和从第二光源部(33)辐射的电磁波的至少一部分经由所述出射口(31)被射出。而且,第一光源部(32)配置于抑制与从第二光源部(33)辐射的电磁波之间的干扰的位置,第二光源部(33)配置于抑制与从第一光源部(32)辐射的电磁波之间的干扰的位置。
  • 发光单元照射美容装置
  • [发明专利]光美容装置-CN202180008368.0在审
  • 平山弓月;立田茂;金子翔太 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2021-01-29 - 2022-08-30 - A61N5/06
  • 本公开所涉及的光美容装置具备光源和控制部。光源输出向对象部位照射的照射光。控制部控制光源的输出、光源的占空比以及光源的点亮频率。光源的峰值波长包含在600nm~980nm的范围内。光源的光谱半值宽度包含在20nm~80nm的范围内。控制部控制光源,使得:光源的输出包含在30mW/cm2~100mW/cm2的范围内,光源的占空比包含在20%~80%的范围内,以及光源的点亮频率包含在0.1kHz~30kHz的范围内。
  • 美容装置
  • [发明专利]监视系统-CN202011180793.1在审
  • 金子翔太;大野繁实;相良典秀 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-10-29 - 2021-05-11 - H01L21/00
  • 本发明提供监视用壳体将基片处理装置密闭、将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统,其包括:将上述壳体与上述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器;和控制装置,其基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置或上述密闭装置输出控制信号,或者输出基于上述检测结果的通知信号。本发明用壳体将基片处理装置密闭,来提高用规定的气体气氛充满密闭的空间的密闭装置的安全性。
  • 监视系统

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