“真空磁控溅射设备”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5908970个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种流水线型CdTe薄膜太阳能电池制备设备-CN200920074277.3有效
发明人：赖建明;张根发;苏青峰;刘红梅;冯世军;韩新江;杨文平;胡之骥 -专利权人：上海联孚新能源科技有限公司
申请日： 2009-07-16 - 公布日： 2010-05-12 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种流水线型CdTe薄膜太阳能电池制备设备，包括一可对所述制备设备进行控制的主机机柜、一设置在主机机柜上的近空间升华炉及一磁控溅射仪；所述磁控溅射仪顶部设有旋转加热样品台，所述近空间升华炉下方设有红外加热器，上方设有升降加热样品台，所述近空间升华炉与磁控溅射仪通过插板阀连接，一磁力机械手贯穿于近空间升华炉与磁控溅射仪中。该设备能在真空闭锁调节下完成所有制备太阳能电池的工序，具有效率高，自动化程度高、没有中间污染环节等特点。
一种流水线型 cdte 薄膜太阳能电池制备设备

[发明专利]一种氮化钛薄膜的制作方法-CN202310187145.6在审
发明人：刘井坤;管鹏飞;周鹏程;王斌 -专利权人：江苏富乐华功率半导体研究院有限公司
申请日： 2023-03-02 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种氮化钛薄膜的制作方法，涉及磁控溅射领域，旨在解决在陶瓷基板上制备氮化钛薄膜的技术问题，其技术方案要点是：将陶瓷基板放入磁控溅射镀膜机的真空室内，打开磁控溅射镀膜机的机械泵→分子泵→罗茨泵，对真空室进行抽真空，并进行加热；通入氩气将真空室调至启辉压力5.0×10‑1Pa左右，待钛靶启辉后通入氮气做反应气体，通过调整氩气注入量将真空室的压力从5.0×10‑1Pa左右梯度调至镀膜压力2.0×10‑1Pa左右，将磁控溅射电源功率调至11～13KW；然后关闭磁控溅射镀膜机罗茨泵→分子泵→机械泵，待压力平衡后、真空室温度降至100℃以下将基板取出。
一种氮化薄膜制作方法

[实用新型]一种真空磁控溅射平面阴极体的绝缘结构-CN201920977613.9有效
发明人：吴壮;解孝辉;俞亚军;张青涛 -专利权人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2020-03-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空磁控溅射平面阴极体的绝缘结构，应用于真空磁控溅射设备，真空磁控溅射设备至少包括盖板、平面阴极体、夹在盖板与平面阴极体之间的绝缘垫，盖板与平面阴极体之间还设置有用于冷却平面阴极体的进水管和出水管，进水管和出水管都套设有第一绝缘套，第一绝缘套包括连接在盖板上的第一保护套、以及连接在平面阴极体上的第二保护套，第一保护套和第二保护套都为管形且轴侧端部相抵触，真空磁控溅射平面阴极体的绝缘结构还包括第二绝缘套
一种真空磁控溅射平面阴极绝缘结构

[发明专利]非晶态钨薄膜的制备方法-CN201110121213.6无效
发明人：王雯;张勇;刘方舒;朱开贵 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2011-05-11 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射法制备非晶态钨薄膜的方法，包括以下步骤：(1)靶材选取，选取99.95％的块状钨作为磁控溅射的靶材，将把才放入磁控溅射室；(2)衬底处理，对衬底依次用丙酮、酒精和去离子水超声清洗后放入磁控溅射室；(3)制备非晶态钨薄膜，磁控溅射室的真空度小于等于2×10-5Pa，工作气体是氩气，调节溅射气压、溅射电流、溅射时间和靶材到衬底的距离，经过一顶时间溅射制备薄膜。
晶态薄膜制备方法

[发明专利]一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法-CN201811036489.2有效
发明人：牛云松;朱圣龙;王福会;陈明辉 -专利权人：中国科学院金属研究所;东北大学
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α‑Ta涂层的方法，属于磁控溅射镀膜技术领域。该设备以管件的大长径比腔体作为真空腔体，大长径比腔体的一端通过真空端转接头连接真空机组，大长径比腔体的另一端通过靶材转接头连接圆柱磁控靶；所述圆柱磁控靶设于大长径比腔体之内。在调整磁控溅射参数后，使得管内壁表面处于辉光放电的负辉区内。本发明能够沉积100％的α‑Ta涂层，其抗烧蚀性能显著优于常规的电镀铬涂层，以替代现阶段大批量使用的严重污染环境的镀铬工艺。本发明设备和方法用于大长径比管件内腔的防护涂层制备。
一种长径管件内腔磁控溅射设备制备 ta 涂层方法

