专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种适用于管式PECVD的石墨缓存上料机构-CN202021239616.1有效
  • 周玉龙;刘景博;王玉明 - 苏州拓升智能装备有限公司
  • 2020-06-30 - 2021-04-02 - H01L21/677
  • 本实用新型公开了一种适用于管式PECVD的石墨缓存上料机构,包括:传送线;以及设于所述传送线上的石墨缓存组件,所述石墨缓存组件包括:缓存底板,其与所述传送线滑动连接;以及至少三片缓存支撑板,其在底板与所述缓存底板相固接;其中,所述缓存支撑板的侧边敞开形成有缓存让位口以使得所述缓存支撑板呈C字形结构;两两所述缓存支撑板等距间隔设置以形成位于相邻两片所述缓存支撑板之间的石墨缓存空间。根据本实用新型,其在传送线上设置至少两个石墨缓存空间来提高石墨缓存上料机构缓存上料多个石墨的能力,从而通过多个普通石墨的配合使用来避免由于延长石墨跨度而导致的石墨强度可靠性降低的问题。
  • 一种适用于pecvd石墨缓存机构
  • [实用新型]一种石墨移动装置及石墨清洗装置-CN202121290987.7有效
  • 王辉;吴章平;崔水炜;杨标;万肇勇 - 苏州昊建自动化系统有限公司
  • 2021-06-09 - 2021-11-30 - B08B3/10
  • 一种石墨移动装置及石墨清洗装置,属于清洁设备技术领域。包括门式机架本体;升降机构,设置于门式机架本体;拾取部,与升降机构相连,并受升降机构驱动地沿门式机架本体的竖直方向移动;料台,为镂空结构的筐体,与拾取部可拆卸地相连,且料台用于容置石墨。本实用新型在门式机架本体设置升降机构以带动容置石墨的料台移动,进而带动石墨进入清洗液,或者将石墨从清洗液中取出,从而避免清洗液对人工造成损伤,并提升工作效率;同时,本实用新型设置料台容置石墨,并托持石墨进行移动,能够避免夹具的夹持力对石墨造成变形或者损伤,从而保证石墨在移动过程中的安全性。
  • 一种石墨移动装置清洗
  • [实用新型]一种石墨用陶瓷环及石墨-CN202122280335.1有效
  • 刘赖生;邢国强;姚骞;吴伟梁 - 通威太阳能(眉山)有限公司
  • 2021-09-18 - 2022-03-18 - C23C16/458
  • 本申请提供一种石墨用陶瓷环及石墨,陶瓷环包括陶瓷环本体,陶瓷环本体的外壁设置有沿其周向且朝其内壁凹陷的环状凹槽;石墨包括多根陶瓷固定柱、多个石墨页以及多个陶瓷环,每个石墨页上设置有固定通孔,陶瓷固定柱穿过每个石墨页的固定通孔以固定多个石墨页,陶瓷环套设于陶瓷固定柱上以支撑隔离相邻两个石墨页。环状凹槽降低非晶硅在其内部沉积的概率,减少沉积在陶瓷环表面的非晶硅的量,并将陶瓷环本体周壁沉积的非晶硅层隔断,避免陶瓷环本体周壁沉积沿其轴向连续的非晶硅,进而降低相邻两片石墨页导通、短路的概率,降低石墨页损坏的风险
  • 一种石墨陶瓷
  • [发明专利]一种可调节厚度和间距的石墨-CN201710690122.1有效
  • 刘文国;苏世杰;李强强;张玉前;周守亮 - 通威太阳能(安徽)有限公司
  • 2017-08-14 - 2019-02-15 - C23C16/458
  • 本发明公开了一种可调节厚度和间距的石墨,包括若干平行设置的石墨页以及若干垂直插设于石墨页中的石墨棒,每两片石墨页之间均设置有调节装置;所述调节装置包括依次间隔设置的陶瓷套和石墨片,且陶瓷套和石墨片之间通过连接块固定本发明在每两片石墨页之间增加了调节装置,并且配合着可以活动插接于陶瓷套内的陶瓷管,可以非常简便的对石墨页的厚度以及石墨页之间的间距进行调整,以方便对石墨页片数进行增加或者减少的调节,操作简单,可以节约大量调节时间,而且不需要更换不同厚度的石墨页,大大节约了材料,非常有效。
  • 一种调节厚度间距石墨
  • [实用新型]一种可调节厚度和间距的石墨-CN201721009222.5有效
  • 刘文国;苏世杰;李强强;张玉前;周守亮 - 通威太阳能(安徽)有限公司
  • 2017-08-14 - 2018-02-02 - C23C16/458
  • 本实用新型公开了一种可调节厚度和间距的石墨,包括若干平行设置的石墨页以及若干垂直插设于石墨页中的石墨棒,每两片石墨页之间均设置有调节装置;所述调节装置包括依次间隔设置的陶瓷套和石墨片,且陶瓷套和石墨片之间通过连接块固定本实用新型在每两片石墨页之间增加了调节装置,并且配合着可以活动插接于陶瓷套内的陶瓷管,可以非常简便的对石墨页的厚度以及石墨页之间的间距进行调整,以方便对石墨页片数进行增加或者减少的调节,操作简单,可以节约大量调节时间,而且不需要更换不同厚度的石墨页,大大节约了材料,非常有效。
