专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]有机电致发光显示装置-CN201010113444.8有效
  • 森裕行;细田英正;疋田政宪 - 富士胶片株式会社
  • 2010-02-03 - 2010-08-11 - H01L27/32
  • 本发明提供一种有机电致发光显示装置,其包括:有机电致发光元件,所述有机电致发光元件包括透明电极、对电极和被安置在所述透明电极和所述对电极之间的有机化合物层,所述有机化合物层包括发光层;和含细粒层,所述含细粒层被布置在从所述发光层发射的光的光程上并且与所述透明电极相邻,其中所述含细粒层含有有机树脂材料和细粒,所述有机树脂材料的折射率等于或低于所述透明电极的折射率,所述细粒的折射率高于所述有机树脂材料的折射率并且重量平均粒径为0.5μm至5μm,并且所述含细粒层的厚度为
  • 有机电致发光显示装置
  • [发明专利]一种制作微透镜阵列的方法-CN200810222332.9有效
  • 董立军 - 中国科学院微电子研究所
  • 2008-09-17 - 2010-03-24 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种制作微透镜阵列的方法,该方法包括:在透明衬底上匀一层光刻胶;对该光刻胶层进行曝光显影,形成方形的光刻胶块;熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温,形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜;从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入,在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料,其中一层材料具有微透镜形状;去除透明衬底上的光刻胶掩膜,形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。
  • 一种制作透镜阵列方法
  • [发明专利]TFT-LCD阵列基板和彩膜基板及其制造方法-CN200810102786.2有效
  • 张弥 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2008-03-26 - 2009-09-30 - G02F1/1362
  • 阵列基板包括形成在基板上的栅线、公共电极线、数据线、形成在所述栅线和数据线交叉处的TFT和位于像素区域内的像素电极,所述公共电极线之上设置有暴露出所述公共电极线的第二钝化层过孔和像素电极过孔,用于与彩膜基板上的透明电极电连接彩膜基板包括形成在基板上的黑矩阵、彩色树脂、柱状隔垫物和透明电极,所述柱状隔垫物设置在与阵列基板上第二钝化层过孔相对应的位置上,且覆盖有所述透明电极。本发明改变了彩膜基板上透明电极与阵列基板上公共电极的电连接方式,提高TFT-LCD的显示品质。
  • tftlcd阵列彩膜基板及其制造方法

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