[发明专利]一种垂直磁记录材料的制备方法-CN201210247115.1有效
发明人：王建军;刘春明 -专利权人：东北大学
申请日： 2012-07-17 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： G11B5/851 文献下载
摘要：首先选取MgO（111）单晶作为基板，将经充分清洁后的MgO（111）基板放至磁控溅射设备的真空腔内，然后向磁控溅射设备的真空腔内充入氩气，调整氩气流量，得到以RuCr作为下底层的MgO(111)单晶基板；在CoW复合靶材上粘贴纯Pt金属片，制成CoWPt复合靶材，然后将溅射得到的以RuCr作为下底层的MgO(111)单晶基板移至CoWPt复合靶材处，在磁控溅射设备中通入氩气，得到最终产品CoWPt/RuCr
一种垂直记录材料制备方法

[发明专利]一种单斜相二氧化钒薄膜及制备方法-CN202111068660.X有效
发明人：平依瑶;顾德恩;周鑫;王涛;高靖 -专利权人：电子科技大学
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供一种单斜相二氧化钒薄膜及制备方法，包括步骤：(1)预先通过反应磁控溅射在基片上沉积非晶氧化钒薄膜；(2)再次利用反应磁控溅射在步骤(1)的非晶氧化钒薄膜上沉积氧化铪薄膜得到双层薄膜；(3)将步骤本发明的反应磁控溅射法，易于通过现有的溅射设备实现，对设备工艺要求不高。本发明的快速退火过程，不需要提供真空以及其他气氛环境，直接在空气气氛中快速退火，相比传统的真空纯种气氛环境退火，本发明的退火方式可以节约大量时间以及设备使用成本。
一种单斜氧化薄膜制备方法

[实用新型]无张力磁控溅射镀膜室及织物镀膜装置-CN201822259912.7有效
发明人：余荣沾;王忠雨;刘琼溪;张欣;石慧 -专利权人：广东欣丰科技有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种无张力磁控溅射镀膜室及织物镀膜装置。该无张力磁控溅射镀膜室，包括真空腔体，真空腔体中设有镀膜辊和水平隔板；水平隔板将真空腔体分成传送室和溅射室；传送室中设有多个第一导辊；溅射室中设有多个溅射源，多个溅射源沿镀膜辊周向设置，相邻的溅射源之间设有一组第二导辊；第二导辊与镀膜辊之间具有供织物通过的间隙，且每组第二导辊中，相邻的第二导辊之间具有供织物通过的间隙；驱动设备驱动镀膜辊、第一导辊和第二导辊转动，以将织物由织物入口运送至织物出口。本实用新型提供的无张力磁控溅射镀膜室，能够增大织物与导辊之间的接触面积以及摩擦力，避免织物在导辊的拉扯下发生变形，提高着色质量。
导辊镀膜辊磁控溅射镀膜真空腔体溅射源本实用新型水平隔板传送室溅射室镀膜装置驱动设备织物出口织物入口周向设置拉扯着色转动变形运送驱动

[发明专利]一种可翻转的磁控溅射镀膜机-CN202310688543.6在审
发明人：贾纪;袁磊;寇洋 -专利权人：齐鲁中科光物理与工程技术研究院
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及磁控溅射设备技术领域，尤其公开了一种可翻转的磁控溅射镀膜机，包括底座，所述底座中部设有真空腔体，底座的顶部耳座，所述耳座位于真空腔体的两侧，所述耳座内设有转轴，所述真空腔体通过转轴可相对底座在竖直平面内旋转，所述真空腔体的两端设有连接口，所述连接口处转动连接有用于封堵连接口的密封板，真空腔体的一端设有真空泵装置，真空泵装置通过定制法兰与连接口连通，真空腔体底部安装有溅射靶枪，与传统技术相比，本技术方案实现了多方向溅射
一种翻转磁控溅射镀膜

[发明专利]一种全遮挡屏蔽式氧化钒磁控溅射方法及其设备-CN202111205635.1在审
发明人：王世宽;宋永辉;史鹏 -专利权人：无锡尚积半导体科技有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种全遮挡屏蔽式氧化钒磁控溅射方法及其设备，针对的问题，提供了以下技术方案，设备包括密封腔体，用于抽取真空，作为进行磁控溅射的环境；载片台，设置于密封腔体内；遮挡屏蔽件，设置于载片台和磁控溅射组件之间；移动部，与遮挡屏蔽件固定连接；控制器，与移动部电性连接；电压传感器，与磁控溅射组件和控制器电性连接。方法包括电压传感器检测磁控溅射组件的溅射电压，当溅射电压与设定电压一致时，电压传感器发送电信号至控制器，由控制器控制移动部带动遮挡屏蔽件移动，遮挡射向基片的靶材物质；当溅射电压与设定电压一致时，取消遮挡射向基片的靶材物质
一种遮挡屏蔽氧化磁控溅射方法及其设备