  • 一种调节厚度间距石墨
  • [发明专利]一种双料盘自动校正石墨卡点装卸机-CN202310511270.8在审
  • 蒋祥 - 昆山集晨智能装备有限公司
  • 2023-05-08 - 2023-08-08 - B23P19/00
  • 本发明公开了一种双料盘自动校正石墨卡点装卸机,涉及装卸机技术领域,该双料盘自动校正石墨卡点装卸机,包括壳体,所述壳体分为上腔和下腔,壳体上腔的内壁开设有两个片槽,两个片槽的内壁均开设有卡点槽,卡点槽将壳体的上腔和下腔连通通过校准机构的设置,在对石墨片上的卡点进行更换时,能够将石墨片压制在片槽中,从而达到对石墨片进行定位的目的,保证了所有卡点的安装精度一致,从而避免了在对石墨片上的卡点进行更换时,石墨片发生偏移,从而提高石墨片碎片率的情况,进而提高了石墨片卡点装卸的成功率,提高了石墨片的成品率,提高了装置的使用效果。
  • 一种双料自动校正石墨装卸
  • [实用新型]一种石墨自动拍装置-CN201922373307.7有效
  • 李健 - 浙江鸿禧能源股份有限公司
  • 2019-12-25 - 2020-10-13 - C23C16/458
  • 本实用新型公开了一种石墨自动拍装置,所述石墨通过托板轨道在插片机和镀膜主机台之间移动运输,所述自动拍装置包括有设置在托板轨道旁的支架、固定在支架上的气缸、安装在气缸的活塞杆上的拍垫,所述气缸的活塞杆竖直朝下,拍垫位于托板轨道正上方,所述支架上安装有感应器,感应器用于感应拍垫下方的托板轨道上是否有石墨,感应器连接有控制器,控制器控制气缸工作。本实用新型的石墨自动拍装置,对在线运输的石墨进行拍打,不用停机人工操作排,对产能没影响,节约人力成本,拍效果更好,排过程更加安全。
  • 一种石墨自动装置
  • [实用新型]一种便于操作的石墨卡点自动装卸机-CN202320762408.7有效
  • 蒋祥 - 昆山集晨智能装备有限公司
  • 2023-04-10 - 2023-06-27 - B25B27/14
  • 本实用新型公开了一种便于操作的石墨卡点自动装卸机,涉及装卸机技术领域,该便于操作的石墨卡点自动装卸机,包括装卸机,所述装卸机的内壁固定连接有呈L形的放置板,放置板的表面放置有石墨片,石墨片的表面设置有卡点通过夹持机构的设置,能够对石墨片进行两个夹持定位,保证了石墨片在放置板上始终位于同一位置,避免了工作人员在对石墨片进行摆放时,需要来回挪动石墨片的位置,才能将石墨片摆放到准确位置的情况,方便了工作人员对石墨片的安放,提高了对石墨片上卡点的更换效率。
  • 一种便于操作石墨自动装卸
  • [实用新型]用于PECVD设备的石墨及PECVD设备-CN202220193563.7有效
  • 李时俊;杨宝立;王凯;林金雨 - 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
  • 2022-01-21 - 2022-07-22 - C23C16/458
  • 本实用新型公开了一种用于PECVD设备的石墨及PECVD设备,用于PECVD设备的石墨包括:炉口石墨组,炉口石墨组左边的前端上下分别设有第一炉口电极和第二炉口电极,炉口石墨组左边的后端上下分别设有第三炉口电极和第四炉口电极,炉口石墨组的右边上下分别设有第五炉口电极和第六炉口电极,炉口石墨组右边的后端上下分别第七炉口电极和第八炉口电极;第四炉口电极和第六炉口电极输入正电极电流,第二炉口电极和第八炉口电极输入负电极电流;炉尾石墨组,炉尾石墨组连接于炉口石墨组;绝缘组件,绝缘组件设置于炉口石墨组的中间。
  • 用于pecvd设备石墨
  • [发明专利]优化石墨饱和效果的方法-CN202111214807.1在审
  • 程平;朱露;张凯胜;孙铁囤 - 常州亿晶光电科技有限公司
  • 2021-10-19 - 2022-01-28 - C23C16/505
  • 本发明涉及石墨技术领域,尤其是涉及一种优化石墨饱和效果的方法,包括以下步骤:a、去除旧石墨上氮化硅;b、水洗;c、烘干;d、进饱和炉管预热;f、抽空除残酸和水蒸气;g、重复步骤d、f两次,将预热时间改为5min;h、氮化硅高密度沉积;i、残留氮化硅吸附;j、氮化硅均匀性层;k、碳化硅保护步;l、氮化硅外层修饰硅步:m、抽真空;n、出。本发明提供的一种优化石墨饱和效果的方法,充分利用了石墨材料分子内空间较大性质;通过过量反应保证石墨有较好均匀性;增加石墨的膜厚均匀性;在里层增加了碳化硅在工艺射频时候充分保护了石墨,增加了石墨的使用寿命
  • 优化石墨饱和效果方法

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