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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]真空处理装置-CN200810185777.4有效
发明人：志村昭彦;近藤裕志;锅山裕树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-09-01 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可以可靠地防止水分混入真空处理室中的真空处理装置。具有阀体(31a、31b)的闸阀(30a、30b)分别以双层配置在真空处理室(10)和负载锁定室(20)之间。此外，流导不同的三根排气管(21、22、23)与负载锁定室(20)连接，通过开闭阀(62、63、64)，分别与真空泵(60)连接。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200610128913.7有效
发明人：志村昭彦;近藤裕志;锅山裕树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-09-01 - 公布日： 2007-03-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可以可靠地防止水分混入真空处理室中的真空处理装置。具有阀体(31a、31b)的闸阀(30a、30b)分别以双层配置在真空处理室(10)和负载锁定室(20)之间。此外，流导不同的三根排气管(21、22、23)与负载锁定室(20)连接，通过开闭阀(62、63、64)，分别与真空泵(60)连接。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200710188069.1有效
发明人：曹生贤 -专利权人： IPS株式会社
申请日： 2007-11-23 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开的是能够用于液晶(LCD)面板或晶片在诸如玻璃基片上执行刻蚀或沉积处理的真空处理装置。该真空处理装置，包括：在其内部形成用于真空处理的处理空间，以及形成在腔体一侧或更多侧用于将基片放入取出腔体的门，其中通过切除门的面对着处理空间的棱角的至少一部分，在门的面对上述处理空间一侧的至少一部分棱角上形成棱角去除部
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200710188367.0有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200710188366.6有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖彼此相互连接，用上盖和下盖之间形成的空隙组成真空处理空间，一腔体密封单元通过密封或解封空隙来密封和解封真空处理单元；以及一空隙保持单元用来维持空隙，该空隙保持单元安装在上盖和下盖上。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200510054822.9有效
发明人：石桥启次;田中雅彦;熊谷晃;池本学;汤田克久 -专利权人：安内华股份有限公司
申请日： 2005-03-17 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的课题为，对于利用具有游离基通过的多个贯通孔的隔壁板将真空反应室内分离成等离子体放电空间和基板处理空间、在等离子体放电空间中产生的游离基通过隔壁板的前述多个贯通孔导入基板处理空间、对配置在基板处理空间中的基板进行处理的装置
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200510087362.X有效
发明人：田口竜大 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2005-07-28 - 公布日： 2006-02-15 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种真空处理装置，可谋求真空处理装置的基片移送工程的单纯化。真空处理装置(10)包括负载/卸载室(11)、真空预备加热室(12)及处理室(13)。在真空预备加热室(12)中，设置有正向移送机构(22)、反向移送机构(32)及将基片(W)进行加热的加热器(H)。加热器(H)在正向移送机构(22)侧设置有1个。正向移送机构(21、22)将基片(W)沿正向进行移送，反向移送机构(31、32)将处理完成的基片(W)沿反向进行移送。负载/卸载室(11)为可将大气开放和真空密闭进行切换的室，从负载/卸载室(11)投入基片(W)，并经由移送动作(x2～x5)回收基片(W)。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200610001041.8有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2006-08-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200510132164.0有效
发明人：新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-12-22 - 公布日： 2006-07-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在真空搬送腔室的内部配置有润滑脂供给机构，该润滑脂供给机构包括：在内部收容有润滑脂的有底筒状的润滑脂收容部；和闭塞润滑脂收容部的开口而配置的、能够与润滑脂收容部的内壁滑动移动的盖体。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201680074016.4有效
发明人：中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。本发明的真空处理装置（1）具有形成有单一的真空气氛的真空槽（2）；第1以及第2处理区域（4、5），设置于真空槽（2）内，具有在基板（10）的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送驱动部件（33），构成以通过第1以及第2处理区域（4、5）的方式输送基板（10）的输送路径。该输送路径以相对于下述平面（铅垂面）投影时为一连串的环状的方式形成，该平面包括输送的基板（10）的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过第1以及第2处理区域（4、5）时基板（10）的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201910213184.2有效
发明人：川又由雄 -专利权人：芝浦机械电子装置株式会社
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种可抑制反应气体的泄漏的真空处理装置及托盘。本发明的真空处理装置包括：腔室(20)，可将内部设为真空；旋转平台(31)，设置于腔室(20)内，以将旋转平台(31)的旋转轴心设为中心的圆周的轨迹而循环搬送工件(W)；多个托盘(1)，搭载于旋转平台(31)，并载置工件(W)；以及处理部，将反应气体(G)导入至通过旋转平台(31)而搬送的工件(W)的周围，并利用等离子体进行规定处理；并且处理部具有:在和托盘(1)的与处理部相向的面之间，空开能够供载置于托盘(1)的工件(W)经过的间隔，并沿着旋转平台(31)的径方向配置的屏蔽构件(8)、屏蔽构件(58)，多个托盘(1)的相向于处理部的面具有沿圆周的轨迹连续且成为同一平面的部分。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201880036045.0有效
发明人：松崎淳介;高桥明久;水岛优 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，效率良好地对基板的两个表面进行处理，实现装置的小型化以及构成的简单化。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201980086821.2有效
发明人：藤井佳词 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2019-07-23 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种不会损害可冷却真空室内设置的防附着板这一功能，并可实施防附着板的烘烤处理的真空处理装置。具有真空室(1)并对该真空室中安装的被处理基板(Sw)实施规定的真空处理的本发明的真空处理装置(SM)，在真空室内设置防附着板(82)，真空处理装置(SM)还具有：金属材质的块体(9)，其竖立设置在真空室的下壁内表面冷却装置(11)，其冷却块体；加热装置(10)，其配置在防附着板的一部分和块体之间并可通过热辐射加热防附着板，彼此相对设置的块体和防附着板的表面部分分别由通过对这些块体和防附着板的母材金属分别实施表面处理而增加了辐射率的高辐射率层
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201980024156.4有效
发明人：高木大;水岛优;小泉敏行 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在真空处理装置中抑制在运送基板保持器时产生粉尘的技术，所述真空处理装置，具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径，并沿着该运送路径运送多个基板保持器。在本发明中，在具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径并形成有单一的真空环境气体的真空槽2内，具有安装在第一驱动部36上的防下垂构件35，第一驱动部36设置在该运送路径的相对于运送方向的外侧
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201980064174.5有效
发明人：藤井佳词 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2019-07-23 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供一种真空处理装置，其在真空室内用热板将台架上设置的被处理基制在比室温高的规定温度的同时实施真空处理的情况下，可尽量抑制例如导致薄膜劣化这类对真空处理的不良影响。台架(4)具有基台(41)和设置在该基台上可加处理基板(Sw)的热板(43)，还包括留出规定间隙地围绕该热板的金属材质的盘(7)和防着板(8)。与热板相对的盘形环的表面部分采用通过在其基材金属上实面处理而降低了辐射率的低辐射率层(73)构成。
真空处理装置

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