[发明专利]一种用磁控溅射-等离子体制作防水防油防静电涤纶针刺毡的方法-CN201810957695.0在审
发明人：袁超 -专利权人：安徽利思达网业有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： D06M11/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种用磁控溅射‑等离子体制作防水防油防静电涤纶针刺毡的方法，向纳米氧化锡锑分散液中加入粘合剂聚丙烯酸酯，制成整理液，将其水浴加热，放入前处理过的涤纶针刺毡，振荡后，二浸二轧，预烘，再焙烘，得到抗静电整理的涤纶针刺毡；使用高真空多功能磁控溅射设备，采用射频源磁控溅射法，将真空室抽至真空后通入氩气，预溅射后，将所得抗静电整理的涤纶针刺毡固定在样品架上，然后旋转，在涤纶针刺毡上进行磁控溅射聚四氟乙烯，得到防水防油抗静电的涤纶针刺毡
涤纶针刺毡防油防水磁控溅射等离子体抗静电整理防静电抗静电放入等离子处理区域多功能磁控溅射常压等离子体纳米氧化锡锑磁控溅射法聚丙烯酸酯聚四氟乙烯处理装置涤纶织物二浸二轧分散液中水浴加热粘合剂氩气高真空前处理射频源样品架预溅射真空室整理液振荡焙烘预烘制作车速

[发明专利]一种磁控溅射镀膜系统-CN201210502288.3无效
发明人：李惠 -专利权人：上海子创镀膜技术有限公司
申请日： 2012-11-30 - 公布日： 2013-02-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及到一种镀膜系统，尤其涉及到一种可连续生产的镀膜系统，采用的技术方案是，包括：磁控溅射镀膜生产室，设置在磁控溅射镀膜生产室前端的放卷室，设置在磁控溅射镀膜生产室后端的收卷室，设置在放卷室和生产室之间的放卷室多级狭缝抽气段，设置在收卷室和生产室之间的收卷室多级狭缝抽气段，其中，磁控溅射镀膜生产室与真空抽气机组相连，真空抽气机组被用来抽取磁控溅射镀膜生产室的空气，放卷室内还设有换卷机构，本系统的优点磁控溅射镀膜生产室与大气层的压差可达到
一种磁控溅射镀膜系统

[发明专利]通过溅射舱内轴瓦溅前负偏压清洗的PVD轴瓦磁控溅射工艺-CN200710093216.7有效
发明人：冀庆康;吴文俊;张永红 -专利权人：重庆跃进机械厂
申请日： 2007-12-27 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种通过溅射舱内轴瓦溅前负偏压清洗的PVD轴瓦磁控溅射工艺，包括溅前处理、轴瓦装入夹具、抽真空、溅射镍栅层(Ni)、溅射铝合金减摩层(AlSnCu)、检查尺寸及外观，其关键在于：在所述溅射舱抽真空后、轴瓦溅前负偏压清洗，该轴瓦溅前负偏压清洗与PVD轴瓦基体溅射镍栅层(Ni)之间增设磁控溅射第一扩散层；所述溅射镍栅层(Ni)之后，溅射铝合金减摩层(AlSnCu)之前先磁控溅射增设第二扩散层；本发明对PVD轴瓦内表面的进行负偏压清洗，提高PVD轴瓦溅射膜层与基体之间的附着强度。在溅射层与基体以及溅射层与溅射层之间通过磁控溅射扩散层的方法，通过扩散层的金属健结构和机械互锁结构，提高溅射层与基体以及溅射层与溅射层之间附着强度。
通过溅射轴瓦溅前负偏压清洗 pvd 磁控溅射工艺

[发明专利]对向靶磁控溅射制备三氧化钨薄膜气敏传感器的方法-CN200610014902.6无效
发明人：胡明;冯有才;尹英哲;张之圣;刘志刚 -专利权人：天津大学
申请日： 2006-07-25 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种对向靶磁控溅射制备三氧化钨薄膜气敏传感器的方法，属于气敏传感器技术。其制备过程包括：对单晶硅片依次在浓硫酸、去离子水、丙酮、乙醇中清洗；对Al₂O₃基片依次在丙酮、乙醇、去离子水中清洗；在超高真空对靶磁控溅射设备中，采用铂为靶材，在氩气为工作气体，用对向靶磁控溅射法在基片上制备叉指铂电极；之后在超高真空对靶磁控溅射设备中，采用钨为靶材，在氩气和氧气为工作气体，用对向靶磁控溅射法在有叉指铂电极的基片上制备三氧化钨薄膜；制备所得三氧化钨薄膜在空气中进行热处理
磁控溅射制备氧化钨薄膜传感器方法

[实用新型]一种三靶磁控溅射镀膜机-CN200620001875.4无效
发明人：韩成明;王群伟;李寰 -专利权人：北京清华阳光能源开发有限责任公司;北京清华阳光太阳能设备有限责任公司
申请日： 2006-01-26 - 公布日： 2007-06-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种三靶磁控溅射镀膜机，属于磁控溅射真空镀膜机设备，主要用于各种涂层的沉积，特别是太阳选择性吸收涂层的沉积。本实用新型包括真空室、屏蔽板和三根圆柱靶，其特征在于三根圆柱靶呈一字形排列在真空室内，并平行于真空室门，相邻的圆柱靶之间有屏蔽板。这种结构的镀膜机，在功能不变的前提下，提高涂层溅射效率和生产效率，并且易于更换和维修。
一种磁控溅射镀膜