“理气”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果18224个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]热处理装置和热处理方法-CN200380102592.8无效
发明人：藤田武彦;冈田充弘;梅泽好太;长谷部一秀;坂本浩一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-10-29 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的热处理装置配备：保持多个基板的保持器；搬入所述保持器的反应容器；把处理气体供给所述反应容器的处理气体供给机构；和在所述处理气体供给时，对所述反应容器加热，对基板施以成膜处理的加热机构，使在一批量处理中预定处理的基板枚数数据与所述处理气体的流量参数目标值数据对应的流量参数表数据储存在流量参数表数据存储部内控制机构根据在一批量处理中预定处理的基板实际枚数，基于在所述流量参数表数据存储部内储存的流量参数表数据，得到所述处理气体流量参数目标值数据，并遵从该目标数据，控制所述处理气体供给机构。
热处理装置方法

[发明专利]一种可疏理气机的橘皮竹茹汁-CN201510247036.4无效
发明人：徐润平 -专利权人：徐润平
申请日： 2015-05-15 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： A61K36/9068 文献下载
摘要：本发明公开了一种可疏理气机的橘皮竹茹汁，是将橘皮8-12，竹茹6-10，生姜3-6，红枣3-6以原料总量两倍量的水煎煮，过滤去渣，装罐，密封即成。本发明饮料、价格低廉、服用方便；具有疏理气机，暖胃理气，舒缓膈肌的功效。
一种疏理竹茹

[发明专利]一种理气消胀散组合物-CN202110065695.1在审
发明人：刘凤斌;陈斌;李培武;杨云英;庄昆海;潘静琳;朱朝阳;何龙;杨晓军;熊文生;米红;江其龙 -专利权人：广州中医药大学第一附属医院
申请日： 2021-01-18 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： A61K36/8905 文献下载
摘要：本发明提供了一种理气消胀散组合物，所述理气消胀散组合物包括以下重量份的组分：255～275份的枳壳、16～20份的木香、85～93份的沉香、85～93份的丁香、255～275份的醋香附、128～138份的麻黄和本发明的理气消胀散组合物组方精当，用药简单，药材常见，药性平和。本发明的理气消胀散组合物将各组分搭配后，其中木香、枳壳行气调中，理气消胀，沉香、丁香味芳香，善行气止痛，温中降逆，香附行气活血，麻黄、桂枝解表以利于药物透皮吸收。
一种理气消胀散组合

[发明专利]提升物理气相沉积反应炉良率的方法-CN202111212550.6在审
发明人：杨孟;刘飞;游志聪 -专利权人：东莞美景科技有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明公开了提升物理气相沉积反应炉良率的方法，包括以下步骤：对物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板和挡板进行喷砂清洁及粗化；将金属颗粒或粉末经金属喷涂技术喷涂在经过喷砂清洁的物理气相沉积反应炉的内壁、遮覆板的外表面和挡板的外表面上，并分别形成物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层；当所述物理气相沉积的内壁金属喷涂层、遮覆板外表面金属喷涂层和挡板外表面金属喷涂层累积金属镀膜到一定程度后，去除金属镀膜
提升物理沉积反应炉方法

[发明专利]保护功函数金属层的方法-CN202210097271.8在审
发明人：王诗昊;王莎莎;席晓阳 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种保护功函数金属层的方法，提供衬底和物理气相沉积机台，衬底上形成有功函数金属层；将物理气相沉积机台的偏压电源设置为零，之后利用物理气相沉积机台在功函数金属层上淀积第一保护层；提供偏置电压，偏置电压用于增加物理气相沉积机台形成的溅射原子的能量；偏压电源采用偏置电压，之后利用物理气相沉积机台在第一保护层上形成第二保护层。
保护函数金属方法

[发明专利]基片处理设备及处理方法-CN202310287020.0在审
发明人：李翔;赵昂璧;糜珂 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：基片处理设备包括腔体以及容置在腔体内的多个单元气室，多个单元气室上对应开设有开口，单元气室内分别通入有处理气体，当待沉积基片穿过开口在多个单元气室间移动时，每个单元气室内的处理气体均可对待沉积基片进行处理；腔体内通入有隔离气体，隔离气体不与处理气体发生反应，隔离气体用以阻止处理气体通过开口溢出。本申请所提供的基片处理设备，通过将多个彼此独立的单元气室容置在腔体内，使得各个单元气室内的处理气体无法相互接触而发生反应，从而避免在腔体内产生积粉。
处理设备方法

[发明专利]具有提供清洁气体的清洁气体系统的化学气相沉积炉-CN202210773838.9在审
发明人： D.皮埃罗;T.G.M.奥斯特拉肯;H.特霍斯特;L.吉迪拉;B.琼布罗德 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：处理室内的处理气体注射器设置有多个竖直间隔的气体注射孔，以将在处理气体注射器的内部中的进给端引入的气体提供给处理室。连接到处理气体注射器的进给端的阀系统构造和布置成将硅前体和氮前体的源连接到进给端，用于沉积氮化硅层。阀系统可以将处理气体注射器的进给端连接到清洁气体系统以提供清洁气体，从而从处理气体注射器和/或处理室去除氮化硅。
具有提供清洁气体系统化学沉积

[发明专利]旋风集尘装置及使用旋风集尘装置的集尘方法-CN202280013530.2在审
发明人：川岛知之;小林祥大;小泽典子 -专利权人：杰富意钢铁株式会社
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B04C3/00 文献下载
摘要：旋风集尘装置1从包含粉尘DT的被处理气体TG对粉尘DT进行集尘，前述旋风集尘装置具备：以横向为回旋轴使被处理气体TG回旋，将粉尘从被处理气体TG分离的粉尘分离部3；连结于粉尘分离部3的出口侧，对通过由粉尘分离部3引起的被处理气体TG的回旋而分离的粉尘DT进行回收的粉尘回收部4；和入口设置于粉尘回收部4内，对分离粉尘DT后的被处理气体TG进行回收的气体回收部5，从粉尘分离部3的出口至气体回收部5的入口的距离L与粉尘分离部
旋风集尘装置使用方法

