专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种离子的生产工艺-CN202110858915.6在审
  • 高昌胜 - 硒养生命医学研究(山西)有限公司
  • 2021-07-28 - 2021-12-10 - C05F11/00
  • 本发明公开了一种离子的生产工艺,涉及离子生产技术领域,包括有含土壤,所述工艺包括以下主要步骤:含土壤的测定、含土壤的挖取、含土壤的加工及离子的生成。该离子的生产工艺,通过对含土壤中的物进行微生物菌落分解操作,散发出气态烷基物,使得气态烷基物能够与化学试剂之间进行充分反应,产生离子,整个过程处于密闭空间进行,有效保证离子在生产过程中,避免其因密闭性不足,造成氧化现象,出现亚酸盐或酸盐,难以被植物吸收,需要进行再次提纯的现象。
  • 一种离子生产工艺
  • [发明专利]一种亚锡纳米片中空位缺陷的修复方法-CN202010686441.7有效
  • 李煜;郑博方;张晗;李峰 - 深圳大学
  • 2020-07-16 - 2022-06-14 - C01B19/04
  • 本发明涉及一种亚锡纳米片中空位缺陷的修复方法,其包括步骤:提供具有空位缺陷的亚锡纳米片以及粉;将所述具有空位缺陷的亚锡纳米片置于双温区管式炉的载气下游的加热段中,同时,将所述粉置于所述双温区管式炉的载气上游的加热段中对所述双温区管式炉的载气上游的加热段进行加热,使所述载气上游的加热段的温度达到第一预设阀值,其后,对所述双温区管式炉的载气下游的加热段进行加热,使所述载气下游的加热段的温度达到第二预设阀值,并进行保温处理,即得到空位缺陷修复后的亚锡纳米片本发明通过对亚锡纳米片中的空位缺陷进行修复,有效提高了亚锡纳米片的电导率。
  • 一种硒化亚锡纳米片中空位缺陷修复方法
  • [发明专利]一种锗靶材及其制备方法-CN201910610004.4有效
  • 文崇斌;余芳;朱刘;童培云;谢小林 - 先导薄膜材料(广东)有限公司
  • 2019-07-08 - 2022-07-01 - C04B35/547
  • 本发明涉及光电材料生产技术领域,尤其涉及一种锗靶材及其制备方法。所述制备方法包括:A)加热锗块至980~1050℃,保温后,得到锗液;B)加热块至230~250℃,保温后,块熔化,并滴入所述锗液中,得到混合熔炼液;C)将所述混合熔炼液在980~1050℃下加热30~60min,冷却后,得到锗合金;D)将所述锗合金进行球磨,得到的锗粉末经真空热压烧结,得到锗靶材;步骤A)、B)和C)在真空的条件下进行。本发明采用真空滴落法制备锗合金,再通过球磨得到锗粉体,然后运用真空热压法制备得到锗靶材,制备出的锗靶材致密度较高,与理论含量相差较小。
  • 一种硒化锗靶材及其制备方法
  • [发明专利]镉量子点和纳米多孔碳复合材料及其制备方法-CN201710202017.9有效
  • 李亚丰;杭云海 - 长春工业大学
  • 2017-03-30 - 2019-03-29 - H01L31/028
  • 本发明提供一种镉量子点和纳米多孔碳复合材料及其制备方法。所述镉量子点和纳米多孔碳复合材料由镉量子点和纳米多孔碳复合形成,所述镉量子点原位生长于所述纳米多孔碳的表面,所述纳米多孔碳通过在惰性气体保护下煅烧沸石咪唑酯类配位聚合物得到。本发明的纳米多孔碳具有比表面积大、孔道均匀、孔道尺寸大的优点,在与镉量子点形成复合材料时可提高镉量子点的分散度,控制镉量子点的晶粒尺寸,减少小尺寸的镉量子点的生成,使复合材料的光催化效率以及寿命得到明显改善
  • 硒化镉量子纳米多孔复合材料及其制备方法
  • [发明专利]一种二钯的制备方法-CN202210703529.4有效
  • 逄金波;李玉芬;孙德辉;周伟家;刘宏 - 济南大学
  • 2022-06-21 - 2023-06-30 - C23C14/16
  • 本发明公开了一种二钯的制备方法,包括以下步骤:(1)在基底表面进行钯金属镀膜,得到基底/钯薄膜;(2)在基底/钯薄膜的表面旋涂含分散液,干燥后在保护气氛中,利用等离子体辅助热退火制备得到二钯薄膜所述制备方法还包括:将步骤(2)得到的二钯薄膜转移至目标基底的步骤。本发明利用钯薄膜蒸镀‑分子涂覆‑加热反应制备二钯薄膜的方法,不但钯金属膜与分子膜固相反应制备方法简单直接、生长速率快,而且利用了钯薄膜前驱体的完整涂覆特点,可以得到完整的二钯薄膜,可获取晶圆级二钯的规模化生产
  • 一种二硒化钯制备方法

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