[发明专利]薄膜形成方法和用于形成含硅绝缘膜的装置-CN200910126757.4有效
发明人：长谷部一秀;中岛滋;小川淳 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-02-01 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： C23C16/22 文献下载
摘要：在可选择性地供给包含二异丙基氨基硅烷气体的第一处理气体和包含氧化气体或氮化气体的第二处理气体的处理区域内，通过CVD在被处理基板上形成含硅绝缘膜。为此，重复进行多次交替地包括第一工序和第二工序的循环。第一工序进行第一处理气体的供给，在被处理基板的表面形成含硅吸附层。第二工序进行第二处理气体的供给，氧化或氮化在被处理基板表面上的吸附层。第二工序包括在已利用激励机构将第二处理气体激励的状态下供向处理区域的激励期间。
薄膜形成方法用于绝缘装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201710192799.2有效
发明人：吉田武史 -专利权人：株式会社昭和真空
申请日： 2017-03-28 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：原料气体供给部用于成膜处理，向成膜室(10)供给含有成膜成分的原料气体，第二气体配管(90)用于成膜处理，将与原料气体不同的处理气体从蓄存该处理气体的处理气体蓄存部向成膜室(10)供给。控制部在从原料气体供给部向成膜室(10)供给原料气体期间，以使处理气体在第二气体配管(90)中流动而从处理气体蓄存部向成膜室(10)供给的方式进行控制。
装置方法

[发明专利]垃圾中转站完成处理气体处理方法及存储介质-CN201910760275.8有效
发明人：梅亚宏;朱福新;周国庆;王均林;朱兆平 -专利权人：江苏生久环境科技有限公司
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种垃圾中转站完成处理气体处理方法及存储介质，涉及气体处理的技术领域，解决了恶臭气体处理后未达到排放标准，直接将未达标气体输送至入口处对未达标气体再处理，导致恶臭气体处理效率低的问题，其包括：获取完成处理气体中当前气体种类信息以及与当前气体种类信息相对应的当前气体浓度信息；根据当前气体浓度信息与对应的所预设的基准气体浓度信息的比较情况获取当前超标气体种类信息；根据当前超标气体种类信息将完成处理气体输送至对应的处理设备中再次循环处理本发明具有对未达标的完成处理气体输送至对应的处理设备处理，提高了未达标完成处理气体处理效率的效果。
垃圾中转站完成处理气体方法存储介质

[发明专利]用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置及其方法-CN201110257345.1无效
发明人：周军;傅昶 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-09-01 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，所述物理气相沉积腔室包括靶和磁体，所述靶具有有效表面，用以溅射靶材料，用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置包括：侦测器，用以测量所述靶消耗的厚度值本发明还提供了一种用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定的方法，通过侦测器的测量以及位置控制元件的调整，增强了靶材材料在物理气相沉积过程中沉积速率的稳定性，使整个工艺过程的可控性更高。
用于物理沉积磁场强度稳定装置及其方法

[实用新型]一种物理气相沉积炉-CN202121536975.8有效
发明人：董家海 -专利权人：浙江诺华陶瓷有限公司
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本实用新型涉及气相炉设备技术领域，更具体的说是一种物理气相沉积炉。本实用新型提供一种物理气相沉积炉，其有益效果为可以实现对工作的气相沉积炉进行温度测量，从而确保气相炉内的温度为加工的适宜温度。一种物理气相沉积炉，包括气相炉、抽气口、气孔和温度传感器，气相炉上设置有进气口，气相炉上设置有气孔，温度传感器与气相炉外壁接触。一种物理气相沉积炉还包括盛放板，多个盛放板均固定连接在气相炉内部。一种物理气相沉积炉还包括盛放槽，多个盛放板上均设置有盛放槽。
一种物理沉积

[发明专利]用于输送辅助材料的方法和辅助材料受料容器-CN200880111970.1有效
发明人：延斯·霍尔茨海默;迪特马尔·威兰 -专利权人：杜尔系统有限公司
申请日： 2008-07-04 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： B05B15/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将新鲜辅助材料输送到至少一个过滤装置(132)内的方法，在未处理气流通过至少一个用于从未处理气流中分离过喷材料的过滤件(172)之前，将该辅助材料加入含有过喷湿漆的未处理气流(120)内，过滤装置(132)包括至少一个辅助材料受料容器(176)，在未处理气流(120)通过过滤件(172)期间，辅助材料受料容器(176)处于工作位置上，该方法使未处理气流更好地加载辅助材料并向至少一个过滤装置内特别有效地输送新鲜辅助材料
用于输送辅助材料方法容器

[发明专利]杀菌方法和杀菌装置-CN200580028850.1有效
发明人：羽柴智彦;川村幸嗣 -专利权人：生命媒介株式会社;羽柴智彦
申请日： 2005-08-10 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： A61L2/20 文献下载
摘要：其使含有HCHO的处理气体充满处理室内，对处理室内的杀菌处理对象进行杀菌处理。此时，一边将处理室内保持在规定温度T1，一边对处理室内供给处理气体，将杀菌处理对象在处理气体中仅暴露规定时间h1后，停止对处理室内供给处理气体，在处理室内残存处理气体的状态下，使处理室内的温度上升到比规定温度
杀菌方法装置

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top